【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制作方法、显示装置
本公开涉及但不限于显示
,特别涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
微型有机发光二极管(MicroOrganicLight-EmittingDiode,简称Micro-OLED)是近年来发展起来的微型显示器,硅基OLED是其中一种。硅基OLED不仅可以实现像素的有源寻址,并且可以实现在硅基衬底上制备包括时序控制(TCON)电路、过电流保护(OCP)电路等多种功能电路,有利于减小系统体积,实现轻量化。硅基OLED采用成熟的互补金属氧化物半导体(ComplementaryMetalOxideSemiconductor,简称CMOS)集成电路工艺制备,具有体积小、高分辨率(PixelsPerInch,简称PPI)、高刷新率等优点,广泛应用在虚拟现实(VirtualReality,简称VR)或增强现实(AugmentedReality,简称AR)近眼显示领域中。
技术实现思路
本公开提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置,可以减少后续制程对有机发光层的影响,提 ...
【技术保护点】
1.一种显示基板,其特征在于,包括:衬底基板以及设置在所述衬底基板上的像素定义层、发光结构层、功能层和彩膜层;/n所述彩膜层包括:多个滤光片;相邻滤光片在所述衬底基板上的正投影部分重叠,所述像素定义层在衬底基板上的正投影覆盖所述相邻滤光片的重叠部分在衬底基板上的正投影;/n所述功能层位于所述发光结构层和所述彩膜层之间,且在所述衬底基板上的正投影与相邻滤光片的重叠部分至少部分重叠。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种显示基板,其特征在于,包括:衬底基板以及设置在所述衬底基板上的像素定义层、发光结构层、功能层和彩膜层;
所述彩膜层包括:多个滤光片;相邻滤光片在所述衬底基板上的正投影部分重叠,所述像素定义层在衬底基板上的正投影覆盖所述相邻滤光片的重叠部分在衬底基板上的正投影;
所述功能层位于所述发光结构层和所述彩膜层之间,且在所述衬底基板上的正投影与相邻滤光片的重叠部分至少部分重叠。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:位于所述发光结构层和所述彩膜层之间的封装层;
所述封装层包括:第一无机封装层、第二无机封装层和第三有机封装层;
所述第一无机封装层位于所述第二无机封装层靠近所述衬底基板的一侧;
所述第三有机封装层位于所述第二无机封装层远离所述衬底基板的一侧;
所述第一无机封装层的制作材料包括:氮化硅;所述第二无机封装层的制作材料包括:氧化硅;所述第三有机封装层的制作材料包括:聚对二甲苯;所述第三有机封装层的厚度为4500纳米至5500纳米。
3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述功能层为单层结构,且为面状结构;
所述功能层位于所述第一无机封装层和所述第二无机封装层之间,或者,位于所述第二无机封装层和所述第三有机封装层之间;
所述功能层为透明膜层;
所述功能层的制作材料包括:掺杂有增塑剂、稳定剂和紫外光吸收剂的聚氯乙烯或者二氧化钛纳米线。
4.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述功能层为多层结构,所述功能层包括:第一功能层和第二功能层;
所述第一功能层位于所述第一无机封装层和所述第二无机封装层之间,所述第二功能层位于所述第二无机封装层和所述第三有机封装层之间;
所述第一功能层和所述第二功能层均为透明膜层;
所述第一功能层的制作材料包括:掺杂增塑剂、稳定剂和紫外光吸收剂的聚氯乙烯或者二氧化钛纳米线;
所述第二功能层的制作材料包括:掺杂增塑剂、稳定剂和紫外光吸收剂的聚氯乙烯或者二氧化钛纳米线。
5.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述第一功能层和所述第二功能层为网格状结构;
所述第一功能层包括:第一走线以及由所述第一走线围绕而成的多个第一开口区域;所述第二功能层包括:第二走线以及由所述第二走线围绕而成的多个第二开口区域;
所述多个第一开口区域在衬底基板上的正投影与所述多个第二开口区域在衬底基板上的正投影不存在重叠区域。
6.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述像素定义层在衬底基板上的正投影覆盖所述第一走线或所述第二走线在衬底基板上的正投影;
所述第一走线或所述第二走线在衬底基板上的正投影与所述相邻滤光片的重叠部分至少部分重叠。
7.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述第一功能层为网格状结构,所述第二功能层为面状结构;
所述第一功能层包括:第一走线以及由所述第一走线围绕而成的多个第一开口区域;所述像素定义层在衬底基板上的正投影覆盖所述第一走线在衬底基板上的正投影;所述第一走线在衬底基板上的正投影与所述相邻滤光片的重叠部分至少部分重叠;
或者,所述第一功能层为面状结构,所述第二功能层为网格状结构;
所述第二功能层包括:第二走线以及由所述第二走线围绕而成的第二开口区域;所述像素定义层在衬底基板上的正投影覆盖所述第二走线在衬底基板上的正投影;所述第二走线在衬底基板上的正投影与所述相邻滤光片的重叠部分至少部分重叠;
或者,所述第一功能层和所述第二功能层为面状结构。
技术研发人员:刘文祺,孙中元,薛金祥,闫华杰,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。