【技术实现步骤摘要】
一种提纯多维纳米材料的方法及其装置
本专利技术涉及多维纳米金属粉体制备,半导体芯片封装互连领域,尤其涉及一种纯多维纳米材料的方法及其装置。
技术介绍
纳米材料的化学制备合成主要分为自上而下和自下而上两种,“自上而下”的方法:将较大尺寸(从微米级到厘米级)的物质通过各种刻蚀技术来制备我们所需要的纳米结构,其优点在于可以很方便的制备各种奇异的三维结构;“自下而上”则是将一些较小的结构单元(如原子、分子、纳米粒子等)通过弱的相互作用自组装构成纳米尺度上相对较大,较复杂的结构体系,其优点是节省材料,可以控制形貌,材料厚度等,缺点则是合成困难。但是无论是自上而下还是自下而上制备多维纳米材料,在制备的过程中往往都伴随副产物的出现。例如,以银纳米线的制备合成为例,在银纳米线的制备过程中,副产物纳米颗粒以及纳米短棒的形成是不可避免的,这是由于晶核的形成不是瞬时的,当银原子在晶核表面取向生长受限时,晶核会沿多条路径生长因而导致副产物的形成。此外,一些表面活性剂如PVP以及金属盐也存在于反应产物中,如果不对其提纯处理而直接使用,会大大降低器件中 ...
【技术保护点】
1.一种提纯多维纳米材料的装置,其特征在于,包括过滤缸、搅拌装置、溶液注入系统、滤液流出收集系统,所述过滤缸由过滤底座、过滤骨架以及附着在过滤骨架上的滤膜组成,所述滤膜通过过滤骨架固定在过滤底座上,与过滤底座垂直。/n
【技术特征摘要】
1.一种提纯多维纳米材料的装置,其特征在于,包括过滤缸、搅拌装置、溶液注入系统、滤液流出收集系统,所述过滤缸由过滤底座、过滤骨架以及附着在过滤骨架上的滤膜组成,所述滤膜通过过滤骨架固定在过滤底座上,与过滤底座垂直。
2.如权利要求1所述的提纯多维纳米材料的装置,其特征在于,所述滤膜滤孔尺寸为100nm~10μm。
3.如权利要求1所述的提纯多维纳米材料的装置,其特征在于,所述搅拌装置包括电动马达和与所述电动马达相连的搅拌桨。
4.如权利要求3所述的提纯多维纳米材料的装置,其特征在于,所述搅拌桨选自单螺杆螺旋桨、双螺旋桨、多孔搅拌桨的一种。
5.如权利要求3所述的提纯多维纳米材料的装置,其特征在于,所述电动马达与所述搅拌桨相连以在提纯中搅拌产生离心力,提供纳米材料在滤膜上滤出副产物的过滤压力。
6.如权利要求1所述的提纯多维纳米材料的装置,其特征在于,所述溶液注入系统在搅拌过滤时注入置换溶剂,以保证过滤过程中搅拌离心过滤缸内多维纳米材料...
【专利技术属性】
技术研发人员:唐宏浩,叶怀宇,张国旗,
申请(专利权)人:深圳第三代半导体研究院,
类型:发明
国别省市:广东;44
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