一种低敏感度粗波分复用滤光片及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种低敏感度粗波分复用滤光片，包括：玻璃基板；波分复用膜层，所述波分复用膜层设置在所述玻璃基板的一侧，所述波分复用膜层包括50层Ta

【技术实现步骤摘要】
一种低敏感度粗波分复用滤光片及其制作方法
本专利技术涉及滤光片
，特别是涉及一种低敏感度粗波分复用滤光片及其制作方法。
技术介绍
CWDM是一种面向城域网接入层的低成本WDM传输技术。从原理上讲，CWDM就是利用光复用器将不同波长的光信号复用至单根光纤进行传输，在链路的接收端，借助光解复用器将光纤中的混合信号分解为不同波长的信号，连接到相应的接收设备。CWDM滤光片是一种玻璃基板在真空条件下，由两种或者多种不同镀膜材料交替叠加而成的干涉滤光片，目前传统镀膜行业主要以高端的离子溅射镀膜设备和磁控溅射镀膜设备，使用玻璃wafer(晶圆)镀膜，wafer镀膜后做切割、减薄、翻面镀膜、上盘、切割、下盘检验、上盘、测试的工艺流程。传统的CWDM滤光片膜层厚，增加了wafer材料的使用量，且传统的CWDM滤光片的制作依赖于高端昂贵的激光监控镀膜设备(比如Veeco镀膜机)，制作工艺复杂，增加了光学加工成本，导致成本居高不下。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种低敏感度粗波分复用滤光片及其制作方法，能够减少滤光片的膜层层数，降低了滤光片的膜层厚度，减少了wafer材料的使用量，降低了光学加工成本。为达到上述目的，本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种低敏感度粗波分复用滤光片，包括：玻璃基板；波分复用膜层，所述波分复用膜层设置在所述玻璃基板的一侧，所述波分复用膜层包括50层Ta2O5膜层和50层SiO2膜层，Ta2O5膜层和SiO2膜层交替叠加设置；及增透膜层，所述增透膜层设置在所述玻璃基板的另一侧，所述波分复用膜层包括2层Ta2O5膜层和2层SiO2膜层，Ta2O5膜层和SiO2膜层交替叠加设置。优选的，所述波分复用膜层自玻璃基板侧的膜层结构为HLHLH2L3HLHLHLHL3HLH3L2H3LHLHLHLHLHLHLH2LHL3HLH3LHLHLHHLH2LH3LHLHLHLHLHLHLH2LHL3HLH3LHLHL3HLH3L2H3LHLHLHLHLHLH2L3HLHLHL；其中，H表示Ta2O5膜层，L表示SiO2膜层。优选的，所述增透膜层自玻璃基板侧的膜层结构为HLHL；其中，H表示Ta2O5膜层，L表示SiO2膜层。优选的，所述玻璃基板为双面抛光的玻璃片，所述玻璃基板的厚度0.3mm～1.2mm。优选的，所述波分复用膜层中Ta2O5膜层的厚度为H＝λ/4nH，SiO2膜层的厚度为L＝λ/4nL；其中，H表示Ta2O5膜层，nH表示Ta2O5的折射率，L表示SiO2膜层，nL表示SiO2的折射率，λ表示监控光波长。优选的，所述波分复用膜层的厚度为25um～28um。优选的，所述增透膜层的厚度为0.5um～1um。一种制作上述低敏感度粗波分复用滤光片的制作方法，包括如下步骤：基板抛光：通过抛光机将玻璃基板的两面抛光；基板清洗：对两面抛光后的玻璃基板进行超声清洗，并采用热风烘箱烘干；基板装夹：将清洗干净的玻璃基板装到镀膜夹具中，并盖上防尘盖；基板镀膜：在真空环境下，利用白光透射监控镀膜设备在玻璃基板的一侧镀波分复用膜，利用白光反射监控镀膜设备在玻璃基板的另一侧镀增透膜；镀膜后对玻璃基板进行超声清洗并烘干；上盘切割：通过切割机对镀膜后的玻璃基板进行切割。优选的，在基板镀膜前，将镀膜设备的真空室加热烘烤至220℃，保温2小时，真空度达到8.0E-4pa。优选的，基板镀膜步骤中，在镀波分复用膜和镀增透膜后均对玻璃板进行降温处理，冷切至80℃。由于上述技术方案的运用，本专利技术与现有技术相比具有下列有益效果：提供了一种低敏感度粗波分复用滤光片及其制作方法，滤光片的膜层层数少，降低了滤光片的膜层厚度，减少了wafer材料的使用量，降低了光学加工成本；且由于膜层层数较少，降低了镀膜膜系设计敏感度，同时也降低了监控光监控精度要求，可以通过更多类型的镀膜机制得，无需只能通过高端镀膜机制得，从而可以降低制作成本，实现量产，有利于推广应用。附图说明图1是本专利技术一种低敏感度粗波分复用滤光片的示意图。图2是本专利技术实际测得的光谱曲线与设计光谱曲线的对比图。附图标记说明：玻璃基板1、波分复用膜层2、增透膜层3。具体实施方式下面结合附图对本专利技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本专利技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本专利技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。参阅附图，一种低敏感度粗波分复用滤光片，包括：玻璃基板1、波分复用膜层2和增透膜层3。玻璃基片为预加工好的双面抛光的玻璃片，尺寸在11mm*11mm至30mm*30mm之间，厚度在0.3mm至1.2mm之间。波分复用膜层设置在玻璃基板的一侧，通过波分复用膜层使滤光片具有波分复用功能。波分复用膜层是基于法布里——珀珞干涉的原理设计镀制而成，波分复用膜层包括50层Ta2O5膜层和50层SiO2膜层，减少反射层数量，降低敏感度。且Ta2O5膜层和SiO2膜层交替叠加设置，其中打底层为Ta2O5，最外层为SiO2。由于波分复用膜层层数数量较少，监控光强度衰减小，因此监控光的敏感度要求低，提升了镀膜的准确性和重复性，无需依赖激光光源监控的高精度设备，而可以在普通的白光光源监控设备上实现量产。具体地，波分复用膜层自玻璃基板侧的膜层结构为HLHLH2L3HLHLHLHL3HLH3L2H3LHLHLHLHLHLHLH2LHL3HLH3LHLHLHHLH2LH3LHLHLHLHLHLHLH2LHL3HLH3LHLHL3HLH3L2H3LHLHLHLHLHLH2L3HLHLHL；其中，H表示Ta2O5膜层，L表示SiO2膜层。增透膜层设置在玻璃基板的另一侧，通过增透膜层的设置减小过滤片的表面反射。波分复用膜层为层不规整膜层叠加而成，非常简单易镀制。波分复用膜层包括2层Ta2O5膜层和2层SiO2膜层，且Ta2O5膜层和SiO2膜层交替叠加设置。具体地，增透膜层自玻璃基板侧的膜层结构为HLHL；其中，H表示Ta2O5膜层，L表示SiO2膜层。玻璃基板为双面抛光的玻璃片，玻璃基板的厚度0.3mm～1.2mm。波分复用膜层中Ta2O5膜层的厚度为H＝λ/4nH，SiO2膜层的厚度为L＝λ/4nL；其中，H表示Ta2O5膜层，nH表示Ta2O5的折射率，L表示SiO2膜层，nL表示SiO2的折射率，λ表示监控光波长。波分复用膜层的厚度为25um～28um。增透膜层的厚度为0.5um～1um。一种制作上述低敏感度粗波分复用滤光片的制作方法，包括如下步骤：基板抛光：通过抛光机将玻璃基板的两面抛光。基板清洗：将玻璃基板进行超声清洗并采用热风烘箱烘干，玻璃基板尺寸11*11*0.7mm厚。基板装夹：在千级净化台上将清洗干净的玻璃基板装到镀膜专用夹具中，并盖上防尘盖。基板镀本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低敏感度粗波分复用滤光片，其特征在于，包括：/n玻璃基板；/n波分复用膜层，所述波分复用膜层设置在所述玻璃基板的一侧，所述波分复用膜层包括50层Ta

