亚脲基添加剂、其用途和制备方法技术

本发明专利技术涉及亚脲基添加剂；用于其制备的方法；所述亚脲基添加剂有利地作为金属或金属合金沉积组合物中、优选地铜或铜合金沉积组合物中的添加剂、更优选地作为其中的调平剂和/或抑制剂的用途；包含所述亚脲基添加剂的金属或金属合金沉积组合物和此组合物的用途；用于将金属或金属合金层、优选地铜或铜合金层电解沉积于衬底的至少一个表面上的方法和由上文金属或金属合金沉积组合物形成的金属或金属合金层。举例来说，在铜电镀的情况下，尤其在填充凹部时，所述亚脲基添加剂允许不含空隙的极平坦的铜沉积物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】亚脲基添加剂、其用途和制备方法
本专利技术涉及：亚脲基添加剂；用于其制备的方法；所述亚脲基添加剂宜作为金属或金属合金沉积组合物中、优选地铜或铜合金沉积组合物中的添加剂、更优选地作为其中的抑制剂和/或调平剂的用途；包含所述亚脲基添加剂的金属或金属合金沉积组合物和此组合物的用途；用于将金属或金属合金层、优选地铜或铜合金层电解地沉积于衬底的至少一个表面和由以上金属或金属合金沉积组合物形成的金属或金属合金层上的方法。
技术介绍
金属和金属合金(金属电镀)的湿式化学沉积广泛用于制造装饰性和功能性涂层的各种行业。大量金属和金属合金可由此形成于各种衬底上。电子和半导体行业中备受关注的为铜电镀。铜因其较高导电性和相对较低价格而用于这些行业。铜常常通过电解铜沉积用于构建导线，此为快速且有成本效益的。用于铜电解沉积的电镀浴尤其用于制造印刷电路板和IC衬底，其中如沟槽、通孔(TH)、盲微穿孔(BMV)和柱状凸块的精细结构需要用铜来填充或构建。此铜电解沉积的另一应用为填充例如硅穿孔(TSV)的凹陷结构，且在半导体衬底中和上双镶嵌电镀或形成重布层(RDL)和柱状本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种亚脲基添加剂，其包含至少一个由式(I)表示的结构单元/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180109 EP 18150785.61.一种亚脲基添加剂，其包含至少一个由式(I)表示的结构单元



其中
A1和A2独立地选自由以下组成的群组：寡聚(氧基烷二基)和聚(氧基烷二基)；
B1和B2独立地为烷二基；
R11、R12、R13和R14独立地选自由以下组成的群组：氢、烷基和芳基；且
X选自由以下组成的群组：
-由式(II)表示的结构单元



其中
R21、R22、R23和R24独立地选自由以下组成的群组：烷基和芳基；且
Y21选自由以下组成的群组：烷二基、烷二基氧基烷二基、烷二基寡聚(氧基烷二基)和烷二基聚(氧基烷二基)；
-由式(III)表示的结构单元



其中
R31、R32、R37和R38独立地选自由以下组成的群组：烷基和芳基；
R33、R34、各R35和各R36独立地选自由以下组成的群组：氢、烷基和芳基；
Y31和Y33独立地为烷二基；
各Y32独立地选自由以下组成的群组：烷二基、烷二基氧基烷二基、烷二基寡聚(氧基烷二基)和烷二基聚(氧基烷二基)；且
a为选自由以下组成的群组的整数：0、1、2和3；
-由式(IV)表示的结构单元



其中
R41、R42、R43和R44独立地选自由以下组成的群组：烷基和芳基；
Z由下式(Z1)到(Z3)中的一个表示



其中
Yz11和Yz12独立地为烷二基；
Az11独立地选自由以下组成的群组：寡聚(氧基烷二基)和聚(氧基烷二基)；
Bz11独立地选择为烷二基；
Rz11选自由以下组成的群组：烷基和芳基；
Rz12和Rz13独立地选自由以下组成的群组：氢、烷基和芳基；
Lz11选自由以下组成的群组：氢、烷基和芳基；



其中
Ar为芳香族基；
Yz21、Yz22和各YZ23独立地为烷二基；
各Az21独立地选自由以下组成的群组：寡聚(氧基烷二基)和聚(氧基烷二基)；
各Bz21独立地选择为烷二基；
各Rz21和各Rz22独立地选自由以下组成的群组：烷基和芳基；
各Rz23和各Rz24独立地选自由以下组成的群组：氢、烷基和芳基；
各Lz21独立地选自由以下组成的群组：氢、烷基和芳基；
z2为选自1和2的整数；
和



其中
Yz31、Yz32、Yz33和各Yz34独立地为烷二基；
各Az31独立地选自由以下组成的群组：寡聚(氧基烷二基)和聚(氧基烷二基)；
各Bz31独立地选择为烷二基；
Rz31、Rz32、Rz33、各Rz36和各Rz37独立地选自由以下组成的群组：氢、烷基和芳基；
各Rz34和各Rz35独立地选自由以下组成的群组：烷基和芳基；
各Lz31独立地选自由以下组成的群组：氢、烷基和芳基；
z3为选自1和2的整数；
-由式(V)表示的结构单元



其中
各R51和各R52独立地选自由以下组成的群组：烷基和芳基；
Y51、Y52和Y53中的每一个独立地为烷二基；
c选自0和1；
d1为由数学方程式d1＝(1-c)表示的整数；
d2为由数学方程式d2＝(1-c)表示的整数；和
且
-由式(VI)表示的结构单元



其中
Y61选自由以下组成的群组：烷二基和烷二基-脲二基-烷二基。


2.根据权利要求1所述的亚脲基添加剂，其特征在于A1、A2、Az11、Az21和Az31独立地由下式(A-1)表示



其中各Rb选自由以下组成的群组：氢、烷基和芳基；优选地选自氢和C1-C4-烷基；更优选地选自氢和甲基；
b为范围介于3到100、优选地5到75、更优选地7到50的整数。


3.根据前述权利要求中任一权利要求所述的亚脲基添加剂，其特征在于B1、B2、Bz11、Bz21和Bz31独立地为C1-C8-烷二基、优选地C2-C6-烷二基、更优选地C2-C4-烷二基，其甚至更优选地选自由以下组成的群组：乙烷-1,2-二基和丙烷-1,3-二基；其最优选地为乙烷-1,2-二基。


4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的亚脲基添加剂，其特征在于其包含键联到A1的封端基团L11和/或键联到A2的封端基团L12，其中所述封端基团L11和/或L12独立地选自由以下组成的群组：氢、烷基和芳基；L11和/或L12优选地独立地为烷基、更优选地C1-C4-烷基、甚至更优选地C1-C2-烷基、仍甚至更优选地甲基。


5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的亚脲基添加剂，其特征在于R11、R12、R13、R14、R33、R34、R35、R36、Rz12、Rz13、Rz23、Rz24、Rz31、Rz32、Rz33、Rz36和Rz37独立地选自由以下组成的群组：氢和C1-C4-烷基；更优选地其为氢。


6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的亚脲基添加剂，其特征在于R21、R22、R23、R24、R31、R32、R37、R38、R41、R42、R43、R44、R51、R52、Rz11、Rz21、R...

【专利技术属性】
技术研发人员：O·博尔顿，S·阿克曼，J·阿道夫，吴隽，N·霍夫曼，H·布伦纳，
申请(专利权)人：德国艾托特克公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE