基于涡流效应的莱顿弗罗斯特点测量及威尔逊云室演示仪制造技术

本实用新型专利技术涉及教学演示仪器技术领域，且公开了基于涡流效应的莱顿弗罗斯特点测量及威尔逊云室演示仪，包括电路室，所述电路室的顶部栓接有反应室，所述反应室的顶部栓接有限流器，所述反应室顶部的两侧均连通有通孔，所述反应室通过左侧的通孔连通有活塞管，所述活塞管的内侧活动连接有活塞，所述反应室通过右侧的通孔与限流器连通，所述反应室内壁的底部设置有铜片，所述反应室内壁的顶部栓接有半导体制冷片；本实用新型专利技术通过铜片、半导体制冷片和金属片的设置，可以让已经汽化的液体迅速液化，再次滴落到铜片上，从而反复演示莱顿弗罗斯特效应，可以作为莱顿弗罗斯特效应的教学演示仪，演示效果较好。

【技术实现步骤摘要】
基于涡流效应的莱顿弗罗斯特点测量及威尔逊云室演示仪
本技术涉及教学演示仪器
，具体为基于涡流效应的莱顿弗罗斯特点测量及威尔逊云室演示仪。
技术介绍
在生活中存在着各种各样的物理现象，为了让人们更加直观的理解这些现象我们越来越多的物理教学演示仪产生了。众所周知，牛顿发现了万有引力，因此我们有了万有引力演示仪；然而生活中还有许许多多的其他的物理现象例如莱顿弗洛斯特现象，当我们把水滴落在滚烫的铁板上，假如铁板的温度仅高于水的沸点（100°C），水会发出嘶嘶声并迅速沸腾。但当铁板到达莱顿弗罗斯时，水便会产生莱顿弗罗斯特现象。水珠会在铁板四处滚动，并缓慢地逐渐蒸发，反而令水珠可以存在更久。在莱顿弗罗斯特现象下，水珠中跟铁板接触的部分会迅速沸腾形成水蒸气，与此同时水珠尚保持液体的状态，由于水蒸气的传热比液体水慢得多，蒸气层阻隔水直接接触滚烫铁板并大大降低水滴沸腾的速度。还有我们熟知的涡流效应，当金属位于高频的交变磁场中时，其内部会产生涡流从而加热，以及威尔逊云室，当高能粒子通过过饱和的乙醇蒸汽时，射进云室的高能粒子引起的离子在过饱和蒸汽中可成为蒸汽的凝结中心，围绕着离子生成微小的液滴，于是粒子经过的路径上就出现一条白色的雾，我们通过观察水雾的轨迹即可观察到粒子的运动轨迹。而我们的作品巧妙的将这些物理现象用译者实验装置即可完全的演示出来，并且我们的产品提出了一种新的方法用来测量莱顿弗罗斯特效应点。
技术实现思路
本技术的目的在于提供基于涡流效应的莱顿弗罗斯特点测量及威尔逊云室演示仪，具备将多个物理现象融为了一起，例如涡流、莱顿弗罗斯特效应、威尔逊云室、热电效应，使得这些物理现象可以通过一个装置来进行观察和演示的优点，解决了在演示各种物料现象时需要使用较多的教学演示仪器，不仅造成了浪费，使用还不够方便的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：基于涡流效应的莱顿弗罗斯特点测量及威尔逊云室演示仪，包括电路室，所述电路室的顶部栓接有反应室，所述反应室的顶部栓接有限流器，所述反应室顶部的两侧均连通有通孔，所述反应室通过左侧的通孔连通有活塞管，所述活塞管的内侧活动连接有活塞，所述反应室通过右侧的通孔与限流器连通，所述反应室内壁的底部设置有铜片，所述反应室内壁的顶部栓接有半导体制冷片，所述反应室的内壁并位于半导体制冷片的底部设置有金属片，所述半导体制冷片的中心处贯穿设置有线路导管，所述线路导管的底端依次贯穿金属片和铜片至电路室的内侧，两个通孔的底端均依次贯穿半导体制冷片和金属片至金属片的底部，所述反应室的表面并位于铜片的外侧设置有螺纹线圈，所述电路室的内部安装有零电压开关和变阻器，所述零电压开关的输出端与变阻器电性连接，所述螺纹线圈的两端均贯穿至电路室的内侧与变阻器电性连接，所述电路室的左侧安装有与变阻器配合使用的调节旋钮，所述线路导管的表面并位于铜片的顶部安装有激光发射器。优选的，所述限流器包括液体容器，所述液体容器的顶部开设有活动孔，所述液体容器通过活动孔贯穿设置有空心玻璃棒，所述液体容器的侧面开设有连接孔，所述液体容器通过连接孔连通有导管，所述导管的另一端通过通孔与反应室连通。优选的，所述螺纹线圈为空心结构，所述电路室的内部栓接有水泵和水箱，所述水泵的入水口与水箱连通，所述水泵的出水口通过管道与螺纹线圈的一端连通，所述螺纹线圈的另一端通过管道与水箱连通。优选的，所述导管远离液体容器一端的直径小于导管靠近液体容器一端的直径。优选的，所述反应室由透明材料制成。优选的，所述电路室的底部栓接有底座。