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本发明涉及一种用于待成像物体的断层成像装置，该装置包括：具有与待成像物体层的厚度基本相同的相干长度的光源；干涉测量成像系统，该系统至少包括物镜，参照镜以及光束分离装置，其特征在于，所述干涉测量系统被设置成使得所述物镜确定在待分析的物体层处的...
该专利属于国立科学研究中心所有，仅供学习研究参考，未经过国立科学研究中心授权不得商用。

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