二维布拉格周期扫描成像系统技术方案

本发明专利技术涉及光学成像领域，公开了一种二维布拉格周期扫描成像系统，包括二维成像元件、成像镜组和二维布拉格扫描机构，二维成像元件上设有由若干像素点组成的像素阵列；二维布拉格扫描机构分别与二维成像元件和/或成像镜组连接，用于驱动二维成像元件和/或成像镜组振动以实现微扫描的目的；二维成像元件和/或成像镜组的振动在平行于所述像素阵列平面上的分量不为0。本发明专利技术的系统通过振动微扫描的方式可以用低像素密度、低像素数量的元器件实现超高像素成像的功能；在二维成像元件存在像素坏点的情况下也可以正常使用；同时生产良品率和成本优势明显优于同类产品。

【技术实现步骤摘要】
二维布拉格周期扫描成像系统
本专利技术涉及光学成像领域，尤其是涉及一种二维布拉格周期扫描成像系统。
技术介绍
对于二维成像设备来说分辨率是关系成像质量的一个至关重要的参数。二维成像设备从最初的480P发展到720P再到1080P成像质量得到了大幅度的提升。但是随着人们对大尺寸超高清成像的追求，常规的成像技术已经很难满足这种苛刻的要求了。一方面成像质量的提升往往会导致像素数量成平方倍形式增加，像素数量的剧增对加工工艺提出了极大的挑战，大大增加了制造难度；另一方面随着像素数量的增加，像素坏点的概率也大幅增加，良品率大打折扣，导致高品质成像设备生产成本一直居高不下，甚至一些高端的产品只有少数几个公司可以生产。因此，亟需一种可以用低像素密度、低像素数量的元器件实现超高像素成像的功能的显示方案，最好可以实现像素坏点存在的情况下也能正常使用。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题就在于：针对上述现有技术的不足，提供一种二维布拉格周期扫描成像系统，通过二维布拉格扫描机构的设置，驱动系统在成像过程中进行振动微扫描，从而提本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.二维布拉格周期扫描成像系统，其特征在于，包括：/n二维成像元件(1)，其上设有由若干像素点组成的像素阵列，所述像素阵列所在平面为像素阵列平面；/n成像镜组(2)；以及/n二维布拉格扫描机构(3)，分别与二维成像元件(1)和/或成像镜组(2)连接，用于驱动二维成像元件(1)和/或成像镜组(2)振动以实现微扫描的目的；/n其中，二维成像元件(1)和/或成像镜组(2)的振动在平行于所述像素阵列平面上的分量不为0。/n

【技术特征摘要】
1.二维布拉格周期扫描成像系统，其特征在于，包括：
二维成像元件(1)，其上设有由若干像素点组成的像素阵列，所述像素阵列所在平面为像素阵列平面；
成像镜组(2)；以及
二维布拉格扫描机构(3)，分别与二维成像元件(1)和/或成像镜组(2)连接，用于驱动二维成像元件(1)和/或成像镜组(2)振动以实现微扫描的目的；
其中，二维成像元件(1)和/或成像镜组(2)的振动在平行于所述像素阵列平面上的分量不为0。


2.根据权利要求1所述的二维布拉格周期扫描成像系统，其特征在于：所述二维成像元件(1)和/或成像镜组(2)的振动在平行于所述像素阵列平面上的分量可以分解为两个互相垂直的子运动，包括与二维成像元件(1)的像素阵列的行平行的第一子运动以及与二维成像元件(1)的像素阵列的列平行的第二子运动，所述第一子运动频率为f1，第二子运动的频率为f2，且f1和f2均大于6Hz。


3.根据权利要求2所述的二维布拉格周期扫描成像系统，其特征在于：所述像素阵列的行的长度为Lmm、行间相邻像素点之间的距离或者平均距离为a1mm，所述像素阵列的列的长度为Wmm、列间相邻像素点之间的距离或者平均距离为a2mm，所述第一子运动的振幅为ΔLmm，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：王广军，余为伟，
申请(专利权)人：荆门市探梦科技有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42