【技术特征摘要】
1.一种低敏感度粗波分复用滤光片，其特征在于，包括：
玻璃基板；
波分复用膜层，所述波分复用膜层设置在所述玻璃基板的一侧，所述波分复用膜层包括50层Ta2O5膜层和50层SiO2膜层，Ta2O5膜层和SiO2膜层交替叠加设置；及
增透膜层，所述增透膜层设置在所述玻璃基板的另一侧，所述波分复用膜层包括2层Ta2O5膜层和2层SiO2膜层，Ta2O5膜层和SiO2膜层交替叠加设置。


2.根据权利要求1所述的一种低敏感度粗波分复用滤光片，其特征在于：所述波分复用膜层自玻璃基板侧的膜层结构为HLHLH2L3HLHLHLHL3HLH3L2H3LHLHLHLHLHLHLH2LHL3HLH3LHLHLHHLH2LH3LHLHLHLHLHLHLH2LHL3HLH3LHLHL3HLH3L2H3LHLHLHLHLHLH2L3HLHLHL；其中，H表示Ta2O5膜层，L表示SiO2膜层。


3.根据权利要求1所述的一种低敏感度粗波分复用滤光片，其特征在于：所述增透膜层自玻璃基板侧的膜层结构为HLHL；其中，H表示Ta2O5膜层，L表示SiO2膜层。


4.根据权利要求1所述的一种低敏感度粗波分复用滤光片，其特征在于：所述玻璃基板为双面抛光的玻璃片所述玻璃基板的厚度0.3mm～1.2mm。


5.根据权利要求1所述的一种低敏感度粗波分复用滤光片，其特征在于：所述波分复用膜层中Ta2O5膜层的厚度为H＝λ/4nH，SiO2膜层的厚...

【专利技术属性】
技术研发人员：向久成，秦明海，
申请(专利权)人：苏州东辉光学有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32