一种硅砂透水砖次品清除装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅砂透水砖次品清除装置，包括传送带，硅砂透水砖放置在所述传送带上；第一、二红外线发射器并排间隔设置在所述传送带的一侧；第一、二红外线感应器并排间隔设置在所述传送带的另一侧，所述第一、二红外线感应器分别正对所述第一、二红外线发射器；第一、二探测器并排间隔设置在所述传送带的一侧，所述第一、二探测器分别位于所述第一、二红外线发射器与所述传送带之间；第一、二推砖器并排间隔设置在所述传送带的一侧，所述第一、二推砖器分别位于所述第一、二红外线发射器与所述第一、二探测器之间，该硅砂透水砖次品清除装置结构简单，能够随线检测，提高检测效率，快速剔除次品。

【技术实现步骤摘要】
一种硅砂透水砖次品清除装置
本技术涉及一种硅砂透水砖次品清除装置。
技术介绍
硅砂透水砖制备好后需要检测其高度是否符合要求，现有的检测装置结构复杂而且不能随线检测，检测过程需要消耗较多的时间，检测效率比较低，而且次品不能快速剔除出来。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本技术的目的是提供一种结构简单，能够随线检测，提高检测效率，快速剔除次品的硅砂透水砖次品清除装置。本技术提出的一种硅砂透水砖次品清除装置，其特征在于：包括：-传送带，硅砂透水砖放置在所述传送带上；-第一、二红外线发射器，所述第一、二红外线发射器并排间隔设置在所述传送带的一侧；-第一、二红外线感应器，所述第一、二红外线感应器并排间隔设置在所述传送带的另一侧，所述第一、二红外线感应器分别正对所述第一、二红外线发射器；-第一、二探测器，所述第一、二探测器并排间隔设置在所述传送带的一侧，所述第一、二探测器分别位于所述第一、二红外线发射器与所述传送带之间，所述第一、二探测器分别与所述第一、二红外线发射器通信连接；<br>-第一、二推砖本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅砂透水砖次品清除装置，其特征在于：包括：/n-传送带，硅砂透水砖放置在所述传送带上；/n-第一、二红外线发射器，所述第一、二红外线发射器并排间隔设置在所述传送带的一侧；/n-第一、二红外线感应器，所述第一、二红外线感应器并排间隔设置在所述传送带的另一侧，所述第一、二红外线感应器分别正对所述第一、二红外线发射器；/n-第一、二探测器，所述第一、二探测器并排间隔设置在所述传送带的一侧，所述第一、二探测器分别位于所述第一、二红外线发射器与所述传送带之间，所述第一、二探测器分别与所述第一、二红外线发射器通信连接；/n-第一、二推砖器，所述第一、二推砖器并排间隔设置在所述传送带的一侧，所述第一...

【技术特征摘要】
1.一种硅砂透水砖次品清除装置，其特征在于：包括：
-传送带，硅砂透水砖放置在所述传送带上；
-第一、二红外线发射器，所述第一、二红外线发射器并排间隔设置在所述传送带的一侧；
-第一、二红外线感应器，所述第一、二红外线感应器并排间隔设置在所述传送带的另一侧，所述第一、二红外线感应器分别正对所述第一、二红外线发射器；
-第一、二探测器，所述第一、二探测器并排间隔设置在所述传送带的一侧，所述第一、二探测器分别位于所述第一、二红外线发射器与所述传送带之间，所述第一、二探测器分别与所述第一、二红外线发射器通信连接；
-第一、二推砖器，所述第一、二推砖器并排间隔设置在所述传送带的一侧，所述第一、二推砖器分别位于所述第一、二红外线发射器与所述第一、二探测器之间，所述第一、二推砖器分别与所述第一、二红外线感应器通信连接。


2.根据权利要求1所述的一种硅砂透水砖次品清除装置，其特征在于：所述第一红外线发射器与所述第一红外线感应器位于同一...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵明，王义廷，伍根伙，林建仁，刘文龙，谢芳，
申请(专利权)人：厦门美益绿建科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35