一种不易脏污的日用陶瓷制品及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种不易脏污的日用陶瓷制品，包括日用陶瓷坯体和釉面层，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：钠长石粉20～30份、莫来石粉12～16份、二氧化硅27～35份、钠基累托石粘土9～12份、烧滑石粉6～8份、硅灰石晶须5～7份、累托石粉3～4.5份、独居石粉5.5～7.5份、硅酸钠3～4份、氧化钛5～6份、氧化锌2～2.5份、氧化钡2.4～3.2份、高硼熔块3～5份。本发明专利技术的不易脏污的日用陶瓷制品的釉面平整、光滑且细腻，质感好，无釉孔；不易脏污，脏污后容易清洁；且耐磨性能好，硬度高；表面粗糙度低，平整光滑度高，不易脏污，脏污后容易清洁；表面无釉孔等缺陷，外观光亮精美。

【技术实现步骤摘要】
一种不易脏污的日用陶瓷制品及其制备方法
本专利技术涉及陶瓷制品领域，具体涉及一种不易脏污的日用陶瓷制品及其制备方法。
技术介绍
日用陶瓷的产生可以说是因为人们对日常生活的需求而产生的，日常生活中人们接触最多，也是最熟悉的瓷器，如餐具、茶具、咖啡具、酒具、饭具等。陶瓷制品是人们日常生活中最常见的器具之一，陶瓷的发展史是中华文明史的一个重要的组成部分，其中陶瓷的专利技术和发展更具有独特的意义，随着近代科学技术的发展，近百年来又出现了许多新的陶瓷品种，它们不再使用或很少使用粘土、长石、石英等传统陶瓷原料，而是使用其他特殊原料，甚至扩大到非硅酸盐，非氧化物的范围，并且出现了许多新的工艺，使陶瓷具有了各种各样的特殊功能。但是，目前所使用的日用陶瓷制品还存在以下问题：1、表面粗糙度较高，不够平整光滑细腻，甚至有少量的釉泡等缺陷，导致日用陶瓷制品容易脏污，且脏污后难以清洁；2、表面的耐磨性能较差，硬度较低，在使用过程中，容易造成表面刮花，进而导致日用陶瓷制品容易脏污，且脏污后难以清洁。3、外观、强度等综合性能较差。
技术实现思路
基于上述情况，本专利技术的目的在于提供一种不易脏污的日用陶瓷制品及其制备方法，可有效解决以上问题。为解决以上技术问题，本专利技术提供的技术方案是：一种不易脏污的日用陶瓷制品，包括日用陶瓷坯体和釉面层，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：钠长石粉20～30份、莫来石粉12～16份、二氧化硅27～35份、r>钠基累托石粘土9～12份、烧滑石粉6～8份、硅灰石晶须5～7份、累托石粉3～4.5份、独居石粉5.5～7.5份、硅酸钠3～4份、氧化钛5～6份、氧化锌2～2.5份、氧化钡2.4～3.2份、高硼熔块3～5份。本专利技术的不易脏污的日用陶瓷制品通过精选所述釉面层的原料组成，并优化各原料含量，既充分发挥各原料的优点，又相互补充，相互促进，提升产品的质量稳定性，制得的不易脏污的日用陶瓷制品的釉面平整、光滑且细腻，质感好，无釉孔；不易脏污，脏污后容易清洁；且耐磨性能好，硬度高，清洗本专利技术的不易脏污的日用陶瓷制品的表面污渍时，不易造成刮花等损坏，更好地保证了产品的不易脏污性能；表面粗糙度低，平整光滑度高，不易脏污，脏污后容易清洁；表面无釉孔等缺陷，外观光亮精美。优选的，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：钠长石粉25份、莫来石粉14份、二氧化硅31份、钠基累托石粘土10.5份、烧滑石粉7份、硅灰石晶须6份、累托石粉3.8份、独居石粉6.5份、硅酸钠3.5份、氧化钛5.5份、氧化锌2.3份、氧化钡2.7份、高硼熔块4份。本专利技术的不易脏污的日用陶瓷制品中所述日用陶瓷坯体，可以是本领域常用的日用陶瓷坯体，如素烧日用陶瓷坯体，也可以是没有经过的素烧的(沥干的)日用陶瓷坯体。优选的，所述日用陶瓷坯体由包括以下重量份的原料制成：石英粉40～47份、钠长石粉25～30份、莫来石粉7～10份、钠基累托石粘土14～18份、硅灰石晶须6～8.5份、滑石粉5～7份、硅酸钠3～5份。本专利技术的不易脏污的日用陶瓷制品通过精选所述日用陶瓷坯体的原料组成，并优化各原料含量，既充分发挥各原料的优点，又相互补充，相互促进，提升产品的质量稳定性，制得的不易脏污的日用陶瓷制品的抗弯强度高达327Mpa，抗压强度高到911Mpa，具有高强度，力学性能优异。优选的，所述日用陶瓷坯体由包括以下重量份的原料制成：石英43.5份、钠长石粉27.5份、莫来石粉8.5份、钠基累托石粘土16份、硅灰石晶须7.8份、滑石粉6份、硅酸钠4份。优选的，所述二氧化硅为纳米二氧化硅。优选的，所述氧化钛为纳米二氧化钛。优选的，所述高硼熔块的硼含量为11～14％，铅含量小于0.01％。优选的，所述莫来石粉、独居石粉和累托石粉的粒度均为4000～5000目。本专利技术还提供一种所述的不易脏污的日用陶瓷制品的制备方法，包括下列步骤：A、按重量份分别称取所述日用陶瓷坯体的各原料，备用；B、将石英、钠长石粉、莫来石粉、钠基累托石粘土、硅灰石晶须、滑石粉和硅酸钠混合后，加入水，进行球磨，并调节固含量，形成固含量为65～68％的坯浆；C、然后依次进行除泡，粗坯定型，自然阴干，利坯，得到生坯；D、逐渐升温至620～660℃，将生坯烧制3～4h；随炉冷却，得到所述日用陶瓷坯体；E、按重量份分别称取所述釉面层的原料，备用；F、将钠长石粉、莫来石粉、二氧化硅、钠基累托石粘土、烧滑石粉、硅灰石晶须、累托石粉、独居石粉、硅酸钠、氧化钛、氧化锌、氧化钡和高硼熔块置于高细球磨机中，加入水，进行研磨混合，并调节固含量，形成固含量为62～64％的釉料；G、将步骤F得到的釉料施釉至步骤D的所述日用陶瓷坯体表面，晾干后，得到施釉日用陶瓷坯体；H、将所述施釉日用陶瓷坯体逐渐升温至680～720℃，烧制1.5～2h；然后再升温至1080～1120℃，继续烧制3～4h；最后降温至600～620℃，保温1.5～2h；随炉冷却，得到所述不易脏污的日用陶瓷制品。本专利技术与现有技术相比，具有以下优点及有益效果：本专利技术的不易脏污的日用陶瓷制品通过精选所述釉面层的原料组成，并优化各原料含量，既充分发挥各原料的优点，又相互补充，相互促进，提升产品的质量稳定性，制得的不易脏污的日用陶瓷制品的釉面平整、光滑且细腻，质感好，无釉孔；不易脏污，脏污后容易清洁；且耐磨性能好，硬度高，清洗本专利技术的不易脏污的日用陶瓷制品的表面污渍时，不易造成刮花等损坏，更好地保证了产品的不易脏污性能；表面粗糙度低，平整光滑度高，不易脏污，脏污后容易清洁；表面无釉孔等缺陷，外观光亮精美。此外，经测试，在本专利技术的不易脏污的日用陶瓷制品的表面采用油性记号笔画5*10mm的记号，用毛巾轻轻擦拭2-4遍，即可清洁干净，印证了本专利技术的不易脏污的日用陶瓷制品，不易脏污，脏污后容易清洁。本专利技术的不易脏污的日用陶瓷制品通过精选所述日用陶瓷坯体的原料组成，并优化各原料含量，既充分发挥各原料的优点，又相互补充，相互促进，提升产品的质量稳定性，制得的不易脏污的日用陶瓷制品的抗弯强度高达327Mpa，抗压强度高到911Mpa，具有高强度，力学性能优异。本专利技术的不易脏污的日用陶瓷制品所述釉面层的原料中添加了适当比例的莫来石粉，与适当比例的钠长石粉、二氧化硅、钠基累托石粘土、烧滑石粉、硅灰石晶须、累托石粉、独居石粉、硅酸钠相互配合，提升了本专利技术产品的耐磨性能、硬度以及表面粗糙度等，保证了产品的耐磨性能好、硬度高，清洗本专利技术的不易脏污的日用陶瓷制品的表面污渍时，不易造成刮花等损坏，更好地保本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种不易脏污的日用陶瓷制品，其特征在于，包括日用陶瓷坯体和釉面层，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：/n钠长石粉20～30份、莫来石粉12～16份、二氧化硅27～35份、钠基累托石粘土9～12份、烧滑石粉6～8份、硅灰石晶须5～7份、累托石粉3～4.5份、独居石粉5.5～7.5份、硅酸钠3～4份、氧化钛5～6份、氧化锌2～2.5份、氧化钡2.4～3.2份、高硼熔块3～5份。/n

