【技术实现步骤摘要】
废液处理装置
本专利技术涉及废液处理装置，其进行加工装置所排出的废液的处理。
技术介绍
在提供加工液而对半导体晶片等被加工物进行加工的加工装置中，排出包含加工屑的加工废液。并且，有一种废液处理装置，其与加工装置连结，从所排出的该加工废液使加工屑沉淀，利用过滤器对加工废液进行过滤而得到水，将该水作为加工液进行再利用(例如参照专利文献1)。专利文献1：日本特开2004-322214号公报但是，存在如下的问题：当沉淀物大量积存于废液处理装置的液槽的底上时，在液槽内，加工屑会再次混合至利用过滤器进行过滤而成为了清水的加工废液中。
技术实现思路
由此，本专利技术的目的在于提供废液处理装置，其进行加工装置所排出的废液的处理，在该废液处理装置中，加工屑不会再次混合至过滤后的加工废液中。根据本专利技术，提供废液处理装置，其与一边提供加工液一边利用加工工具对保持工作台所保持的被加工物进行加工的加工装置连结，该废液处理装置从该加工装置所排出的包含加工屑的加工废液中去除加工屑，其中，该废液处理装置具有：...
【技术保护点】
1.一种废液处理装置，其与一边提供加工液一边利用加工工具对保持工作台所保持的被加工物进行加工的加工装置连结，该废液处理装置从该加工装置所排出的包含加工屑的加工废液中去除加工屑，其中，/n该废液处理装置具有：/n液槽，其储存该加工废液，并且具有入口和出口，该入口将该加工装置所排出的该加工废液导入，该出口将去除了该加工屑的加工废液排出；/n过滤器，其配设于该液槽内，对该加工废液进行过滤；/n集中区域，其具有形成于该液槽内的倾斜面，以使该加工屑向该液槽的底的规定的部分集中地沉淀；以及/n排出单元，其将沉淀于该集中区域的该加工屑排出至该液槽外，/n该废液处理装置利用该排出单元将沉淀...
【技术特征摘要】
20190115 JP 2019-0042711.一种废液处理装置，其与一边提供加工液一边利用加工工具对保持工作台所保持的被加工物进行加工的加工装置连结，该废液处理装置从该加工装置所排出的包含加工屑的加工废液中去除加工屑，其中，
该废液处理装置具有：
液槽，其储存该加工废液，并且具有入口和出口，该入口将该加工装置所排...
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