与现有技术相比，本技术的有益效果如下：本技术通过铜片、半导体制冷片和金属片的设置，可以让已经汽化的液体迅速液化，再次滴落到铜片上，从而反复演示莱顿弗罗斯特效应，可以作为莱顿弗罗斯特效应的教学演示仪，演示效果较好；本技术通过螺纹线圈和铜片的设置，高频交流电使螺纹线圈中产生高频的交变磁场从而使其中的金属产生涡流，加热速度快，s左右可加热-摄氏度，加热效率高；本技术通过激光发射器的设置，通过改变激光路径来完成莱顿弗罗斯特效应点测量，这是一种新的莱顿弗罗斯特效应点测量方法。附图说明图1为本技术结构示意图；图2为本技术反应室正视剖视图；图3为本技术液体容器和空心玻璃棒正视剖视图；图4为本技术导管左视示意图；图5为本技术活塞管正视剖视图；图6为本技术电路室正视剖视图；图7为本技术电路图。图中：1、电路室；2、反应室；3、限流器；31、液体容器；32、空心玻璃棒；33、导管；4、活塞管；5、铜片；6、半导体制冷片；7、金属片；8、线路导管；9、螺纹线圈；10、零电压开关；11、变阻器；12、水泵；13、水箱；14、激光发射器。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-7所示，基于涡流效应的莱顿弗罗斯特点测量及威尔逊云室演示仪，包括电路室1，电路室1的顶部栓接有反应室2，反应室2的顶部栓接有限流器3，反应室2顶部的两侧均连通有通孔，反应室2通过左侧的通孔连通有活塞管4，活塞管4的内侧活动连接有活塞，反应室2通过右侧的通孔与限流器3连通，反应室2内壁的底部设置有铜片5，反应室2内壁的顶部栓接有半导体制冷片6，反应室2的内壁并位于半导体制冷片6的底部设置有金属片7，半导体制冷片6的中心处贯穿设置有线路导管8，线路导管8的底端依次贯穿金属片7和铜片5至电路室1的内侧，两个通孔的底端均依次贯穿半导体制冷片6和金属片7至金属片7的底部，反应室2的表面并位于铜片5的外侧设置有螺纹线圈9，电路室1的内部安装有零电压开关10和变阻器11，零电压开关10的输出端与变阻器11电性连接，螺纹线圈9的两端均贯穿至电路室1的内侧与变阻器11电性连接，电路室1的左侧安装有与变阻器11配合使用的调节旋钮，线路导管8的表面并位于铜片5的顶部安装有激光发射器14。请参阅图1和图2所示，限流器3包括液体容器31，液体容器31的顶部开设有活动孔，液体容器31通过活动孔贯穿设置有空心玻璃棒32，液体容器31的侧面开设有连接孔，液体容器31通过连接孔连通有导管33，导管33的另一端通过通孔与反应室2连通，通过设置限流器3，使得空心玻璃棒32可对液体的流速进行控制。请参阅图6所示，螺纹线圈9为空心结构，电路室1的内部栓接有水泵12和水箱13，水泵12的入水口与水箱13连通，水泵12的出水口通过管道与螺纹线圈9的一端连通，螺纹线圈9的另一端通过管道与水箱13连通，通过设置水泵12和水箱13，可起到对螺纹线圈9的冷却作用，防止螺纹线圈9长时间运行温度过高。请参阅图4所示，导管33本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.基于涡流效应的莱顿弗罗斯特点测量及威尔逊云室演示仪，包括电路室（1），其特征在于：所述电路室（1）的顶部栓接有反应室（2），所述反应室（2）的顶部栓接有限流器（3），所述反应室（2）顶部的两侧均连通有通孔，所述反应室（2）通过左侧的通孔连通有活塞管（4），所述活塞管（4）的内侧活动连接有活塞，所述反应室（2）通过右侧的通孔与限流器（3）连通，所述反应室（2）内壁的底部设置有铜片（5），所述反应室（2）内壁的顶部栓接有半导体制冷片（6），所述反应室（2）的内壁并位于半导体制冷片（6）的底部设置有金属片（7），所述半导体制冷片（6）的中心处贯穿设置有线路导管（8），所述线路导管（8）的底端依次贯穿金属片（7）和铜片（5）至电路室（1）的内侧，两个通孔的底端均依次贯穿半导体制冷片（6）和金属片（7）至金属片（7）的底部，所述反应室（2）的表面并位于铜片（5）的外侧设置有螺纹线圈（9），所述电路室（1）的内部安装有零电压开关（10）和变阻器（11），所述零电压开关（10）的输出端与变阻器（11）电性连接，所述螺纹线圈（9）的两端均贯穿至电路室（1）的内侧与变阻器（11）电性连接，所述电路室（1）的左侧安装有与变阻器（11）配合使用的调节旋钮，所述线路导管（8）的表面并位于铜片（5）的顶部安装有激光发射器（14）。/n...

【技术特征摘要】
1.基于涡流效应的莱顿弗罗斯特点测量及威尔逊云室演示仪，包括电路室（1），其特征在于：所述电路室（1）的顶部栓接有反应室（2），所述反应室（2）的顶部栓接有限流器（3），所述反应室（2）顶部的两侧均连通有通孔，所述反应室（2）通过左侧的通孔连通有活塞管（4），所述活塞管（4）的内侧活动连接有活塞，所述反应室（2）通过右侧的通孔与限流器（3）连通，所述反应室（2）内壁的底部设置有铜片（5），所述反应室（2）内壁的顶部栓接有半导体制冷片（6），所述反应室（2）的内壁并位于半导体制冷片（6）的底部设置有金属片（7），所述半导体制冷片（6）的中心处贯穿设置有线路导管（8），所述线路导管（8）的底端依次贯穿金属片（7）和铜片（5）至电路室（1）的内侧，两个通孔的底端均依次贯穿半导体制冷片（6）和金属片（7）至金属片（7）的底部，所述反应室（2）的表面并位于铜片（5）的外侧设置有螺纹线圈（9），所述电路室（1）的内部安装有零电压开关（10）和变阻器（11），所述零电压开关（10）的输出端与变阻器（11）电性连接，所述螺纹线圈（9）的两端均贯穿至电路室（1）的内侧与变阻器（11）电性连接，所述电路室（1）的左侧安装有与变阻器（11）配合使用的调节旋钮，所述线路导管（8）的表面并位于铜片（5）的顶部安装有激光发射器（14）。


2.根据权利要求1所述的基于涡流效...

【专利技术属性】
技术研发人员：任海林，崔金玉，张翔科，姜涌泉，王英玺，何永海，苟建泽，赵帅，
申请(专利权)人：任海林，
类型：新型
国别省市：四川;51