掩膜板及采用该掩膜板进行蒸镀的方法技术

本发明专利技术提供一种掩膜板及采用该掩膜板进行蒸镀的方法。该掩膜板包括：掩膜板本体，包括多个间隔分布的通孔，包括主孔和与主孔连通的延伸孔，主孔用于使蒸镀材料透过制成像素图形，延伸孔用于使蒸镀材料透过制成像素图形的连接图形；沿预设方向排列的相邻两个通孔，与待蒸镀基板需要制成的沿预设方向排列的相间隔的两个像素图形一一对应；掩膜板本体上，沿预设方向排列的相邻两个通孔之间的最小间隔距离，大于或等于像素图形在预设方向上的尺寸，小于或等于通孔在所述预设方向上的最大尺寸。采用该一个掩膜板可以制作待蒸镀基板上的像素图形和像素图形的连接图形，能够解决现有技术掩膜板进行图形化的材料蒸镀，存在工艺复杂和蒸镀机时浪费的问题。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板及采用该掩膜板进行蒸镀的方法
本专利技术涉及显示面板制造
，尤其是指一种掩膜板及采用该掩膜板进行蒸镀的方法。
技术介绍
有机电致发光显示(OrganicLight-EmittingDiode，简称OLED)作为一种新型的显示技术，由于具有主动发光、发光亮度高、宽视角、响应速度快、低能耗以及可柔性化等特点，受到了越来越多的关注，成为可能取代液晶显示的下一代显示技术。另外，利用OLED显示技术的特点，OLED显示面板还能够满足透明显示的要求。通常OLED显示面板包括阳极、阴极和设置于阳极与阴极之间的发光功能层。对于透明显示来说，穿透率是一项重要的参数。而制成阴极的材料透过率在50％～60％，会大大降低透明显示面板的穿透率，为了提高穿透率，一般会采用图形化阴极的方式，阴极材料仅在显示区域留存，透明区域阴极材料去除。在制成图形化阴极的基础上，图形化阴极还需要通过边缘区域和Vss走线搭接，实现电流的流通，因此图形化阴极除了需要布置在显示区域外，还需要对应的搭接桥，来保证电路接通。现有技术制作图形化的阴极，为保证掩膜板的制作强度，在进行掩膜板张网固定时不会产生变形，针对图形化的阴极制备通常需要2张掩膜板，并通过两次的蒸镀过程，存在工艺复杂和蒸镀机时浪费的问题。
技术实现思路
本专利技术技术方案的目的是提供一种掩膜板及采用该掩膜板进行蒸镀的方法，解决采用现有技术掩膜板进行图形化的材料蒸镀，存在工艺复杂和蒸镀机时浪费的问题。本专利技术实施例提供一种掩膜板，其中，包括：掩膜板本体，包括多个间隔分布的通孔，包括主孔和与所述主孔连通且平行于预设方向的延伸孔，所述主孔用于使蒸镀材料透过以制成待蒸镀基板上的像素图形，所述延伸孔用于使蒸镀材料透过以制成所述像素图形的连接图形，所述连接图形与所述像素图形连接；其中，沿所述预设方向排列的相邻两个所述通孔，与所述待蒸镀基板需要制成的沿所述预设方向排列的相间隔的两个像素图形一一对应；所述掩膜板本体上，沿所述预设方向排列的相邻两个所述通孔之间的最小间隔距离，大于或等于所述像素图形在所述预设方向上的尺寸，且小于或等于所述通孔在所述预设方向上的最大尺寸。可选地，所述的掩膜板，其中，每一所述延伸孔相较于所连通的所述主孔向所述预设方向凸出。可选地，所述的掩膜板，其中，所述延伸孔沿所述预设方向上的尺寸，大于或等于所述待蒸镀基板上沿所述预设方向上相邻的两个像素图形之间的间隔距离。可选地，所述的掩膜板，其中，所述延伸孔包括第一延伸孔和第二延伸孔，其中所述第一延伸孔相较于所连通的所述主孔向所述预设方向凸出，所述第二延伸孔相较于所连通的所述主孔向所述预设方向的相反方向凸出。可选地，所述的掩膜板，其中，所述第一延伸孔和所述第二延伸孔沿所述预设方向上的尺寸，均小于或等于所述待蒸镀基板上沿所述预设方向上相邻的两个像素图形之间的间隔距离。可选地，所述的掩膜板，其中，所述第一延伸孔的沿所述预设方向上的尺寸，等于所述第二延伸孔的沿所述预设方向上的尺寸。可选地，所述的掩膜板，其中，所述主孔包括平行于所述预设方向的中心线，所述第一延伸孔与所述第二延伸孔均形成为关于所述中心线对称的结构。可选地，所述的掩膜板，其中，所述第一延伸孔的远离所述第二延伸孔的内壁面为平面或圆弧曲面；所述第二延伸孔的远离所述第一延伸孔的内壁面为平面或圆弧曲面。可选地，所述的掩膜板，其中，每一所述通孔的形状、尺寸均相同。本专利技术实施例还提供一种采用如上任一项所述的掩膜板进行蒸镀的方法，其中，所述方法包括：提供待蒸镀基板；将所述掩膜板本体与所述待蒸镀基板进行对位；执行第一蒸镀工序，使蒸镀材料透过所述掩膜板本体上的多个所述通孔沉积在所述待蒸镀基板上，所述待蒸镀基板上制成多列沿预设方向排列的多个第一像素图形和与每一第一像素图形连接的连接图形；将所述掩膜板本体沿所述预设方向平移预设距离；执行第二蒸镀工序，使蒸镀材料透过所述掩膜板本体上的多个所述通孔沉积在所述待蒸镀基板上，在每一列沿预设方向的多个第一像素图形中，相邻两个第一像素图形之间制成第二像素图形和与所述第二像素图形连接的连接图形，且每一所述第二像素图形的连接图形与相邻的所述第一像素图形连接，或者与相邻的所述第一像素图形的连接图形相连接。可选地，所述的方法，其中，所述预设距离等于所述第一像素图形的第一中心线与所述第二像素图形的第二中心线之间的距离；所述第一中心线为所述第一像素图形的垂直于所述预设方向的中心线；所述第二中心线为所述第二像素图形的垂直于所述预设方向的中心线。