【技术实现步骤摘要】
具有自适应性的抛光头
本专利技术涉及化学机械抛光
，尤其涉及一种具有自适应性的抛光头。
技术介绍
抛光头是化学机械抛光单元的重要组成部分，相关技术的抛光头相当于一个万向节，枢轴组件只能吸收夹片组件与基座之间的上下方向振动，在旋转驱动机构的带动下，枢轴组件相对于基座做高速旋转运动，使得枢轴组件在会出现一定偏转，会产生周向的摆动，存在定心功能不足、自适应性差的问题。为了增强枢轴组件及抛光头的自适应性可以设置诸如橡胶垫圈的缓冲件等以增加枢轴组件的柔性/自适应性，但可能造成枢轴组件与抛光头的其他零部件之间产生摩擦，进而可能产生金属颗粒和/或离子的污染，这些金属颗粒和/或离子的污染可能降低抛光头的维保周期甚至于损伤晶圆。在某些制程中，金属颗粒和/或离子污染往往是难以发现但困扰生产的致命因素。如图9所示，环形凸缘15可能与夹片组件20时间产生磨损从而产生金属颗粒碎屑。换言之，对于枢轴组件及具有该枢轴组件的抛光头而言，增强自适应性的同时意味着可能产生金属摩擦进而加剧金属颗粒和/或离子污染从而影响半导体芯片的良品率。<...
【技术保护点】
1.一种具有自适应性的抛光头，包括枢轴组件、基体及夹片组件，所述枢轴组件由轴体及盘体组成，所述基体上设置有适于与所述轴体配合的轴孔，所述夹片组件上设置有适于与所述盘体配合的凹槽；所述枢轴组件上的轴体与基体上的轴孔配合设置，枢轴组件上的盘体设置在夹片组件上的凹槽内；其特征在于，所述盘体的外周壁设有环形凸缘，所述环形凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁之间设置有由包含塑料或橡胶材料制成的缓冲件，以避免所述凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁之间产生磨损。/n
【技术特征摘要】
1.一种具有自适应性的抛光头，包括枢轴组件、基体及夹片组件，所述枢轴组件由轴体及盘体组成，所述基体上设置有适于与所述轴体配合的轴孔，所述夹片组件上设置有适于与所述盘体配合的凹槽；所述枢轴组件上的轴体与基体上的轴孔配合设置，枢轴组件上的盘体设置在夹片组件上的凹槽内；其特征在于，所述盘体的外周壁设有环形凸缘，所述环形凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁之间设置有由包含塑料或橡胶材料制成的缓冲件，以避免所述凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁之间产生磨损。
2.根据权利要求1所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缓冲件由软质材料制成。
3.根据权利要求1所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缓冲件形成为包覆全部所述凸缘的内凹状的环形圈或者形成为竖直的环形圈。
4.根据权利要求1所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缓冲件由橡胶材料制成并且厚度不超过所述凸缘的厚度。
5.根据权利要求4所述的具有自适应性的抛光头，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵德文，孟松林，王宇，
申请(专利权)人：华海清科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：天津;12
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