压印模板及压印方法技术

本发明专利技术提供了一种压印模板及压印方法，属于压印技术领域。其中，压印模板，包括：基板和设置在所述基板上的多个相互平行的微结构，沿远离所述基板的方向，所述微结构的横截面的面积与所述横截面与所述基板之间的距离负相关。本发明专利技术的技术方案能够制作线宽和周期可调的光栅。

【技术实现步骤摘要】
压印模板及压印方法
本专利技术涉及压印
，特别是指一种压印模板及压印方法。
技术介绍
纳米压印技术具有高分辨率、工艺过程简单、超低成本、高生产率等优点，被广泛应用于LED(发光二极管)、半导体等微纳制造领域。现有的压印模板需要根据待制作光栅的周期线宽的具体需求来设计制作，压印模板的制作成本较高，且制作周期很长，压印模板的制备成本是限制纳米压印工艺应用的一个重大因素。现有技术中，压印模板制作的光栅的周期固定，线宽固定，如果要更换光栅的周期与线宽，就需要再次制备压印模板，时间与费用成本过高。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种压印模板及压印方法，能够制作线宽和周期可调的光栅。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供技术方案如下：一方面，提供一种压印模板，包括：基板和设置在所述基板上的多个相互平行的微结构，沿远离所述基板的方向，所述微结构的横截面的面积与所述横截面与所述基板之间的距离负相关。一些实施例中，所述微结构垂直于自身延伸方向上的纵截面为三角形、梯形、半本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种压印模板，其特征在于，包括：基板和设置在所述基板上的多个相互平行的微结构，沿远离所述基板的方向，所述微结构的横截面的面积与所述横截面与所述基板之间的距离负相关。/n

【技术特征摘要】
1.一种压印模板，其特征在于，包括：基板和设置在所述基板上的多个相互平行的微结构，沿远离所述基板的方向，所述微结构的横截面的面积与所述横截面与所述基板之间的距离负相关。


2.根据权利要求1所述的压印模板，其特征在于，所述微结构垂直于自身延伸方向上的纵截面为三角形、梯形、半圆形或圆弧形。


3.根据权利要求2所述的压印模板，其特征在于，所述三角形包括直角三角形和等腰三角形。


4.一种压印方法，其特征在于，包括：
涂覆步骤，在基底上涂覆一层压印胶；
压印步骤，利用如权利要求1-3中任一项所述的压印模板对所述压印胶进行压印，得到压印胶图形，沿远离所述基底的方向，所述压印胶图形的横截面的面积与所述横截面与所述基底之间的距离负相关；
第一刻蚀步骤，对压印胶图形进行整体减薄，暴露出第一区域的基底；对第一区域的基底进行刻蚀，形成第一凹槽；在刻蚀后的基底上形成填充所述第一凹槽的第一光刻胶；对压印胶图形再次进行整体减薄，暴露出第二区域的基底；对第二区域的基底进行刻蚀，形成第二凹槽；在刻蚀后的基底上形成填充所述第二凹槽的第二光刻胶；
重复上述第一刻蚀步骤，直至所述第一区域和所述第二区域交替排布在所述基底上；
第二刻蚀步骤，去除...

【专利技术属性】
技术研发人员：周雪原，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11