掩膜框架组件以及采用该掩膜框架组件的沉积装置制造方法及图纸

本发明专利技术的一实施例公开一种掩膜框架组件以及采用该掩膜框架组件的沉积装置，所述掩膜框架组件包括：掩膜，配备有用于沉积的图案区域；以及框架，以层叠有相对强磁性层和相对弱磁性层的包覆结构来支撑掩膜。

【技术实现步骤摘要】
掩膜框架组件以及采用该掩膜框架组件的沉积装置
本专利技术涉及一种使用于沉积作业的掩膜框架组件以及采用该掩膜框架组件的沉积装置。
技术介绍
一般，有机发光显示装置利用从阳极和阴极注入的空穴和电子在发光层中复合而发光的原理可以呈现颜色，其中，由在作为阳极的像素电极和作为阴极的对向电极之间插入有发光层的结构构成像素。各个所述像素可以成为例如红色像素、绿色像素以及蓝色像素中的任意一个的子像素(subpixel)，并且可以通过这3种颜色的子像素的颜色组合显示出期望的颜色。即，各个子像素都具有在两个电极之间夹设有发出红色、绿色以及蓝色中的任意一种颜色的光的发光层的结构，并且通过这3种颜色的光的恰当的组合显示出一个单位像素的颜色。如上所述的有机发光显示装置的电极和发光层等可以通过沉积来形成。即，将具有与期望形成的薄膜层的图案相同的图案孔的掩膜排列在基板上，并通过该掩膜的图案孔而将薄膜的原材料沉积到基板，从而形成期望的图案的薄膜。所述掩膜与支撑其端部的框架以及将所述图案孔划分为多个单位单元格图案的长边棒一起大多以掩膜框架组件的形态使用，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜框架组件，其中，包括框架和掩膜，所述掩膜结合于所述框架并具备有用于基板上的沉积的图案区域，/n所述框架包括层叠有相对强磁性层和相对弱磁性层的包覆结构体。/n

【技术特征摘要】
20190207 KR 10-2019-00144401.一种掩膜框架组件，其中，包括框架和掩膜，所述掩膜结合于所述框架并具备有用于基板上的沉积的图案区域，
所述框架包括层叠有相对强磁性层和相对弱磁性层的包覆结构体。


2.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，
所述强磁性层包含因瓦合金材料，所述弱磁性层包含不锈钢材料。


3.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，
所述掩膜结合在所述弱磁性层。


4.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，
所述掩膜具有相对强于所述弱磁性层的磁性。


5.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，还包括：
长边棒，结合于所述框架而将所述掩膜的图案区域划分为单位单元格图案。


6.一种沉积装...

【专利技术属性】
技术研发人员：安鼎铉，文在皙，李丞赈，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR