一种低温相锰铋薄膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种低温相锰铋薄膜的制备方法，采用磁控溅射方法共溅射沉积锰铋，然后将所得薄膜进行后期退火处理，保温完成后采用快速降温过程，得到低温相锰铋薄膜。本发明专利技术还公开使用这种制备方法制得的低温相锰铋薄膜。本发明专利技术通过降温速率的增加，使得过冷度增大，导致非自发成核能力降低，形核数目增加，因此晶粒尺寸和颗粒尺寸都变小。而这两个数据的减小则会提高翻转过程以钉扎作用为主要机制的材料的矫顽力。

【技术实现步骤摘要】
一种低温相锰铋薄膜及其制备方法
本专利技术涉及无稀土永磁材料制备
，具体涉及一种低温相锰铋薄膜及其制备方法。
技术介绍
由于具有高矫顽力和高磁能积等优异的磁学性质，稀土永磁材料在实现磁性元器件高效能、小型化、轻重量等方面有着不可或缺的作用，因此被广泛应用于能源、汽车、家电、轨道交通、航空航天、军事武器等各个领域。随着科学技术的发展和稀土性能的进一步研发以及环保意识的增强，稀土材料的应用领域会更加广泛，其发展已成为衡量一个国家和地区科技创新水平的风向标。但稀土资源毕竟是不可再生资源，加上随着政府行为的介入造成的使用成本的大幅度提高，开发低成本高性能的新型低稀土或无稀土永磁材料逐渐成为各国研究者关注的焦点。在诸多新开发的无稀土永磁候选材料中，锰铋合金由于具有优异的性能而备受关注。首先锰铋合金中不包含稀土和贵金属元素，其次锰铋合金的磁学性能颇具吸引力。锰铋合金有多种晶相，其中低温相锰铋即LTP-MnBi合金具有独特的异于其他候选材料的性能，即有大的垂直各向异性和正的矫顽力-温度系数。在一定温度范围内，温度越高，矫顽力越大。高温时MnBi本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低温相锰铋薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：对镀覆在基片上的锰铋薄膜进行退火，所述退火中的降温过程为快速降温，降温速率为4.0-6.0℃/min，制得低温相锰铋薄膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种低温相锰铋薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：对镀覆在基片上的锰铋薄膜进行退火，所述退火中的降温过程为快速降温，降温速率为4.0-6.0℃/min，制得低温相锰铋薄膜。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述快速降温是让锰铋薄膜在真空状态由空气进行降温。


3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述退火还包括将锰铋薄膜以2.0-12.0℃/min的升温速率升温至360-390℃，并在该温度下保温20min-2h。


4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述退火时的真空不高于6×10-4Pa。


5.根据权利要求1-4中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述锰铋薄膜的镀覆方法是使用工作气体同时轰击锰靶和铋靶，通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦秀芳，许小红，邸兰欣，睢彩云，赵睿，
申请(专利权)人：山西师范大学，
类型：发明
国别省市：山西;14