柔性显示面板及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种柔性显示面板及其制备方法，该制备方法包括：提供刚性基板；在刚性基板上沉积牺牲层薄膜；对牺牲层薄膜进行加氢处理；对牺牲层薄膜远离刚性基板的表面进行粗糙化处理；在粗糙化处理后的牺牲层上制备柔性衬底；在柔性衬底上制备显示器件层；去除刚性基板和牺牲层。通过加氢处理提高了牺牲层内氢原子的含量，增加牺牲层与聚酰亚胺柔性衬底之间的氢键数量，提高了牺牲层和柔性衬底之间的黏结性；通过粗化处理增大了牺牲层与柔性衬底的接触面积，增强了牺牲层和柔性衬底之间的附着力；极大地改善了牺牲层和柔性衬底之间的黏结性，避免了柔性衬底在高温制程中翘曲甚至剥离的风险。

【技术实现步骤摘要】
柔性显示面板及其制备方法
本申请涉及显示领域，尤其涉及一种柔性显示面板及其制备方法。
技术介绍
柔性显示面板凭借其在显示性能、轻薄、可弯曲等方面的独特优势，逐步实现折叠、弯曲甚至卷曲的终端形态，满足了用户日益变化的消费需求，已经发展成为未来显示领域的核心技术。柔性衬底是柔性显示面板重要的组成部分，聚酰亚胺由于其优异的耐热性、低热膨胀系数和尺寸稳定性等优点，成为柔性衬底的首选材料。目前，聚酰亚胺柔性衬底与刚性玻璃基底的分离主要是通过激光剥离(LaserLiftOff，简称LLO)工艺来完成，但在激光剥离工艺中，高能量的激光会使聚酰亚胺的表面炭化，从而使聚酰亚胺柔性衬底受到损伤。在现有技术中，通过在刚性玻璃基底和聚酰亚胺柔性衬底之间引入牺牲层，来降低聚酰亚胺柔性衬底在激光剥离过程中的受损风险，但由于牺牲层与聚酰亚胺的黏结性不理想，导致聚酰亚胺与刚性玻璃基板的附着性差，在高温工艺制程中聚酰亚胺与牺牲层有翘曲甚至脱离的风险。因此，现有柔性显示面板制程中存在牺牲层与聚酰亚胺衬底之间黏结性差的问题，需要解决。r>
技术实现思路
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【技术保护点】
1.一种柔性显示面板的制备方法，其特征在于，包括：/n提供刚性基板；/n在所述刚性基板上沉积牺牲层薄膜；/n对所述牺牲层薄膜进行加氢处理；/n对所述牺牲层薄膜远离所述刚性基板的表面进行粗糙化处理；/n在粗糙化处理后的牺牲层上制备柔性衬底；/n在所述柔性衬底上制备显示器件层；/n去除所述刚性基板和所述牺牲层。/n

【技术特征摘要】
1.一种柔性显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
提供刚性基板；
在所述刚性基板上沉积牺牲层薄膜；
对所述牺牲层薄膜进行加氢处理；
对所述牺牲层薄膜远离所述刚性基板的表面进行粗糙化处理；
在粗糙化处理后的牺牲层上制备柔性衬底；
在所述柔性衬底上制备显示器件层；
去除所述刚性基板和所述牺牲层。


2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述对所述牺牲层薄膜进行氢化处理的步骤，包括：
采用等离子体轰击工艺，对所述牺牲层薄膜进行加氢处理。


3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述对所述牺牲层薄膜远离所述刚性基板的表面进行粗糙化处理的步骤，包括：
采用干刻蚀工艺，对所述牺牲层薄膜进行刻蚀，实现所述牺牲层远离所述刚性基板的表面的粗糙化处理。


4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述牺牲层的材料包括非晶硅、碳化硅、以及氮化镓。


5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在粗糙化处理后的牺牲层上制备柔性衬底的步骤，包括：
将二元酐和二元胺在极性非质子溶剂中低温共聚，得到聚酰胺酸溶液；
在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李林霜，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44