【技术实现步骤摘要】
火焰还原氧化石墨烯膜的方法及石墨烯膜的制备方法
本专利技术涉及石墨烯膜的制备领域,具体涉及由氧化石墨烯还原的方法。
技术介绍
迄今为止,石墨烯导热膜的制备技术中,采用氧化石墨烯定向组装制备成氧化石墨烯膜,再经过热还原最终得到定向排列的石墨烯导热膜,具有很高的导热系数,导热系数≥1000W/m.K,已经广泛应用在手机、电脑等电子产品中。但是由于氧化石墨烯内含氧官能团在热还原时排出大量的气体,形成毛细气体通道,造成氧化石墨烯膜在热还原的过程中厚度膨胀很厚,膨胀后的厚度是氧化石墨烯膜原膜厚度的2.2~3倍的厚度,降低了热处理设备的产能,热处理的能耗高。因此,解决或减少氧化石墨烯膜在热还原过程中厚度膨胀,是迫不及待的具有重大意义的工作。
技术介绍
部分的内容仅仅是专利技术人所知晓的技术,并不当然代表本领域的现有技术。
技术实现思路
针对现有技术存在问题中的一个或多个,本专利技术提供一种氧化石墨烯膜的还原方法,对氧化石墨烯膜采用火焰烧制的方法进行还原。根据本专利技术的一个方面,所述火焰烧 ...
【技术保护点】
1.一种火焰还原氧化石墨烯膜的方法,其特征在于,对氧化石墨烯膜采用火焰烧制的方法进行还原,使氧化石墨烯膜中的氧化石墨膜膜体中形成毛细气体通道。/n
【技术特征摘要】
1.一种火焰还原氧化石墨烯膜的方法,其特征在于,对氧化石墨烯膜采用火焰烧制的方法进行还原,使氧化石墨烯膜中的氧化石墨膜膜体中形成毛细气体通道。
2.根据权利要求1所述的火焰还原氧化石墨烯膜的方法,其特征在于,所述火焰烧制加热的方法具体为:将氧化石墨烯膜从火焰的上面经过,氧化石墨烯膜接触火焰的外焰处。
3.根据权利要求2所述的火焰还原氧化石墨烯膜的方法,其特征在于,所述火焰的外焰处温度为300-600℃。
4.根据权利要求3所述的火焰还原氧化石墨烯膜的方法法,其特征在于,所述火焰的外焰处温度为400±50℃。
5.根据权利要求2所述的火焰还原氧化石墨烯膜的方法法,其特征在于,所述经过的速度为0.5~5m/min。
6.根据权利要求5所述的火焰还原氧化石墨烯膜的方法,其特征在于,所述经过的速度为1~2m/min。
7.一种石墨烯膜的制备方法,其特征在于,包括:
将氧化石墨烯膜采用如权利要求1-6任一项所述的方法进行火焰还原处理;
再进行高温热还原;和
再进行压实,得到石墨烯膜。
8.根据权利要求7所述的石墨烯膜的制备方法,其特征在于,所述高温热还原的温度为2000~3000℃。
9.根据权利要求7所述的石墨烯膜的制...
【专利技术属性】
技术研发人员:周步存,周仁杰,卢静,唐智,苏冬,
申请(专利权)人:常州富烯科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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