一种管式PECVD净化台设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种管式PECVD净化台设备，包括主框架、上下料系统、输送滑台和缓存架，缓存架设于主框架内，且缓存架包括多层用于存放石墨舟的缓存位，主框架对应每层缓存位设有反应炉对接窗口，输送滑台设于主框架的底部用于输送石墨舟进出主框架，上下料系统包括三轴移动模组和设于三轴移动模组上的托舟机构，三轴移动模组用于驱动托舟机构与输送滑台对接、用于驱动托舟机构与各缓存位对接以及用于驱动托舟机构穿过反应炉对接窗口进出对应的反应炉内。本实用新型专利技术仅通过一个三轴上下料系统，可实现PECVD设备石墨舟进出反应炉、缓存架及输送滑台全部动作，简化了设备结构的复杂性，优化了设备内部操作空间布局，提升石墨舟传送速度。

【技术实现步骤摘要】
一种管式PECVD净化台设备
本技术涉及太阳能电池制备设备，尤其涉及一种管式PECVD净化台设备。
技术介绍
PECVD(等离子增强化学气相沉积)设备主要利用等离子体聚合法在太阳能电池片上沉积形成氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。而太阳能电池片进出PECVD反应炉由石墨舟进行装载，石墨舟在设备内部主要由推舟机构及上下料机械手实现其从反应炉到缓存架及滑台等位置的循环运动。目前，PECVD设备一般有多管同时进行氮化硅减反射膜沉积工艺，每管之间的化学气相沉积反应是相互独立的，以目前常用的传统五管PECVD设备为例，每一管由一个单独的推舟机构负责石墨舟进出反应炉，该推舟机构具有两套电机系统用于实现石墨舟进出反应炉的上下和前进后退运动，五套推舟即配备十套电机及伺服驱动系统；同时，石墨舟在设备内部的流转(比如石墨舟出炉后上缓存架冷却、石墨舟通过滑台进入插片机插取硅片等动作)仍需配备一套专门的上下料机械手机构，该上下料机械手机构具有三套电机及伺服驱动系统用于实现五管推舟之间的竖直运动以及滑台、缓存架及推舟间的横向运动，导致其具有结构复杂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种管式PECVD净化台设备，其特征在于：包括主框架(1)、上下料系统、输送滑台(2)和缓存架(3)，所述缓存架(3)设于主框架(1)内，且缓存架(3)包括多层用于存放石墨舟(4)的缓存位(31)，所述主框架(1)对应每层缓存位(31)设有反应炉对接窗口(11)，所述输送滑台(2)设于主框架(1)的底部用于输送石墨舟(4)进出主框架(1)，所述上下料系统包括三轴移动模组(5)和设于三轴移动模组(5)上的托舟机构(6)，所述三轴移动模组(5)用于驱动托舟机构(6)与输送滑台(2)对接、用于驱动托舟机构(6)与各缓存位(31)对接以及用于驱动托舟机构(6)穿过反应炉对接窗口(11)进出对应的反...

【技术特征摘要】
1.一种管式PECVD净化台设备，其特征在于：包括主框架(1)、上下料系统、输送滑台(2)和缓存架(3)，所述缓存架(3)设于主框架(1)内，且缓存架(3)包括多层用于存放石墨舟(4)的缓存位(31)，所述主框架(1)对应每层缓存位(31)设有反应炉对接窗口(11)，所述输送滑台(2)设于主框架(1)的底部用于输送石墨舟(4)进出主框架(1)，所述上下料系统包括三轴移动模组(5)和设于三轴移动模组(5)上的托舟机构(6)，所述三轴移动模组(5)用于驱动托舟机构(6)与输送滑台(2)对接、用于驱动托舟机构(6)与各缓存位(31)对接以及用于驱动托舟机构(6)穿过反应炉对接窗口(11)进出对应的反应炉内。


2.根据权利要求1所述的管式PECVD净化台设备，其特征在于：所述三轴移动模组(5)包括X轴移动模块(51)、Y轴移动模块(52)和Z轴移动模块(53)，所述Y轴移动模块(52)设于Z轴移动模块(53)的滑块上，所述X轴移动模块(51)设于Y轴移动模块(52)的滑块上，所述托舟机构(6)设于X轴移动模块(51)的滑块上。


3.根据权利要求2所述的管式PECVD净化台设备，其特征在于：所述Z轴移动模块(53)设置两组，所述Y轴移动模块(52)设置两组，两组Y轴移动模块(52)分别设于...

【专利技术属性】
技术研发人员：周佑丞，张春成，李晔纯，成秋云，吴得轶，
申请(专利权)人：湖南红太阳光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南;43