一种显示面板、其制备方法以及显示装置制造方法及图纸

技术编号:24994435 阅读:41 留言:0更新日期:2020-07-24 17:57
本发明专利技术提供一种显示面板、其制备方法以及显示装置。所述显示面板的子像素分为主区和次区,所述主区和所述次区的像素电极由同一个薄膜晶体管驱动;所述显示面板的第二基板包括公共电极、位于所述公共电极上的第二配向膜、以及位于所述第二配向膜上的屏蔽电极;其中,所述屏蔽电极对应于所述次区设置。本发明专利技术降低了TFT器件面积占比,提升了开口率和穿透率。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板、其制备方法以及显示装置
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种显示面板、其制备方法以及显示装置。
技术介绍
液晶显示器包括扭曲向列(TN)模式、电子控制双折射(ECB)模式、共面转换(IPS)模式以及垂直配向(VA)等多种显示模式。其中,VA模式是一种具有高对比度、宽视角、无须摩擦配向等优势的常见显示模式。目前一般采用8畴3T(TFT)的VA像素设计,使同一个子像素内主区的4个畴与次区的4个畴的液晶分子的转动角度不一样,从而改善色偏。但是3T设计占用的空间较大,从而降低了像素的开口率,从而降低显示的穿透率。随着主流产品的解析度不断提高(HD→FHD→4K→8K),由于工艺精度的限制,TFT器件在像素中占比越来越大,导致高解析度的显示产品穿透率急剧下降。故,有必要改善这一缺陷。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种显示面板,用于解决现有技术的显示面板,采用8畴3T的像素设计,三个TFT占用的空间较大,导致子像素的开口率不足,从而影响显示面板的穿透率的技术问题。本专利技术实施例提供一种显示面板,本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板,其特征在于,包括对盒设置的第一基板和第二基板、以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶分子层;/n所述第一基板包括第一衬底层、位于所述第一衬底层上的像素电极层、以及位于所述像素电极层上的第一配向膜;所述像素电极层包括阵列分布的多个子像素,所述子像素分为主区和次区,所述主区和所述次区的像素电极由同一个薄膜晶体管驱动;/n所述第二基板包括第二衬底层、位于所述第二衬底层上的黑色矩阵、位于所述第二衬底层上且位于所述黑色矩阵之间的公共电极、位于所述公共电极上的第二配向膜、以及位于所述第二配向膜上的屏蔽电极;/n其中,所述黑色矩阵对应于所述主区与所述次区之间的间隙设置,所述屏蔽电极对...

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括对盒设置的第一基板和第二基板、以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶分子层;
所述第一基板包括第一衬底层、位于所述第一衬底层上的像素电极层、以及位于所述像素电极层上的第一配向膜;所述像素电极层包括阵列分布的多个子像素,所述子像素分为主区和次区,所述主区和所述次区的像素电极由同一个薄膜晶体管驱动;
所述第二基板包括第二衬底层、位于所述第二衬底层上的黑色矩阵、位于所述第二衬底层上且位于所述黑色矩阵之间的公共电极、位于所述公共电极上的第二配向膜、以及位于所述第二配向膜上的屏蔽电极;
其中,所述黑色矩阵对应于所述主区与所述次区之间的间隙设置,所述屏蔽电极对应于所述次区设置。


2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述屏蔽电极的材料由超分子材料与三羟甲基丙烷、碳纳米管和/或石墨烯反应制得。


3.如权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述超分子材料为基于三个脲基-4-嘧啶酮官能团的低分子量单体。


4.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述屏蔽电极的厚度范围为大于0且小于或者等于0.2微米。


5.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述主区与所述次区的面积比范围为大于或者等于0.3且小于或者等于1。
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【专利技术属性】
技术研发人员:张伟基
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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