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本发明提供了一种抛光设备空气颗粒尘埃抽排装置，其确保将空气颗粒尘埃抽排出抛光机时、对抛光盘的划伤率低，提高沉底晶片抛光良品率。其包括抛光设备底座，所述抛光设备底座上布置有定盘转盘，所述定盘转盘上放置有陶瓷盘晶片载体，所述抛光设备底座通过上凸...
该专利属于江西德义半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江西德义半导体科技有限公司授权不得商用。

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