一种钝化镀膜系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种钝化镀膜系统，属于太阳能电池制造技术领域，解决了现有系统钝化镀膜时间长、钝化仓和PECVD工艺仓温差大，易于出现碎片的问题。本实用新型专利技术的钝化镀膜系统包括进料仓、抗PID装置、PECVD工艺仓和出料仓；抗PID装置包括气瓶、诱导装置和钝化仓；诱导装置能够在常温下诱发O

【技术实现步骤摘要】
一种钝化镀膜系统
本技术涉及太阳能电池制造
，尤其涉及一种钝化镀膜系统。
技术介绍
目前电池端的抗PID技术主要集中在二氧化硅/氮化硅叠层技术上，这种复合膜的抗PID性能已经得到行业的高度认可。在二氧化硅/氮化硅叠层的制备上，二氧化硅层是重点，其直接影响到组件的抗PID性能，电池外观和转换效率。二氧化硅层的制备有三种方法：一种是利用PECVD技术，对N2O/SiH4电离沉积出二氧化硅层，但这种技术的二氧化硅层致密性差，对石墨舟和炉管损伤严重，还会降低电池的转换效率；第二种是在去PSG设备中增加臭氧氧化装置，对硅片表面进行氧化，形成二氧化硅层，这种技术成本低，工艺简单；第三种是热氧法沉积二氧化硅，热氧法沉积二氧化硅薄膜的效果较好，但是一般需要高温下(600℃～1100℃)进行30min～60min，这样长时间的高温处理会引起少数载流子寿命的降低、磷的再次分布、金属杂质的扩散等问题，这些都将影响太阳能电池的转换效率。同时，目前市场上均要求电池片具有抗PID的性能，现在普遍的做法是在刻蚀后，再用单独的抗PID机台沉积氧化层，单独的抗PI本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种钝化镀膜系统，其特征在于，沿着物料传输方向包括进料仓、用于沉积钝化膜的抗PID装置、PECVD工艺仓和出料仓；/n所述抗PID装置包括用于提供O

【技术特征摘要】
1.一种钝化镀膜系统，其特征在于，沿着物料传输方向包括进料仓、用于沉积钝化膜的抗PID装置、PECVD工艺仓和出料仓；
所述抗PID装置包括用于提供O2或压缩空气的气瓶、用于诱发O2产生O3的诱导装置和钝化仓；所述诱导装置设于所述钝化仓内，能够在常温下诱发O2产生O3。


2.根据权利要求1所述的钝化镀膜系统，其特征在于，所述PECVD工艺仓包括加热区、成膜工艺区和降温区。


3.根据权利要求2所述的钝化镀膜系统，其特征在于，所述加热区内设有电阻丝加热器。


4.根据权利要求1所述的钝化镀膜系统，其特征在于，所述进料仓、所述钝化仓、所述PECVD工艺仓和所述出料仓的仓门上均设有仓门密封圈。


5.根据权利要求1-4任一项所述的钝化镀膜系统，其特征在于，所述进料...

【专利技术属性】
技术研发人员：于义超，陈斌，张俊兵，
申请(专利权)人：晶澳扬州太阳能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32