氧化物膜形成用涂布剂、氧化物膜的制造方法及金属镀覆结构体的制造方法技术

本发明专利技术提供一种氧化物膜形成用涂布剂、氧化物膜及金属镀覆结构体的制造方法，能够提高涂布剂的稳定性，能够容易地形成与基材的密合性高、能够进行镀覆处理的氧化物膜。氧化物膜形成用涂布剂是液态的涂布剂，必须含有钛原子，选择性含有硅原子及铜原子，钛原子及铜原子的合计与硅原子的比例为1∶0～3∶2。另外，氧化物膜的制造方法具备将该涂布剂涂布在基材上并加热而形成氧化物膜的工序。另外，金属镀覆结构体的制造方法具有在该氧化物膜上形成金属膜的金属膜形成工序和对金属膜进行烧制的烧制工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】氧化物膜形成用涂布剂、氧化物膜的制造方法及金属镀覆结构体的制造方法
本专利技术涉及氧化物膜形成用涂布剂、氧化物膜的制造方法及金属镀覆结构体的制造方法，更具体而言，涉及用于在例如由玻璃/陶瓷、硅基板等构成的基材的表面形成氧化物膜，将其表面金属化而得到金属镀覆结构体的涂布剂及方法。
技术介绍
在基材上镀覆金属的技术被用于以玻璃/陶瓷为基材的细线电路等印刷电子电路的领域，被应用于液晶显示器、半导体装置等电子设备等。作为在基材上镀覆金属的技术，例如使用在非导电性基材的表面涂布由醋酸锌二水合物制作的涂布剂(涂布液)，然后通过烧制来形成氧化锌薄膜，通过镀覆处理在其上形成金属膜，由此对非导电性基材的表面进行改性而进行金属化的技术(专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2016-533429号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，在专利文献1所记载的技术中，难以由醋酸锌二水合物制作稳定的涂布液。另外，即使将涂布液涂布在基材的表面而形成氧化锌薄膜，基材与氧化锌薄膜之间也容易产生鼓包，基材与氧化锌薄膜的密合性低。本专利技术是鉴于这样的实际情况而完成的，其目的在于提供一种氧化物膜形成用涂布剂、氧化物膜及金属镀覆结构体的制造方法，其能够提高涂布剂的稳定性，与基材的密合性高，能够容易地形成能够进行镀覆处理的氧化物膜。用于解决课题的手段本专利技术人等发现，在用于在基材上形成氧化物膜的液态涂布剂中，通过使钛原子和铜原子的合计与硅原子的比例在规定的范围内，能够提高涂布剂的稳定性，并且，容易形成与基材的密合性高、可镀覆处理的氧化物膜，从而完成了本专利技术。(1)本专利技术的第1专利技术是用于在基材上形成氧化物膜的液态涂布剂，其必须含有钛原子，选择性含有硅原子和铜原子，钛原子和铜原子的合计与硅原子的比例为1∶0～3∶2。(2)本专利技术第2专利技术是第1专利技术的氧化物膜形成用涂布剂，其中，所述钛原子和铜原子的合计与所述硅原子的比例为20∶1～7∶3。(3)本专利技术第3专利技术是第1或第2专利技术的氧化物膜形成用涂布剂，其中，进一步含有由水、醇类、酮类、醚类、酯类、芳香族化合物、含氮溶剂中的1种以上构成的溶剂。(4)本专利技术的第4专利技术是第1至第3专利技术中任一项的氧化物膜形成用涂布剂，其中，所述涂布剂用于提高所述基材与金属膜的密合性。(5)本专利技术的第5专利技术是一种氧化物膜的制造方法，其中，所述制造方法具备将第1至第4专利技术中任一项所述的氧化物膜形成用涂布剂涂布在基材上并加热而形成氧化物膜的工序。(6)本专利技术的第6专利技术是一种金属镀覆结构体的制造方法，其中，在基材的表面的至少一部分上隔着氧化物膜形成金属膜，所述制造方法具有：在所述基材的表面上涂布第1～第4专利技术中任一项所述的氧化物膜形成用涂布剂而形成所述氧化物膜的氧化物膜形成工序；在所述氧化物膜上形成金属膜的金属膜形成工序；对所述金属膜进行烧制的金属膜烧制工序。(7)本专利技术的第7专利技术是第6专利技术的制造方法，其中，在所述金属膜形成工序中，使金属附着在赋予在所述氧化物膜的催化剂上而形成所述金属膜。(8)本专利技术第8专利技术是第7专利技术的制造方法，其中，作为所述催化剂，使用铜(Cu)或标准电极电位比铜(Cu)靠正侧的金属元素或它们的化合物。(9)本专利技术的第9专利技术是第8专利技术的制造方法，其中，赋予在所述氧化物膜的所述催化剂的量以金属换算为0.5mg/m2以上。专利技术效果根据本专利技术，能够提供一种氧化物膜形成用涂布剂、氧化物膜及金属镀覆结构体的制造方法，其能够提高涂布剂的稳定性，能够容易地形成与基材的密合性高、能够进行镀覆处理的氧化物膜。另外，根据本专利技术，在对由涂布剂得到的氧化物膜进行镀覆处理而形成金属膜时，能够减少氧化物膜向镀覆溶液的溶出，由此能够使金属膜的形成变得容易，另外，能够带来镀覆溶液的长寿命化。