可选地，所述的方法，其中，所述待蒸镀基板上制成的多个所述第一像素图形和多个所述第二像素图形相组合，形成为OLED发光单元的阴极层。本专利技术具体实施例上述技术方案中的至少一个具有以下有益效果：本专利技术实施例所述掩膜板，利用该一个掩膜板可以制作待蒸镀基板上的像素图形和像素图形的连接图形，能够解决现有技术进行图形化的材料蒸镀，需要通过两个不同结构的掩膜板，分别制作像素图形和连接图形，造成工艺复杂和蒸镀机时浪费的问题。附图说明图1为OLED显示面板设置图形化的阴极结构的剖面示意图；图2为图形化的阴极结构的平面结构示意图；图3为本专利技术实施例其中一实施方式的掩膜板的结构示意图；图4为采用图3所示实施方式的掩膜板的蒸镀过程示意图；图5为本专利技术实施例另一实施方式的掩膜板的结构示意图；图6为采用图5所示实施方式的掩膜板的蒸镀过程示意图；图7为采用本专利技术实施例所述掩膜板的蒸镀过程流程图。具体实施方式为使本专利技术要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。为解决采用现有技术掩膜板进行图形化的材料蒸镀，存在工艺复杂和蒸镀机时浪费的问题，本专利技术实施例提供一种掩膜板，采用该一个掩膜板可以制作待蒸镀基板上的像素图形和像素图形的连接图形，能够解决现有技术进行图形化的材料蒸镀，需要通过两个不同结构的掩膜板，分别制作像素图形和连接图形，造成工艺复杂和蒸镀机时浪费的问题。可选地，本专利技术实施例所述掩膜板，可以用于制作OLED显示面板的阴极层。为清楚说明本专利技术实施例所述掩膜板的结构和工作原理，以下结合OLED显示面板的阴极层的制备说明本专利技术实施例进行详细说明。如图1所示，OLED显示面板的显示区包括设置在衬底1上的驱动电路层和位于驱动电路层上的发光器件层。其中，驱动电路层包括依次制作于衬底1上的有源层101、栅绝缘层102、栅极103、层间绝缘层104、源/漏极层105、在源/漏极层105远离衬底1一侧设置的平坦层107；该发光器件层包括第一电极202、在第一电极202远离衬底1的一侧设置的发光层204和在发光层204远离衬底1的一侧设置的第二电极205；可选地，第二电极205上设置有隔垫层206。另外，发光器件层还包括像素限定层203，设置于第一电极202上，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：/n掩膜板本体，包括多个间隔分布的通孔，包括主孔和与所述主孔连通且平行于预设方向的延伸孔，所述主孔用于使蒸镀材料透过以制成待蒸镀基板上的像素图形，所述延伸孔用于使蒸镀材料透过以制成所述像素图形的连接图形，所述连接图形与所述像素图形连接；/n其中，沿所述预设方向排列的相邻两个所述通孔，与所述待蒸镀基板需要制成的沿所述预设方向排列的相间隔的两个像素图形一一对应；/n所述掩膜板本体上，沿所述预设方向排列的相邻两个所述通孔之间的最小间隔距离，大于或等于所述像素图形在所述预设方向上的尺寸，且小于或等于所述通孔在所述预设方向上的最大尺寸。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：
掩膜板本体，包括多个间隔分布的通孔，包括主孔和与所述主孔连通且平行于预设方向的延伸孔，所述主孔用于使蒸镀材料透过以制成待蒸镀基板上的像素图形，所述延伸孔用于使蒸镀材料透过以制成所述像素图形的连接图形，所述连接图形与所述像素图形连接；
其中，沿所述预设方向排列的相邻两个所述通孔，与所述待蒸镀基板需要制成的沿所述预设方向排列的相间隔的两个像素图形一一对应；
所述掩膜板本体上，沿所述预设方向排列的相邻两个所述通孔之间的最小间隔距离，大于或等于所述像素图形在所述预设方向上的尺寸，且小于或等于所述通孔在所述预设方向上的最大尺寸。


2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，每一所述延伸孔相较于所连通的所述主孔向所述预设方向凸出。


3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述延伸孔沿所述预设方向上的尺寸，大于或等于所述待蒸镀基板上沿所述预设方向上相邻的两个像素图形之间的间隔距离。


4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述延伸孔包括第一延伸孔和第二延伸孔，其中所述第一延伸孔相较于所连通的所述主孔向所述预设方向凸出，所述第二延伸孔相较于所连通的所述主孔向所述预设方向的相反方向凸出。


5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第一延伸孔和所述第二延伸孔沿所述预设方向上的尺寸，均小于或等于所述待蒸镀基板上沿所述预设方向上相邻的两个像素图形之间的间隔距离。


6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述第一延伸孔的沿所述预设方向上的尺寸，等于所述第二延伸孔的沿所述预设方向上的尺寸。


7.根据权利要求5或6所述的掩膜板，其特征在于，所述主孔包括平行于所述预设方向的中心线，...

【专利技术属性】
技术研发人员：黎倩，曾佳，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11