一种用于加工微纳结构的光镊打印装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种用于加工微纳结构的光镊打印装置，包括沿激光光路顺次设置的激光器、偏振片、半波片、扩束镜组、液晶空间光调制器SLM、第一凸透镜、第二凸透镜、分束镜、物镜、可移动载物台；所述物镜的一端连接有白光光源LED、另一端连接有一反射镜，所述反射镜顺次连接有第三凸透镜、电荷耦合元件CCD。该装置在加工精度和可重复性比化学方法加工的维纳结构更好，在实验复杂性和加工价格方面比聚焦离子束光刻和电子束光刻更好。

【技术实现步骤摘要】
一种用于加工微纳结构的光镊打印装置
本技术涉及一种打印装置，尤其是指一种用于加工微纳结构的光镊打印装置。
技术介绍
目前对于微纳结构的发展方向主要集中在通过各种方法获得精确的纳米结构，如聚焦离子束光刻或者电子束光刻加工微纳结构，但是该方法存在高加工成本和实验复杂之类的缺点。另一种方法是通过化学方法加工微纳结构，这种方法由纳米粒子组成的微纳结构是随机的，不能获得稳定的微纳结构。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是：设计一种用于加工微纳结构的光镊打印装置，通过捕获纳米颗粒并在金属薄膜上精确地打印任意纳米结构，得到稳定的微纳结构。为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案为：本技术提供了一种用于加工微纳结构的光镊打印装置，包括沿激光光路顺次连接的激光器、偏振片、半波片、扩束镜组、液晶空间光调制器SLM、第一凸透镜、第二凸透镜、分束镜、物镜、可移动载物台；所述物镜的一端连接有白光光源LED、另一端连接有反射镜，所述反射镜顺次连接有第三凸透镜、电荷耦合元件CCD。进一步的，还包括控制单元，所述控制单元与所述激光器、电本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于加工微纳结构的光镊打印装置，其特征在于，包括沿激光光路顺次设置的激光器、偏振片、半波片、扩束镜组、液晶空间光调制器SLM、第一凸透镜、第二凸透镜、分束镜、物镜、可移动载物台；所述物镜的一端连接有白光光源LED、另一端连接有一反射镜，所述反射镜顺次连接有第三凸透镜、电荷耦合元件CCD。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于加工微纳结构的光镊打印装置，其特征在于，包括沿激光光路顺次设置的激光器、偏振片、半波片、扩束镜组、液晶空间光调制器SLM、第一凸透镜、第二凸透镜、分束镜、物镜、可移动载物台；所述物镜的一端连接有白光光源LED、另一端连接有一反射镜，所述反射镜顺次连接有第三凸透镜、电荷耦合元件CCD。


2.如权利要求1所述的一种用于加工微纳结构的光镊打印装置，其特征在于，还包括控制单元，所述控制单元与所述激光器、电荷耦合元件CCD、可移动载物台、液晶空间光调制器SLM连接。


3.如权利要求1所述的一种用于加工微纳结构的光镊打印装置，其特征在于，所述可移动载物台表面设置有用于放置待加工样品的玻片，所述玻片为镀有金膜的玻璃片。


4.如权利要求3所述的一种用于加工...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁运琪，闵长俊，汪先友，张聿全，张治斌，袁小聪，
申请(专利权)人：深圳大学，
类型：新型
国别省市：广东;44