磁场和压力双调节的光栅结构、光栅系统及磁场测量结构技术方案

本发明专利技术涉及磁场和压力双调节的光栅结构、光栅系统及磁场测量结构，主要涉及光学器件领域。该光栅结构中，当需要对光栅结构的光栅常数进行调节的时候，将压力作用于覆盖部，覆盖部在压力的作用下发生形变，向多个条形凸起结构的方向靠近，缩短了多个条形凸起结构与覆盖部之间的距离，即缩短了多个条形凸起结构与多个条形凸起结构相对的反射面的距离，完成对光栅结构光栅常数的调节，并且，在覆盖部在压力的作用下发生形变的时候，将储液腔内的磁流体挤压进该磁流体储存室，使得该储液腔内磁流体的折射率发生改变，进而也对光栅结构光栅常数进行调节，通过对光栅结构光栅常数进行两次调节，使得光栅结构的光栅常数改变，以适应不同需要。

【技术实现步骤摘要】
磁场和压力双调节的光栅结构、光栅系统及磁场测量结构
本专利技术涉及光学器件领域，主要涉及一种磁场和压力双调节的光栅结构、光栅系统及磁场测量结构。
技术介绍
在高反射率的金属上镀上一层金属膜，并在镜面金属膜上刻划一系列平行等宽、等距的刻线，这种使白光反射，又能使光色散的光栅，称为反射光栅。现有技术中的反射光栅，包括平面反射光栅和凹面反射光栅，该平面反射光栅和凹面反射光栅的光栅常数均是固定的，在需要更换光栅常数的光学环境中，需要更换反射光栅。但是，由于反射光栅属于光学器件，较为精细，在反复的更换中容易损坏该反射光栅。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种磁场和压力双调节的光栅结构、光栅系统及磁场测量结构，以解决现有技术中反射光栅属于光学器件，较为精细，在反复的更换中容易损坏该反射光栅的问题。为实现上述目的，本专利技术实施例采用的技术方案如下：第一方面，本申请提供一种磁场和压力双调节的光栅结构，光栅结构包括：衬底、多个条形凸起结构、第一弹性支撑部、第二弹性支本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁场和压力双调节的光栅结构，其特征在于，所述光栅结构包括：衬底、多个条形凸起结构、第一弹性支撑部30、第二弹性支撑部、磁流体储存室、覆盖部和磁流体；多个所述条形凸起结构和所述磁流体储存室分别设置在所述衬底的一侧的两端，且多个所述条形凸起结构平行设置，所述第一弹性支撑部和所述第二弹性支撑部分别设置在多个所述条形凸起结构的两侧，所述覆盖部覆盖在多个所述条形凸起结构远离所述衬底的一侧，且被所述第一弹性支撑部和所述第二弹性支撑部支撑，所述衬底、多个所述条形凸起结构、所述第一弹性支撑部和所述第二弹性支撑部形成储液腔，所述第二弹性支撑部上开设有通孔，所述通孔将所述储液腔与所述磁流体储存室连接，所述...

【技术特征摘要】
1.一种磁场和压力双调节的光栅结构，其特征在于，所述光栅结构包括：衬底、多个条形凸起结构、第一弹性支撑部30、第二弹性支撑部、磁流体储存室、覆盖部和磁流体；多个所述条形凸起结构和所述磁流体储存室分别设置在所述衬底的一侧的两端，且多个所述条形凸起结构平行设置，所述第一弹性支撑部和所述第二弹性支撑部分别设置在多个所述条形凸起结构的两侧，所述覆盖部覆盖在多个所述条形凸起结构远离所述衬底的一侧，且被所述第一弹性支撑部和所述第二弹性支撑部支撑，所述衬底、多个所述条形凸起结构、所述第一弹性支撑部和所述第二弹性支撑部形成储液腔，所述第二弹性支撑部上开设有通孔，所述通孔将所述储液腔与所述磁流体储存室连接，所述储液腔与所述磁流体储存室内均填充有所述磁流体。


2.根据权利要求1所述的磁场和压力双调节的光栅结构，其特征在于，所述磁流体储存室的材料为柔性材料。


3.根据权利要求1所述的磁场和压力双调节的光栅结构，其特征在于，所述光栅结构还包括第一金属膜，所述第一金属膜涂覆在所述覆盖部靠近多个所述条形凸起结构的一侧。


4.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：金华伏安光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33