【技术实现步骤摘要】
废气处理装置
本专利技术涉及废气处理领域，尤其涉及一种废气处理装置。
技术介绍
对于大多数半导体设备而言，以集成电路芯片作为一例，在制造集成电路芯片的过程中会使用很多反应气体和化学产品(chemical)，因此会产生很多工艺废气。人们对环境保护越来越重视，如何将工艺废气妥善处理，避免其污染环境成为工业生产中至关重要的一环。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是，提供一种废气处理装置，其能够避免形成颗粒堆积，延长燃烧室的清洗周期，提高尾气处理能力，增加使用寿命。为了解决上述问题，本专利技术提供了一种废气处理装置，其包括：燃烧室，沿废气传输方向被划分为至少两个区域；燃气输送管路，包括至少两个支路，至少一个所述支路与一个所述区域连通，并能够向所述区域输送燃气。进一步，在所述支路上设置有压力调节装置，以调节所述支路的压力。进一步，所述燃气输送管路还包括混气腔，所述支路与所述混气腔连通，燃气及助燃气体在所述混气腔内形成混合气体，混合气体经所述支路输送至所述燃烧室。进一步，所述...
【技术保护点】
1.一种废气处理装置，其特征在于，包括：/n燃烧室，沿废气传输方向被划分为至少两个区域；/n燃气输送管路，包括至少两个支路，至少一个所述支路与一个所述区域连通，并能够向所述区域输送燃气。/n
【技术特征摘要】
1.一种废气处理装置，其特征在于，包括：
燃烧室，沿废气传输方向被划分为至少两个区域；
燃气输送管路，包括至少两个支路，至少一个所述支路与一个所述区域连通，并能够向所述区域输送燃气。
2.根据权利要求1所述的废气处理装置，其特征在于，在所述支路上设置有压力调节装置，以调节所述支路的压力。
3.根据权利要求1所述的废气处理装置，其特征在于，所述燃气输送管路还包括混气腔，所述支路与所述混气腔连通，燃气及助燃气体在所述混气腔内形成混合气体，混合气体经所述支路输送至所述燃烧室。
4.根据权利要求1所述的废气处理装置，其特征在于，所述燃烧室侧壁具有衬垫，所述衬垫为多孔结构，所述燃气通过所述衬垫的孔输送至所述燃烧室内。
5.根据权利要求4所述的废气处理装置，其特征在于，所述燃烧室具有外壳，所述衬垫设置在所述外壳的内侧壁，所述燃气输送管路的各个支路的燃气出口设置在所述外壳上。
6.根据权利要求1所述的废气处理装置，其特征在于，所述废气处理装置包括...
【专利技术属性】
技术研发人员：王伟，陈涛，程媛，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42
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