光学测量装置制造方法及图纸

一种光学测量装置，测量一光学组件，其特征在于，该光学测量装置包含： 一基座； 一第一光纤对准器，设置于该基座之上； 一第一光纤，定位于该第一光纤对准器上，随该第一光纤对准器调整而移动； 一第二光纤对准器，设置于该基座之上，且与该第一光纤对准器相对而设； 一第二光纤，定位于该第二光纤对准器上，随该第二光纤对准器调整而移动；以及 一置放台，设置于该第一光纤对准器与该第二光纤对准器之间，以置放该光学组件。（*该技术在2012年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本技术涉及一种光学测量装置，特别是一种测量光学组件所用的光学测量装置。光学组件在制造完成后，通常需经过光学测量装置的测量以确保光学组件的良率。如附图说明图1所示，于一光学测量仪器3中，光学组件4直立置放在展示台31上进行测量，测量的光线经由一第一光纤准直器32射入光学组件4中，通过光学组件4的光线再射入一第二光纤准直器33中，所得的光线传入一光侦测器(未显示于图1)转换成所需的光谱图。现有的光学测量装置为一平置式的测量装置，光学组件直立置于展示台上，使其容易造成倾斜的问题，所测量的值其再现性以及精准度都低。另外，由于置放操作不易，所以需花费较长的时间来更换光学组件，增加制造成本。再者，由于是一平置式装置，所以在一定的区域中，每单位面积的产能较小，并不符合实际上的要求。为实现上述目的，本技术提供一种光学测量装置，测量一光学组件，光学测量装置包含一基座、一第一光纤对准器、一第一光纤、一第二光纤对准器、一第二光纤以及一置放台。其中，第一光纤对准器设置于基座之上；第一光纤定位于第一光纤对准器上，随第一光纤对准器调整而移动；第二光纤对准器设置于基座之上，且与第一光纤对准器相对而设；第二光纤定位于第二光纤对准器上，随第二光纤对准器调整而移动；置放台设置于第一光纤对准器与第二光纤对准器之间，以置放光学组件。与现有技术相比，在本技术中提供一种直立式的光学测量装置，在一定的区域中，每单位面积的产能较大。再者，其具有一漏斗状特征的置放台，让使用者在放置光学组件能够轻易地实施，减少更换的时间。另外，光学组件平置于置放台上，使其定位方便，所测量的精准度、再现性以及重现性较好。另外，进行测量时只需利用置放台的旋转轴来调整光学组件的位置与角度，在进行重复测量时，也可减少操作的时间，进而降低制造成本。图2为本实施例的光学测量装置的示意图。图3为本实施例的第一光纤对准器的示意图。图4为本实施例的第二光纤对准器的示意图。图5为本实施例的置放台的示意图。如图2所示，本技术提供一种光学测量装置1，测量一光学组件2，光学测量装置1包含一基座11、一第一光纤对准器12、一第一光纤13、一第二光纤对准器14、一第二光纤15以及一置放台16。其中，第一光纤对准器12设置于基座11之上；第一光纤13定位于第一光纤对准器12上，随第一光纤对准器12调整而移动；第二光纤对准器14设置于基座11之上，且与第一光纤对准器12相对而设；第二光纤15定位于第二光纤对准器14上，随第二光纤对准器14调整而移动；置放台16设置于第一光纤对准器12与第二光纤对准器14之间，以置放光学组件2。如图3所示，第一光纤对准器12设置于基座11之上。第一光纤对准器12为一二轴位移平台，具有一第一旋转轴121、一第二旋转轴122。其中，第一旋转轴121使第一光纤对准器12沿着X轴移动；第二旋转轴122使第一光纤对准器12沿着Y轴移动，第一旋转轴121与第二旋转轴122也有微调的功能。当然，第一光纤对准器12也可以一四轴位移平台替代。另外，如图3所示，第一光纤13定位于第一光纤对准器12上，随第一光纤对准器12调整而移动。在此，第一光纤13为一双心光纤，同时可为一发射光纤，用以发射一光线；也可为一接收光纤，用以接收一光线。再者，如图4所示，第二光纤对准器14设置于基座11之上，且与第一光纤对准器12相对而设。第二光纤对准器14为一四轴位移平台，具有一第一旋转轴141、一第二旋转轴142、一第三旋转轴143以及一第四旋转轴144。