【技术特征摘要】
1.一种不易脏污的日用陶瓷制品，其特征在于，包括日用陶瓷坯体和釉面层，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：
钠长石粉20～30份、莫来石粉12～16份、二氧化硅27～35份、钠基累托石粘土9～12份、烧滑石粉6～8份、硅灰石晶须5～7份、累托石粉3～4.5份、独居石粉5.5～7.5份、硅酸钠3～4份、氧化钛5～6份、氧化锌2～2.5份、氧化钡2.4～3.2份、高硼熔块3～5份。


2.根据权利要求1所述的不易脏污的日用陶瓷制品，其特征在于，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：
钠长石粉25份、莫来石粉14份、二氧化硅31份、钠基累托石粘土10.5份、烧滑石粉7份、硅灰石晶须6份、累托石粉3.8份、独居石粉6.5份、硅酸钠3.5份、氧化钛5.5份、氧化锌2.3份、氧化钡2.7份、高硼熔块4份。


3.根据权利要求1所述的不易脏污的日用陶瓷制品，其特征在于，所述日用陶瓷坯体由包括以下重量份的原料制成：
石英粉40～47份、钠长石粉25～30份、莫来石粉7～10份、钠基累托石粘土14～18份、硅灰石晶须6～8.5份、滑石粉5～7份、硅酸钠3～5份。


4.根据权利要求1所述的不易脏污的日用陶瓷制品，其特征在于，所述日用陶瓷坯体由包括以下重量份的原料制成：
石英43.5份、钠长石粉27.5份、莫来石粉8.5份、钠基累托石粘土16份、硅灰石晶须7.8份、滑石粉6份、硅酸钠4份。


5.根据权利要求1所述的不易脏污的日用陶瓷制品，其特征在于，所述二氧化硅为纳米二氧化硅。


6.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李桂贤，刁龙海，孙秋丽，
申请(专利权)人：福建省德化县合和陶瓷技术开发有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35