【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及干涉测量4贞i或。更具体而言，本专利技术涉及一种通过干涉测量法成像的装置，尤 其是适合于形成断层成像。
技术介绍
现有技术已存在通过干涉测量法进行断层成像的装置，该装置 包4舌干涉测量装置(例如Mimu、 Michelson、 Linnik类型)，在这些 装置内，光源具有微小的相干长度(longueur de coh6rence)，该长度能在大约相千长度的空间的薄层内确定干涉条紋的位置。现有冲支 术中的这些装置由例如图1A、 1B和1C示出。然而，在这些装置内，由于两个臂的其中一个臂穿入4寺成^f象的 物体内，而另一个臂不穿入待成像的物体内，所以在干涉仪的两臂 之间可看到色散。在另一方面可以看到在待成^象的物体处在干涉4义上内物《竟的 聚焦平面与只f应于零光禾呈差(dif伎rence de marche nulle )的平面之间的偏移。此外，如果使用公知的浸没物镜(如图2所示)，光在浸没介质中通过引起前述现象的加重。例如在美国申请US-A-2005/008663中曾7>开了浸没物4竟的佳L 用。该文献7>开了一种4言号的分冲斤方法，该4...
【技术保护点】
一种用于待成像物体的断层成像的装置，包括：具有与待成像物体层的厚度基本相同的相干长度的光源，以及干涉测量成像系统，所述系统至少包括物镜、参照镜（１）以及光束分离装置（２），其特征在于，所述干涉测量系统被设置成使得所述物镜确定在待分析的物体层处的第一聚焦平面以及在所述参照镜处的第二聚焦平面，所述干涉测量成像系统包括至少一个定位于所述第二聚焦平面和所述分离装置之间的第一补偿介质（３ａ，３ｂ），选择所述补偿介质的厚度和光学指数，使得在所述第一聚焦平面和所述分离装置之间的来自所述光源的光束的光程与在所述第二聚焦平面和所述分离装置之间的所述光束的光程基本相同，并且使得在所述第一聚焦平...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：阿诺杜波依斯，阿尔伯特克洛德博卡拉，
申请(专利权)人：国立科学研究中心，
类型：发明
国别省市：FR[法国]
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