【技术实现步骤摘要】
一种钼表面阻氧膜及其制备方法
本专利技术属于金属表面加工
,具体涉及一种钼表面阻氧膜,还涉及该阻氧膜的制备方法。
技术介绍
钼是一种难熔金属,其具有优良的导电、导热性,并且熔点高、强度大、线膨胀系数小、抗蚀性强以及高温力学性能良好,因而广泛应用于航空航天、发电、核反应堆、军事工业、化学工业、电子工业和玻璃制造业等领域。钼应用于上述领域需隔绝氧气,要有保护气体(如氮气、氩气等)或真空环境,因为钼在空气中加热到300℃时开始氧化,随着温度升高,氧化加剧,在更高的温度下,钼逐渐被氧化成疏松膨胀、易挥发的黄色的三氧化钼。所以,钼的氧化和挥发现象影响了其高温力学性能,限制了钼的应用。目前解决钼氧化的途径有两条,一是掺杂,二是涂层。钼的掺杂程度很小,当加入抗氧化性的合金元素量稍多时,合金的性能变差,难以加工,所以用掺杂的方法难以从根本上改变钼的抗氧化能力,而且还会影响到它的许多的高温性能,如高温强度、耐冲击性、耐热震性和抗蠕变性等。所以,经常采用第二种方法——涂层,钼覆盖阻氧层,常见有烧结涂层、熔渗涂层等,但大多存在涂层厚 ...
【技术保护点】
1.一种钼表面阻氧膜,其特征在于,包括钼基体(1),所述钼基体(1)表面镀有阻氧膜层,所述阻氧膜层依次为铬层(2)、第一氮化铬铝硅层(3)、铝层(4)、第二氮化铬铝硅层(5),所述阻氧膜层的底层为铬层(2),所述阻氧膜层的顶层为第二氮化铬铝硅层(5)。/n
【技术特征摘要】
1.一种钼表面阻氧膜,其特征在于,包括钼基体(1),所述钼基体(1)表面镀有阻氧膜层,所述阻氧膜层依次为铬层(2)、第一氮化铬铝硅层(3)、铝层(4)、第二氮化铬铝硅层(5),所述阻氧膜层的底层为铬层(2),所述阻氧膜层的顶层为第二氮化铬铝硅层(5)。
2.根据权利要求1所述的一种钼表面阻氧膜,其特征在于,所述铬层(2)和铝层(4)的厚度均为50~100nm,所述阻氧膜层的厚度为1~3μm。
3.一种如权利要求2所述的钼表面阻氧膜的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:
步骤1,将钼基体表面打磨、抛光;抛光后钼基体表面粗糙度为0.4~0.6μm;
步骤2,将钼基体依次置于碱溶液和酸溶液中,...
【专利技术属性】
技术研发人员:唐军利,
申请(专利权)人:金堆城钼业股份有限公司,
类型:发明
国别省市:陕西;61
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