一种多孔硼亲和印迹聚合物及其制备方法和应用技术

本发明专利技术提供了一种多孔硼亲和印迹聚合物及其制备方法和应用，属于先进化工分离材料技术领域；通过将皮克林高内相乳液与硼亲和分子印迹聚合物相结合，制备得到的印迹聚合物可以有效避免纳米片吸附剂的堆叠，从而改善吸附分离效果，在富集水中的邻苯二酚领域中有着很好的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种多孔硼亲和印迹聚合物及其制备方法和应用
本专利技术属于先进化工分离材料
，涉及一种多孔硼亲和印迹聚合物及其制备方法和应用。
技术介绍
邻苯二酚是一种具有邻二羟基结构的酚类内分泌干扰物，主要存在于化妆品、染料、农药和制药工业的废水中，其在生态环境中具有很高的毒性和抗降解性。同时，由其自氧化作用形成的活性自由基，在人体中可使神经细胞和心肌细胞甚至DNA受到损害，进而引起致癌、致畸性等问题。因此，需要对环境水体或饮用水中的邻苯二酚进行选择性分离富集。硼亲和材料因为对含有邻二羟基的化合物具有独特的亲和性，而被用于邻苯二酚的分离富集。然而硼亲和材料仅仅能够用于富集具有邻二羟基结构的一类物质，难以实现对复杂样品中靶向邻苯二酚分子的识别与分离。分子印迹技术是一种在分子水平上模拟抗原-抗体特异性结合的材料制备技术，通过在制备材料的过程中将模板分子“镶嵌”在材料中，再将模板分子洗去，可形成与分子特异性结合的空穴，实现目标分子的特异性识别。现有技术中的硼亲和分子印迹聚合物一般为纳米颗粒，在吸附分离过程中难收集且易流失。专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多孔硼亲和印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：/n（1）合成10%的聚苯乙烯-马来酸酐(HSMA)表面活性剂；/n（2）合成雅努斯纳米片(NS-1)；/n（3）NS-1 皮克林高内相乳液模板制备多孔聚合物(NS-1-HIPEs)：/n将NS-1、吐温-80加入到蒸馏水中，均匀超声，依次加入丙烯酰胺、N,N-亚甲基双丙烯酰胺和过硫酸铵，搅拌使水相充分分散均匀；在搅拌下缓缓滴加液体石蜡，持续搅拌获得皮克林高内相乳液模板，水浴反应；反应后将产物取出，利用丙酮进行索氏提取，两天后分别用蒸馏水与乙醇对产物洗涤、烘干，得到块状产物NS-1-HIPEs；/n（4）制备多孔硼亲和印迹吸附剂...

【技术特征摘要】
1.一种多孔硼亲和印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
（1）合成10%的聚苯乙烯-马来酸酐(HSMA)表面活性剂；
（2）合成雅努斯纳米片(NS-1)；
（3）NS-1皮克林高内相乳液模板制备多孔聚合物(NS-1-HIPEs)：
将NS-1、吐温-80加入到蒸馏水中，均匀超声，依次加入丙烯酰胺、N,N-亚甲基双丙烯酰胺和过硫酸铵，搅拌使水相充分分散均匀；在搅拌下缓缓滴加液体石蜡，持续搅拌获得皮克林高内相乳液模板，水浴反应；反应后将产物取出，利用丙酮进行索氏提取，两天后分别用蒸馏水与乙醇对产物洗涤、烘干，得到块状产物NS-1-HIPEs；
（4）制备多孔硼亲和印迹吸附剂(NS-1-MIPs)：
以NS-1-HIPEs为基质，在纳米片外表面接枝硼亲和印迹聚合物。


2.根据权利要1所述的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，所述NS-1、吐温-80、蒸馏水的用量比为150-300mg：5-50μL：1-10mL。

...

【专利技术属性】
技术研发人员：何沛谚，潘建明，刘金鑫，
申请(专利权)人：江苏大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32