一种高性能透明导电薄膜及其制备方法和应用技术

技术编号:24999624 阅读:60 留言:0更新日期:2020-07-24 18:01
本发明专利技术导电薄膜材料领域,公开了一种高性能透明导电薄膜及其制备方法和应用。所述制备方法为:将透明基板经清洗、烘干后,在室温下通过脉冲激光沉积GZO导电薄膜,得到高性能透明导电薄膜。本发明专利技术采用了GZO作为导电薄膜材料,绿色环保;且采用单层GZO薄膜,工艺简单;并通过脉冲激光沉积制备,无需退火处理,有效降低成本。所得GZO导电薄膜具有高透过率,低粗糙度,低电阻的优点,可用于电磁器件和设备屏蔽,例如:战斗机座舱盖和海军舰艇舷窗等。

【技术实现步骤摘要】
一种高性能透明导电薄膜及其制备方法和应用
本专利技术导电薄膜材料领域,具体涉及一种高性能透明导电薄膜及其制备方法和应用。
技术介绍
很多电磁器件和设备,尤其是军用电磁器件和设备因为会发射或反射电磁信号,其抗干扰和屏蔽能力成为很重要指标,例如歼击机,又名战斗机,即用于在空中消灭敌机和其他飞航式空袭兵器的军用飞机。由于战斗机的座舱内部是空腔结构,各个部件是很大的反射源。外部电磁波射入座舱后,很容易经过多次反射后再多次射出座舱,形成腔体反射效应(类似角反射器),大大提高了战机的雷达反射截面积(RCS)。而且座舱内有多种设备会主动发射电磁波,这些电磁波不但具有暴露飞机方位的信号特征,通信电波甚至有可能暴露战机作战信息,从而不仅增加了战机的等效反射面积,还有情报泄密的可能。对于现代创新作战战斗机,隐身效果是刚需,因此,给战斗机座舱盖镀上带有降低RCS效果的透明导电膜成为战斗机的必须。战斗机的座舱镀膜材料,主要分为两大类。一类采用的是氧化铟锡(ITO)导电膜,厚度为10~20nm,铟氧化物占90%,锡氧化物占10%。采用磁控溅射的方法制备的ITO膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高性能透明导电薄膜的制备方法,其特征在于包括如下制备步骤:/n将透明基板经清洗、烘干后,在室温下通过脉冲激光沉积GZO导电薄膜,得到高性能透明导电薄膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种高性能透明导电薄膜的制备方法,其特征在于包括如下制备步骤:
将透明基板经清洗、烘干后,在室温下通过脉冲激光沉积GZO导电薄膜,得到高性能透明导电薄膜。


2.根据权利要求1所述的一种高性能透明导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述透明基板是指无碱玻璃基板。


3.根据权利要求1所述的一种高性能透明导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述清洗是指分别用去离子水、异丙醇依次超声清洗;所述烘干是指在75~85℃温度下烘干。


4.根据权利要求1所述的一种高性能透明导电薄膜的制备方法,其特征在于所述脉冲激光沉积的条件为:靶材到...

【专利技术属性】
技术研发人员:姚日晖李晓庆宁洪龙符晓陈俊龙张旭梁宏富梁志豪卢宽宽彭俊彪
申请(专利权)人:华南理工大学
类型:发明
国别省市:广东;44

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