一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的装置制造方法及图纸

技术编号:25111569 阅读:35 留言:0更新日期:2020-08-01 00:08
本实用新型专利技术公开了一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的装置,包括清洗槽和碱液循环装置,所述清洗槽上设置有进液口和出液口,所述进液口和所述出液口分别与所述碱液循环装置连接,碱液循环装置包括循环泵、线式加热器、气液混合器和臭氧发生器;本实用新型专利技术通过设计碱液循环装置,使内槽的碱液中生成大量臭氧气泡,臭氧气泡与碱液作用产生大量氧化能力更强的羟基自由基(·OH)、氧化羟基自由基(·O

【技术实现步骤摘要】
一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的装置
本技术属于半导体
,具体涉及一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的装置。
技术介绍
硅片是太阳能电池片的载体,在太阳能电池制造工艺中,硅片作为太阳能电池的核心部件,其各项性能参数直接影响太阳能电池片光电转化效率的高低,如器件的性能中反向电流迅速加大及器件失效等,因此硅片的清洗很重要。通过清洗硅片使之达到良好的清洗效果对于提升太阳能电池成品的光电转化效率具有重要的意义。在切割硅片过程中,硅片表面可能沾污的杂质大致可分为三类:(1)油脂、松香、蜡、环氧树脂、聚乙二醇等有机物;(2)金属、金属离子及一些无机化合物;(3)尘埃及其他颗粒等。现有技术中,对硅片的清洗通常采用化学清洗方法,传统的RCA清洗硅片的方法中,涉及氨水、双氧水、氢氧化钾等化学品的使用及排放,对环境造成极大的污染;臭氧清洗方法在硅片清洗领域有广泛应用,使用臭氧清洗硅片方法相较传统的RCA清洗法不仅能够降低生产成本,还降低了有害物质的排放,是一种绿色环保的清洗方法。常见的臭氧清洗方式为在含有盐酸或者氢氟酸的水溶液中通入臭氧,溶解到水中的臭氧本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的装置,其特征在于,包括清洗槽和臭氧气泡发生装置,所述清洗槽中盛有碱液,所述臭氧气泡发生装置在碱液中形成微小气泡。/n

【技术特征摘要】
1.一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的装置,其特征在于,包括清洗槽和臭氧气泡发生装置,所述清洗槽中盛有碱液,所述臭氧气泡发生装置在碱液中形成微小气泡。


2.根据权利要求1所述的一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的装置,其特征在于,还包括碱液循环装置,所述清洗槽上设置有进液口和出液口,所述进液口和所述出液口分别与所述碱液循环装置连接。


3.根据权利要求2所述的一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的装置,其特征在于,所述碱液循环装置包括循环泵和线式加热器,所述循环泵与所述出液口连通,所述线式加热器的一端与所述进液口连通,所述线式加热器的另一端与所述循环泵连通。


4.根据权利要求3所述的一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的装置,其特征在于,所述臭氧气泡发生装置包括臭氧发生器和气液混合器,所述臭氧发生器的出气端与所述气液混合器连接,所述线式加热器通过所述气液混合器与所述进液口连通。


5.根据权利要求4所述的一种含有...

【专利技术属性】
技术研发人员:杜俊霖刘正新孟凡英孙林
申请(专利权)人:中威新能源成都有限公司
类型:新型
国别省市:四川;51

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