【技术实现步骤摘要】
一种环形微波等离子体谐振腔
本专利技术涉及等离子体谐振腔,具体涉及一种环形微波等离子体谐振腔。
技术介绍
PCVD(MicrowaveActivatedPlasmaChemicalVaporDeposition,微波激活等离子体化学气相沉积)工艺是制备光纤预制棒芯棒的主要工艺之一。由于微波等离子体具有能量大、活性强、激发的等离子体密度高、工作稳定、无电极污染等优点,非常适合光纤预制棒的沉积。在低压状态下,由于高频率的微波的作用,进入石英反应管的原料气体(主要为SiCl4,GeCl4,POCl3,O2以及C2F6等)部分被电离成活化的等离子体状态,这些活性离子能快速地发生反应,反应产物并以玻璃态沉积在管壁内表面上。因其微波等离子体谐振腔可快速移动,单层的沉积厚度薄,因而易于制造精细而复杂的折射率剖面。用于激发等离子体化学气相沉积的微波等离子体谐振腔是PCVD沉积机床的核心设备。目前,现有的用于光纤预制棒制造的微波等离子体谐振腔主要有同轴型和圆柱型两种,其中同轴型微波等离子体谐振腔适于加工外径相对较小的石英反应管,圆柱型 ...
【技术保护点】
1.一种环形微波等离子体谐振腔,其特征在于,包括:/n谐振腔壳体(1),其内设有一腔体(11);/n第一截止波导(2),其固定在所述谐振腔壳体(1)的一端,所述第一截止波导(2)包括一收容于所述腔体(11)内的筒体(21),所述筒体(21)与所述谐振腔壳体(1)形成一环形空腔,且所述筒体(21)上设有多条狭缝(22);/n第二截止波导(3),其固定在所述谐振腔壳体(1)的另一端,所述第二截止波导(3)至少部分伸入所述腔体(11)内以与所述筒体(21)相连,并与所述筒体(21)连通形成一用于收容石英反应管(8)的安装孔(4)。/n
【技术特征摘要】
1.一种环形微波等离子体谐振腔,其特征在于,包括:
谐振腔壳体(1),其内设有一腔体(11);
第一截止波导(2),其固定在所述谐振腔壳体(1)的一端,所述第一截止波导(2)包括一收容于所述腔体(11)内的筒体(21),所述筒体(21)与所述谐振腔壳体(1)形成一环形空腔,且所述筒体(21)上设有多条狭缝(22);
第二截止波导(3),其固定在所述谐振腔壳体(1)的另一端,所述第二截止波导(3)至少部分伸入所述腔体(11)内以与所述筒体(21)相连,并与所述筒体(21)连通形成一用于收容石英反应管(8)的安装孔(4)。
2.如权利要求1所述的一种环形微波等离子体谐振腔,其特征在于:所述谐振腔壳体(1)的两端均固定有一第三截止波导(5),两个所述第三截止波导(5)分别套设在所述第一截止波导(2)和第二截止波导(3)上,且两个所述第三截止波导(5)均设有与所述安装孔(4)连通的通孔,每个所述第三截止波导(5)上均设有扼流槽(51)。
3.如权利要求2所述的一种环形微波等离子体谐振腔,其特征在于:所述谐振腔壳体(1)的底端的两侧分别设有一冷却水管(6),两个所述第三截止波导(5)内均设有一与对应的所述冷却水管(6)连通的第一冷却水通道(52)。
4.如权利要求3所述的一种环形微波等离子...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔡冰峰,刘志坚,黄文俊,曾建军,岳静,
申请(专利权)人:烽火通信科技股份有限公司,烽火藤仓光纤科技有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北;42
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