具体实施方式以下说明本专利技术的实施方式，但这些是例示性地示出的，只要不脱离本专利技术的技术思想，当然可以进行各种变形。《关于氧化物膜形成用涂布剂》本专利技术的氧化物膜形成用涂布剂含有(A)选自氧化物和氧化物前体中的至少1种和(B)溶剂。<(A)氧化物、氧化物前体>氧化物膜形成用涂布剂中所含有的氧化物和氧化物前体必须含有钛原子，选择性含有硅原子和铜原子，钛原子和铜原子的原子数的合计与硅原子的原子数之比为1∶0～3∶2的比例。此处，通过使钛原子和铜原子的原子数的合计与硅原子的原子数的比例((钛原子+铜原子)∶硅原子)为3∶2或钛原子和铜原子的合计比此更多的比例，在将该氧化物膜形成用涂布剂涂布在基材上而形成氧化物膜时，能够减小基材与氧化物膜之间的鼓包，由此可提高氧化物膜对基材的密合性。另外，在对氧化物膜进行无电解镀覆时，能够容易地形成金属膜。因此，钛原子和铜原子的原子数的合计与硅原子的原子数的比例优选为3∶2或钛原子和铜原子的合计比此更多的比例(或者使Si原子数/(Ti原子数+Cu原子数)之比为0.66以下)，优选为7∶3或钛原子和铜原子的合计比此更多的比例(或者使Si原子数/(Ti原子数+Cu原子数)之比为0.43以下)。另一方面，本专利技术的氧化物膜形成用涂布剂也可以不含硅原子。但是，通过使钛原子和铜原子的原子数的合计与硅原子的原子数的比例((钛原子+铜原子)∶硅原子)为20∶1或硅原子比此更多的比例，氧化物膜的机械强度提高，因此，特别是在形成空隙多的氧化物膜的情况下，能够抑制由氧化物的断裂引起的基材与金属膜的密合性的降低。另外，通过进一步增加在氧化物膜上形成的催化剂的附着量等，可以进一步提高金属膜对基材或氧化物膜的密合性。因此，优选使钛原子和铜原子的原子数的合计与硅原子的原子数的比例为1∶0或硅原子比此更多的比例(或者使Si原子数/(Ti原子数+Cu原子数)之比大于0)，更优选为20∶1或硅原子比此更多的比例(或者使Si原子数/(Ti原子数+Cu原子数)之比为0.05以上)；进一步优选为10∶1或硅原子比此更多的比例(或者使Si原子数/(Ti原子数+Cu原子数)之比为0.10以上，再进一步优选为7∶1或硅原子比此更多的比例(或者使Si原子数/(Ti原子数+Cu原子数)之比为0.14以上。除了氧化物以外，在本专利技术的氧化物膜形成用涂布剂中还可以含有氧化物前体。作为氧化物前体，可以使用作为对应的氧化物的供给源发挥功能的化合物，可以使涂布剂含有在涂布而使催化剂附着在基材上之前发生反应而形成氧化物的化合物。作为这样的化合物，可以举出金属或硅的可溶性盐，大致可分为有机可溶性盐和无机可溶性盐。其中，作为有机可溶性盐，例如可以举出甲醇盐、乙醇盐、丙醇盐和丁醇盐等醇盐；乙酸盐等羧酸化合物；二醇化合物；多元醇化合物；二酮络合物、羟基酮络合物、羟基羧酸络合物等络合物；它们的水解物等。另外，作为无机可溶性盐，例如可以举出氯化物、溴化物和碘化物等卤化物；硝酸盐。在本专利技术的氧化物膜形成用涂布剂中，特别是通过含有金属醇盐等氧化物前体，能够容易地使氧化本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧化物膜形成用涂布剂，其是用于在基材上形成氧化物膜的液态涂布剂，其中，所述涂布液必须含有钛原子，选择性含有硅原子和铜原子，钛原子和铜原子的合计与硅原子的比例为1∶0～3∶2。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171212 JP 2017-2380571.一种氧化物膜形成用涂布剂，其是用于在基材上形成氧化物膜的液态涂布剂，其中，所述涂布液必须含有钛原子，选择性含有硅原子和铜原子，钛原子和铜原子的合计与硅原子的比例为1∶0～3∶2。


2.根据权利要求1所述的氧化物膜形成用涂布剂，其中，所述钛原子和铜原子的合计与所述硅原子的比例为20∶1～7∶3。


3.根据权利要求1或2所述的氧化物膜形成用涂布剂，其中，所述涂布剂还含有由水、醇类、酮类、醚类、酯类、芳香族化合物、含氮溶剂中的1种以上构成的溶剂。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的氧化物膜形成用涂布剂，其中，所述涂布剂用于提高所述基材与金属膜的密合性。


5.一种氧化物膜的制造方法，其特征在于，所述制造方法具备：将权利要求1～4中任一项所述的氧化物膜形...

【专利技术属性】
技术研发人员：C·科多尼尔，冈部恭平，森田麻美，寺岛佳孝，
申请(专利权)人：株式会社JCU，
类型：发明
国别省市：日本;JP