一种光照辐射灌溉方法技术

本发明专利技术公开了一种光照辐射灌溉方法，包括触摸屏、光照传感器、PLC、施肥机，所述灌溉方法如下：将光照传感器安装于温室内，并通过光照传感器采集温室里的光照辐射量，并将采集的数据进行传输；PLC对采集的数据进行计算分析，并控制施肥机对作物进行灌溉；本发明专利技术的有益效果是：通过光照传感器采集温室里的光照辐射量；PLC对采集的数据进行计算分析，并控制施肥机对作物进行灌溉，在无土栽培技术中，解决天气的变化引起营养液(灌溉量)灌溉不均的问题；通过设计的报警模块，便于在元器件出现故障时进行报警，方便派遣工作人员及时进行检修维护。

【技术实现步骤摘要】
一种光照辐射灌溉方法
本专利技术属于温室无土栽培灌溉策略
，具体涉及一种光照辐射灌溉方法。
技术介绍
无土栽培，是指以水、草炭或森林腐叶土、蛭石等介质作植株根系的基质固定植株，植物根系能直接接触营养液的栽培方法。无土栽培中营养液成分易于控制，且可随时调节。在光照、温度适宜而没有土壤的地方，如沙漠、海滩、荒岛，只要有一定量的淡水供应，便可进行。无土栽培根据栽培介质的不同分为水培、雾(气)培和基质栽培。水培是指植物根系直接与营养液接触，不用基质的栽培方法。最早的水培是将植物根系浸入营养液中生长，这种方式会出现缺氧现象，严重时造成根系死亡。常采用营养液膜法的水培方式，即使一层很薄的营养液层，不断循环流经作物根系，既保证不断供给作物水分和养分，又不断供给根系新鲜氧气。在温室无土栽培技术中，最常见的灌溉策略就是根据种植人员的经验使用时间定量灌溉。这种灌溉策略优点是利于操作、灌溉量恒定，缺点是遇到阴雨天和阳光特别充足的气候条件时，灌溉量不能随着天气的变化而变化，不利于作物的生长！照辐射灌溉就是通过对照到温室里的光照辐射量的统计，并经过本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光照辐射灌溉方法，其特征在于：包括触摸屏、光照传感器、PLC、施肥机，其中，/n光照传感器采集温室里的光照辐射量；/n触摸屏可设置开始时间和结束时间，辐射阈值，以及最小间隔和最大间隔；/nPLC对采集的数据进行计算分析，并控制施肥机进行灌溉；/n所述灌溉方法如下：/n步骤一：将光照传感器安装于温室内，并通过光照传感器采集温室里的光照辐射量，并将采集的数据进行传输；/n步骤二：PLC对采集的数据进行计算分析，并控制施肥机对作物进行灌溉。/n

【技术特征摘要】
1.一种光照辐射灌溉方法，其特征在于：包括触摸屏、光照传感器、PLC、施肥机，其中，
光照传感器采集温室里的光照辐射量；
触摸屏可设置开始时间和结束时间，辐射阈值，以及最小间隔和最大间隔；
PLC对采集的数据进行计算分析，并控制施肥机进行灌溉；
所述灌溉方法如下：
步骤一：将光照传感器安装于温室内，并通过光照传感器采集温室里的光照辐射量，并将采集的数据进行传输；
步骤二：PLC对采集的数据进行计算分析，并控制施肥机对作物进行灌溉。


2.根据权利要求1所述的一种光照辐射灌溉方法，其特征在于：还包括电磁阀、压力传感器和水泵，所述电磁阀和水泵进行联动，所述电磁阀和压力传感器连接。


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【专利技术属性】
技术研发人员：陈大军，马可，徐其道，
申请(专利权)人：盐城中农国业农业科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32