一种低杂质含量的氢氧化镁悬浮液及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种低杂质含量的氢氧化镁悬浮液的制备方法，包括：配料、旋流除杂、湿法研磨、干燥或浓缩、浆料调配。本发明专利技术的有益效果：氢氧化镁悬浮液的杂质含量低，后续应用中副反应少，效果好；旋流除杂效率超过90%，能够有效去除杂质；脱钙效果稳定，钙脱除率达70~91%，反应时间仅2~4h，悬浮性能好，长时间存放无沉淀现象，稳定、均一。

【技术实现步骤摘要】
一种低杂质含量的氢氧化镁悬浮液及其制备方法
本专利技术涉及氢氧化镁领域，尤其是涉及一种低杂质含量的氢氧化镁悬浮液及其制备方法。
技术介绍
氢氧化镁，白色无定形粉末。别名苛性镁石，轻烧镁砂等，氢氧化镁在水中的悬浊液称为氢氧化镁乳剂，简称镁乳。氢氧化镁是无色六方柱晶体或白色粉末，难溶于水和醇，溶于稀酸和铵盐溶液，水溶液呈弱碱性。在水中的溶解度很小，但溶于水的部分完全电离，饱和水溶液的浓度为1.9毫克/升(18℃)。氢氧化镁的天然矿物水镁石，因氢氧化镁在大自然含量比较丰富，而其化学性质和铝较相近，因此使用者开始用氢氧化镁来取代氯化铝用于香体产品。主要用做分析试剂、制药工业、阻燃材料、烟气脱硫、废水处理等。随着高分子材料在工业、民用乃至各个领域的广泛应用，以及消防安全的不断被重视，高分子材料的阻燃引起了全社会的关注。高分子材料的阻燃中，向高分子材料中添加阻燃剂是应用最为广泛的方法，具体为，在高分子材料基体中加入均匀分散的适当种类和用量的小分子化合物阻燃剂，利用阻燃剂和高分子材料复合体系在燃烧时的气相和/或凝聚相的阻燃作用来提高高分子材料的阻燃性本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低杂质含量的氢氧化镁悬浮液的制备方法，其特征在于，包括：配料、旋流除杂、湿法研磨、干燥或浓缩、浆料调配。/n

【技术特征摘要】
1.一种低杂质含量的氢氧化镁悬浮液的制备方法，其特征在于，包括：配料、旋流除杂、湿法研磨、干燥或浓缩、浆料调配。


2.根据权利要求1所述的一种低杂质含量的氢氧化镁悬浮液的制备方法，其特征在于，浆料进行所述湿法研磨处理后，对所述湿法研磨后的浆料取样烘干检测，检测所述浆料中CaO占所述浆料总重量的百分比数值，若所述数值大于等于1.5%，则所述湿法研磨后，还包括有：脱钙。


3.根据权利要求1所述的一种低杂质含量的氢氧化镁悬浮液的制备方法，其特征在于，所述配料，将含有氢氧化镁的物质按重量分为四等份，搅拌状态下，依次添加至溶解有分散剂的水中；添加时，在前一等份的氧化镁加入水中且搅拌至无团聚粉料后，加入后一等份的氧化镁；所述四等份的氧化镁全部添加至水中后，继续搅拌45~60min，制得固含量为20%的浆料；所述分散剂为共聚物钠盐；所述分散剂添加量为所述浆料重量百分比为2~3%。


4.根据权利要求1所述的一种低杂质含量的氢氧化镁悬浮液的制备方法，其特征在于，所述旋流除杂，将所述配料制得的浆料置入一号水力旋流机组中，进行除杂处理；所述浆料从溢流管进入浆料储存罐，备用；除杂后的含渣浆料从一号水力旋流机组底部排料口进入一号斜板沉降槽，向所述一号斜板沉降槽补水喷淋，进水量为1~2m3/h，调整所述一号斜板沉降槽底部汇集的浆料固含量为15~17%；将所述一号斜板沉降槽底部的含渣浆料，置入二号水力旋流机组，进行除杂处理；浆料从溢流管进入浆料储存罐，备用。


5.根据权利要求1所述的一种低杂质含量的氢氧化镁悬浮液的制备方法，其特征在于，所述湿法研磨，包括二级串联研磨；
其中，所述一级研磨，对所述旋流除杂后的浆料进行一级研磨，研磨至浆料粒径D50=2.5~3.0μm后，经200目超声波振动筛分后，进入二级研磨；
所述二级研磨，对所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘其锋，徐松林，张明磊，王芝洪，张素芳，
申请(专利权)人：山东格润德环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37