其中，第一旋转轴141使第二光纤对准器14沿着X轴移动；第二旋转轴142使第二光纤对准器14沿着Y轴移动；第三旋转轴143使第二光纤对准器14沿着X轴旋转；第四旋转轴144使第二光纤对准器14沿着Y轴旋转。该等旋转轴均有微调的功能。当然，第二光纤对准器14也可以一二轴位移平台替代。在此，第二光纤15定位于第二光纤对准器14上，随第二光纤对准器14调整而移动。第二光纤15为一双心光纤，同时可为一发射光纤，用以发射一光线；也可为一接收光纤，用以接收一光线。再请参考图5，本实施例的置放台16设置于第一光纤对准器12与第二光纤对准器14之间，以置放光学组件2。在此，置放台16为一具有漏斗形状特征的平台，此特征让使用者能够轻易地将欲测量的光学组件2摆放在置放台16上，减少在置换光学组件2时所花费的时间。另外，由于光学组件2平置于置放台16上，能够减少位移产生的情形，让光学组件2定位容易，增加测量的再现性、重复性以及精确性。当然，置放台16也可以一二轴位移平台替代。如同第二光纤对准器14，置放台16也为一四轴位移平台，具有一第一旋转轴161、一第二旋转轴162、一第三旋转轴163以及一第四旋转轴164。其中，第一旋转轴161使置放台16沿着X轴移动；第二旋转轴162使置放台16沿着Y轴移动；第三旋转轴163使置放台16沿着X轴旋转；第四旋转轴164使置放台16沿着Y轴旋转。在此，该等旋转轴也有微调的功能。如图2所示，本实施例中的第一光纤13、光学组件2与第二光纤15位于一直线上。于本实施例中，某一范围波长的光线由第一光纤13射入置放于置放台16的光学组件2(如高密度多任务分合器，DWDM)，穿透过光学组件2的光线，接着进入第二光纤15中，光线再传入光侦测器(未显示于图2)，最后得到光学组件2的一穿透光谱图。另外，当光线由第一光纤13射入置放于置放台16的光学组件2，光学组件2所反射的光线，再次进入第一光纤13中，该光线再传入光侦测器(未显示于图2)，最后得到光学组件2的一反射光谱图。相同地，光线也可由第二光纤15射入光学组件2中，侦测其穿透光谱以及反射光谱。本实施例中的光侦测器(未显示于图2)用以侦测通过光学组件2的一光线，且分别与第一光纤13以及第二光纤15相连接。在进行测量前，利用第一光纤对准器12以及第二光纤对准器14的旋转轴，可以精确调整光源发射以及接收二端的角度与位置，在进行对准校正之后，即可固定不动，重复进行测量。接着，在进行光学测量时，只需利用置放台16的旋转轴调整光学组件2的位置与角度，而不必再次调整第一光纤对准器12以及第二光纤对准器14，可减少因调整所花费的时间，进而使操作更加方便。于本实施例中，光学测量装置1为一直立式的测量装置。于一定的区域中，每单位面积的产能较大，在实际生产中的利用性也较高。本技术所提供的光学测量装置，为一直立型光学测量装置。与现有技术相比，本技术的置放台具有一漏斗形的特征，能让使用者轻易地将欲测量的光学组件置放于置放台中，能减少在置换光学组件时所花费的时间。另外，平置的光学组件不易造成位移，定位方便，进而增加测量的精确性、重复性以及再现性。再者，本技术在进行测量时只需利用置放台的旋转轴调整光学组件的位置与角度，当进行重复测量时，使其操作容易，也可减少操作的时间。另外，该直立型的特征与平面式光学测量装置相比，还增加了每单位面积的产量，符合实际利用上的要求。上述仅为例示性的，而非为限制性的。任何未脱离本技术的精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包含于本技术的权利要求范围之中。权利要求1.一种光学测量装置，测量一光学组件，其特征在于，该光学测量装置包含一基座；一第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：吕聪杰，陈士恩，黄景宏，
申请(专利权)人：精碟科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：