一种透射电子显微镜使用的载样体制造技术

本实用新型专利技术提供了一种透射电子显微镜使用的载样体，包括：薄膜，沟槽，电极，固定片，待测样品；薄膜上带有沟槽，所述的沟槽两侧是电极，所述的电极有两个，电极上分别设置有固定片，所述的固定片用于将待测样品固定在两电极之间；本实用新型专利技术的有益效果是：载样体上设有电极和固定片，使待测样品两端可以固定，避免样品变形或掉落；载样体上设有沟槽，提高了待测样品成像质量；载样体上设有电极，可以对待测样品进行电学测量。

【技术实现步骤摘要】
一种透射电子显微镜使用的载样体
本技术涉及一种电子显微镜配件，尤其涉及一种透射电子显微镜使用的载样体。
技术介绍
透射电子显微镜(TEM)能够获取样品的形貌信息、结构信息、成分信息及材料中各类晶体缺陷信息等，是研究材料微观结构的重要仪器之一；TEM是利用电子束作为照明源，通过多级电磁透镜放大成像于荧光屏上。由于电子束的穿透能力比较低，在利用TEM研究材料的微观结构时，样品放置在样品载体上，厚度一般控制在100nm以下,传统的样品载体为锯齿状结构，样品可放置在锯齿的顶端或侧壁。当样品放置在样品载体侧壁时，因为样品的一边没有支撑，样品在削薄的过程中容易因为应力作用造成弯曲从而影响后续TEM的分析。而当样品放置在锯齿状的顶端时，因为没有保护容易在载体转移时容易造成样品碰落的情况。此外，现有样品载体缺少电学通路，对纳米材料的电学性能无法测量。
技术实现思路
本技术的目的是要解决传统样品载体存在缺少支撑和保护，容易造成样品变形或掉落，并且缺少电学通路的问题，供一种对样品具有支撑和保护作用，并且具有电极的透射电子显微镜使用的载样体。本技术提供的技术方案是：一种透射电子显微镜使用的载样体，包括：薄膜，沟槽，电极，固定片，待测样品；薄膜上带有沟槽，所述的沟槽两侧是电极，电极上分别设置有固定片，所述的固定片用于将待测样品固定在两电极之间。进一步，所述的薄膜采用硅为衬底的氮化硅材料，尺寸为200μm*200μm，厚度在80～100nm之间，作为载样体基底。进一步，所述的沟槽深度是40～50nm，可以使样品处于悬空状态，提高成像质量。进一步，所述的电极采用金作材料，电极末端平行排列，电极外端的宽度远大于末端的宽度，减少电极的电阻对待测样品电学性质测量的影响，可以通过电极对待测样品施电激励。进一步，所述固定片采用铂材料制成，用于将待测样品固定在电极上。进一步，所述的待测样品宽度小于10nm。与现有技术相比，本技术的有益效果是：载样体上设有电极和固定片，使待测样品两端可以固定，避免样品变形或掉落；载样体上设有沟槽，提高了待测样品成像质量；载样体上设有电极，可以对待测样品进行电学测量。附图说明图1为本技术芯片结构示意图；图中：1-薄膜、21-沟槽、22-沟槽、23-沟槽、31-电极、32-电极、33-电极、34-电极、41-固定片、42-固定片、43-固定片、44-固定片、5-待测样品。具体实施方式下面结合附图与具体实例对本专利的技术方案作进一步详细地说明。一种透射电子显微镜使用的载样体，包括：薄膜1，沟槽21，沟槽22，沟槽23，电极31，电极32，电极33，电极34，固定片41，固定片42，固定片43，固定片44，待测样品5；所述的薄膜1上带有沟槽21、沟槽22、沟槽23，所述的沟槽21两侧分布电极31和电极32，所述的沟槽22两侧分布电极32和电极33，所述的沟槽23两侧分布电极33和电极34，所述的固定片41用于将待测样品5固定在电极31之间，所述的固定片42用于将待测样品5固定在电极32之间，所述的固定片43用于将待测样品5固定在电极33之间，所述的固定片44用于将待测样品5固定在电极34之间。进一步，所述的薄膜1采用硅为衬底的氮化硅材料，尺寸为200μm*200μm，厚度在80～100nm之间，作为载样体基底。进一步，所述的沟槽2深度是40～50nm，可以使样品处于悬空状态，提高成像质量。进一步，所述的电极3采用金作材料，电极3末端平行排列，电极3外端的宽度远大于末端的宽度，减少电极3的电阻对待测样品5电学性质测量的影响，可以通过电极3对待测样品5施加电激励。进一步，所述固定片4采用铂作材料，用于将待测样品5固定在电极3上。进一步，所述的待测样品5宽度小于10nm。本技术的工作原理是：待测样品5集成在具有沟槽2的带有电极3的薄膜1上，薄膜1上的电极3可以为待测样品5电学性质表征提供电学通路。待测样品5下端的薄膜里具有沟槽2使得待测样品5处于悬空状态，方便TEM成像。当芯片安装在原位电学样品杆上后，可以对样品同时完成结构表征以及电学性质测量，TEM通过孔隙对材料进行高分辨率成像。上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明，但是本专利并不限于上述实施方式，在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本专利宗旨的前提下做出各种变化。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透射电子显微镜使用的载样体，其特征在于，包括：薄膜，沟槽，电极，固定片，待测样品；薄膜上带有沟槽，所述的沟槽两侧是电极，所述的电极有两个，电极上分别设置有固定片，所述的固定片用于将待测样品固定在两电极之间。/n

【技术特征摘要】
1.一种透射电子显微镜使用的载样体，其特征在于，包括：薄膜，沟槽，电极，固定片，待测样品；薄膜上带有沟槽，所述的沟槽两侧是电极，所述的电极有两个，电极上分别设置有固定片，所述的固定片用于将待测样品固定在两电极之间。


2.根据权利要求1所述的一种透射电子显微镜使用的载样体，其特征在于，所述的薄膜采用硅为衬底的氮化硅材料，尺寸为200μm*200μm，厚度在80～100nm之间，作为载样体基底。


3.根据权利要求1所述的一种透射电子显微镜使用的载样体，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：王义林，秦姗，
申请(专利权)人：镇江乐华电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32