一种旋转靶材的垂直绑定结构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种旋转靶材的垂直绑定结构，该种旋转靶材包括衬管2、和套设在所述衬管2外的多个靶管1，所述衬管2的外周面和所述靶管1的内周面之间通过连接层7固定，其特征在于：所述连接层7为胶体层，所述连接层7内匹配设置有辅助连接部件。该种能垂直绑定结构能灵活用于不同长度的靶管1和异形靶、连接强度更好、成本低廉、操作方便。

【技术实现步骤摘要】
一种旋转靶材的垂直绑定结构
本技术涉及靶材绑定领域，尤其涉及一种旋转靶材的垂直绑定结构。
技术介绍
磁控溅射镀膜是目前镀膜行业应用广泛的镀膜沉积工艺。溅射镀膜的原理是在真空条件下，通过电子枪氩离子对靶材表面进行轰击，靶材表面材料以分子、原子、离子或电子等形式被溅射出来，飞溅到基板上沉积成膜。溅射靶材通常有两类：平面靶材和旋转靶材，其中平面靶材的利用率只有20-30％，为了提高靶材的利用率，旋转靶材被越来越多地应用于实际制造中。并且随着科技的进步，越来越需要大尺寸的旋转靶材。对于陶瓷靶管和某些金属靶管，由于其脆性大，很难用浇注法和喷涂方法生产，只能用冷等静压加烧结或热等静压方法生产出一节节靶管，然后通过绑定到衬管上形成大尺寸靶材。目前常用的绑定方式可参考公开号为CN206366646U的中国技术专利《一种陶瓷旋转靶材邦定的金属密封系统》，该种旋转靶材包括金属背管和套置在金属背管外部的第一陶瓷旋转靶材，其中，金属背管和第一陶瓷旋转靶材在底部由一堵头密封形成空腔；金属背管的管内设置有内加热器，并且，第一陶瓷旋转靶材的外部设置有外加热器本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种旋转靶材的垂直绑定结构，包括衬管(2)、和套设在所述衬管(2)外的多个靶管(1)，所述衬管(2)的外周面和所述靶管(1)的内周面之间通过连接层(7)固定，其特征在于：所述连接层(7)为胶体层，所述连接层(7)内匹配设置有辅助连接部件。/n

【技术特征摘要】
1.一种旋转靶材的垂直绑定结构，包括衬管(2)、和套设在所述衬管(2)外的多个靶管(1)，所述衬管(2)的外周面和所述靶管(1)的内周面之间通过连接层(7)固定，其特征在于：所述连接层(7)为胶体层，所述连接层(7)内匹配设置有辅助连接部件。


2.根据权利要求1所述的旋转靶材的垂直绑定结构，其特征在于：所述辅助连接部件为匹配包围所述衬管(2)的外周面的金属网(6)。


3.根据权利要求2所述的旋转靶材的垂直绑定结构，其特征在于：所述金属网(6)为镍网、钛网、钼网、钨网、铌网、银网、铜网、不锈钢网中的任意一种。


4.根据权利要求1所述的旋转靶材的垂直绑定结构，其特征在于：
所述辅助连接部件为多个金属片(8)，所述金属片(8)的长度与所述衬管(2)的长度相匹配，所述金属片(8)在所述衬管(2)的外周面沿周向间隔排列。


5.根据权利要求4所述的旋转靶材的垂直绑定结构...

【专利技术属性】
技术研发人员：高明，张花蕊，张虎，陈浩杰，
申请(专利权)人：北京航大微纳科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11