一种抛光设备空气颗粒尘埃抽排装置及其对应的抽排方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种抛光设备空气颗粒尘埃抽排装置，其确保将空气颗粒尘埃抽排出抛光机时、对抛光盘的划伤率低，提高沉底晶片抛光良品率。其包括抛光设备底座，所述抛光设备底座上布置有定盘转盘，所述定盘转盘上放置有陶瓷盘晶片载体，所述抛光设备底座通过上凸的弧板连接上部安装架，所述上部安装架上设置有若干个下露的抛光转盘，所述抛光转盘用于陶瓷盘晶片载体上的晶片的抛光，所述弧板上开设有至少一个抽排风口，每个所述抽排风口通过抽风管外接抽风动力装置，封闭原有的垂直抽排口。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光设备空气颗粒尘埃抽排装置及其对应的抽排方法
本专利技术涉及抛光机抽排装置的
，具体为一种抛光设备空气颗粒尘埃抽排装置，本专利技术还提供了一种抛光设备空气颗粒尘埃的抽排方法。
技术介绍
目前，市场上销售及实用的抛光机抽排装置，均设计为开口向上并垂直与抛光盘上方，且离工作台盘面约有0.4米高度距离，导致在抽排过程中无法达到有效的去除抛光盘上空气中颗粒，在抽排过程中，颗粒聚集在抽排风口，由抽排风口进入排风管道被排出，较大的颗粒通过抛光中的水的张力附着，增加了空气中颗粒的重量造成失重掉落在抛光盘上，引起抛光过程中划伤不良，影响衬底晶片抛光良品率。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术提供了一种抛光设备空气颗粒尘埃抽排装置，其确保将空气颗粒尘埃抽排出抛光机时、对抛光盘的划伤率低，提高沉底晶片抛光良品率。一种抛光设备空气颗粒尘埃抽排装置，其特征在于：其包括抛光设备底座，所述抛光设备底座上布置有定盘转盘，所述定盘转盘上放置有陶瓷盘晶片载体，所述抛光设备底座通过上凸的弧板连接上部安装架，所述上部安装架上设置有若干个下本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光设备空气颗粒尘埃抽排装置，其特征在于：其包括抛光设备底座，所述抛光设备底座上布置有定盘转盘，所述定盘转盘上放置有陶瓷盘晶片载体，所述抛光设备底座通过上凸的弧板连接上部安装架，所述上部安装架上设置有若干个下露的抛光转盘，所述抛光转盘用于陶瓷盘晶片载体上的晶片的抛光，所述弧板上开设有至少一个抽排风口，每个所述抽排风口通过抽风管外接抽风动力装置，封闭原有的垂直抽排口。/n

【技术特征摘要】
1.一种抛光设备空气颗粒尘埃抽排装置，其特征在于：其包括抛光设备底座，所述抛光设备底座上布置有定盘转盘，所述定盘转盘上放置有陶瓷盘晶片载体，所述抛光设备底座通过上凸的弧板连接上部安装架，所述上部安装架上设置有若干个下露的抛光转盘，所述抛光转盘用于陶瓷盘晶片载体上的晶片的抛光，所述弧板上开设有至少一个抽排风口，每个所述抽排风口通过抽风管外接抽风动力装置，封闭原有的垂直抽排口。


2.如权利要求1所述的一种抛光设备空气颗粒尘埃抽排装置，其特征在于：所述弧板上关于弧板的中垂面对称排布有两个抽排风口。


3.如权利要求1所述的一种抛光设备空气颗粒尘埃抽排装置，其特征在于：每个所述抽排风口的高度位置高于所述定盘转盘的上表面20mm～40mm。


4.如权利要求1所述的一种抛光设备空气颗粒尘埃抽排装置，其特征在于：每根所述抽风管的内端贯穿所述抽排风口后固定、并距离所述定盘转盘的对应表面的水平距离为25mm～35mm。


5.如权利要求4所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：易德福，
申请(专利权)人：江西德义半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36