一种镭雕治具制造技术

本发明专利技术涉及镭雕设备领域，具体公开了一种镭雕治具，该镭雕治具包括治具本体，治具本体内部具有相互隔开的第一真空腔及第二真空腔；第一真空腔及第二真空腔分别连接有至少一个真空放大器；治具本体的顶面开设有用于对待镭雕薄膜进行定位的仿形定位凹槽；仿形定位凹槽的四周及底面开设有多个吸附孔，吸附孔与第一真空腔连通；仿形定位凹槽的底面还开设有多个落料孔，落料孔与第二真空腔连通。该镭雕治具能够实现薄膜平整吸附，并且及时吸走被镭雕掉的废料，避免造成落料孔堵塞。

【技术实现步骤摘要】
一种镭雕治具
本专利技术涉及镭雕设备领域，尤其涉及一种镭雕治具。
技术介绍
现有的电脑键盘用PET薄膜，其外形及内孔均采用镭雕加工。在进行镭雕加工时，通常采用镭雕治具固定PET薄膜。但是，现使用的镭雕治具存在以下问题：定位不精确、不平整；加工过程中薄膜容易变形、扭曲等，从而影响薄膜镭雕精度，产生不良品。另外，不能及时清理镭雕掉的废料，容易造成落料孔堵塞。因此，有必要设计一种镭雕治具，以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种镭雕治具，能够实现薄膜平整吸附，并且及时吸走被镭雕掉的废料，避免造成落料孔堵塞。为了实现上述目的，本专利技术采用如下的技术方案：一种镭雕治具，包括治具本体，所述治具本体内部具有相互隔开的第一真空腔及第二真空腔；所述第一真空腔及所述第二真空腔分别连接有至少一个真空放大器；所述治具本体的顶面开设有用于对待镭雕薄膜进行定位的仿形定位凹槽；所述仿形定位凹槽的四周及底面开设有多个吸附孔，所述吸附孔与所述第一真空腔连通；所述仿形定位凹槽的底面还开设有多个落料孔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镭雕治具，其特征在于，包括治具本体，所述治具本体内部具有相互隔开的第一真空腔及第二真空腔；所述第一真空腔及所述第二真空腔分别连接有至少一个真空放大器；/n所述治具本体的顶面开设有用于对待镭雕薄膜进行定位的仿形定位凹槽；所述仿形定位凹槽的四周及底面开设有多个吸附孔，所述吸附孔与所述第一真空腔连通；所述仿形定位凹槽的底面还开设有多个落料孔，所述落料孔与所述第二真空腔连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种镭雕治具，其特征在于，包括治具本体，所述治具本体内部具有相互隔开的第一真空腔及第二真空腔；所述第一真空腔及所述第二真空腔分别连接有至少一个真空放大器；
所述治具本体的顶面开设有用于对待镭雕薄膜进行定位的仿形定位凹槽；所述仿形定位凹槽的四周及底面开设有多个吸附孔，所述吸附孔与所述第一真空腔连通；所述仿形定位凹槽的底面还开设有多个落料孔，所述落料孔与所述第二真空腔连通。


2.根据权利要求1所述的镭雕治具，其特征在于，所述治具本体包括：
定位板，其上开设有所述仿形定位凹槽及各所述吸附孔；及
隔离板，其与所述定位板的底面连接并形成所述第一真空腔。


3.根据权利要求2所述的镭雕治具，其特征在于，所述定位板的底面开设有第一凹槽，所述隔离板的顶面开设有第二凹槽，所述第一凹槽与所述第二凹槽拼接形成所述第一真空腔。

【专利技术属性】
技术研发人员：李华雄，
申请(专利权)人：汉达精密电子昆山有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32