一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:24793311 阅读:41 留言:0更新日期:2020-07-07 20:13
本发明专利技术公开一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置,属于高精度镀膜技术领域。所述可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置包括工件盘、镀膜夹具和光学元件;所述工件盘开有旋转空腔,所述镀膜夹具放置于所述旋转空腔中,所述镀膜夹具与所述工件盘转动连接;所述光学元件放置于所述镀膜夹具中,并通过滑动卡扣机构固定安装。该可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置通过电机控制旋转所述镀膜夹具既能够保证光学元件的双面受热均匀,还能保证光学元件两面的镀膜环境相同;在完成双面镀膜之后,两面光学薄膜同时应力释放,并且保持几乎完全等同的应力释放速率;在实现超高面形偏差精度的同时还能减少镀膜返工次数,降低了时间和资金成本。

【技术实现步骤摘要】
一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置
本专利技术涉及高精度镀膜
,特别涉及一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置。
技术介绍
面形偏差是评估光学元件成像质量的重要指标。光学元件的面形偏差对光束线的焦点尺寸有极大影响。目前,最常规的操作是将产品镀完一面之后从炉腔中取出翻面再重新进炉对另外一面进行镀膜。然而,由于薄膜在两次镀膜间隔中应力缓慢释放,最终产品的面形偏差难以精准控制以至于时常需要返工,这无疑增加了时间与资金成本。因此对于光学膜产品(特别是薄膜基底),低成本、高精准实现高质量面形偏差控制是亟待解决的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置,以解决由于光学元件正反两面依次镀膜间隔中应力会缓慢释放所导致面形偏差难以精准控制的问题。为解决上述技术问题,本专利技术提供一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置,包括工件盘、镀膜夹具和光学元件;所述工件盘开有旋转空腔,所述镀膜夹具放置于所述旋转空腔中,所述镀膜夹具与所述工件盘转动连接;所述光学元件放置于所述镀膜夹具中,并通过滑动卡扣机构固定安装。可选的,所述镀膜夹具两侧分别通过转轴转动连接。可选的,所述转轴外部连接有电机,电机转动,带动所述转轴以及所述镀膜夹具转动。可选的,所述镀膜夹具上开有若干个滑槽,所述滑槽中均滑动连接有滑动挡块。可选的,所述滑动卡扣机构共设有八组,四组位于所述镀膜夹具正面四边;另外四组位于所述镀膜夹具背面四边。r>可选的,所述滑动挡块上开有定位孔。在本专利技术中提供了一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置,包括工件盘、镀膜夹具和光学元件;所述工件盘开有旋转空腔,所述镀膜夹具放置于所述旋转空腔中,所述镀膜夹具与所述工件盘转动连接;所述光学元件放置于所述镀膜夹具中,并通过滑动卡扣机构固定安装。该可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置能够在镀完一面光学膜之后通过电机控制旋转继而进行第二面镀制,整个镀膜过程连贯,无需开炉;所述镀膜夹具既能够保证光学元件的双面受热均匀,还能保证光学元件两面的镀膜环境相同;所述镀膜环境主要特指光学元件与光学薄膜的应力累积环境;在完成双面镀膜之后,两面光学薄膜同时应力释放,并且保持几乎完全等同的应力释放速率;在实现超高面形偏差精度的同时还能减少镀膜返工次数和开炉次数,降低了时间和资金成本。附图说明图1是本专利技术提供的一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置的结构示意图;图2是本专利技术提供的一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置滑动卡扣机构的放大图。具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本专利技术提出的一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书,本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。本专利技术提供了一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置,如图1和图2所示,包括工件盘1、镀膜夹具2和光学元件3;所述工件盘1开有旋转空腔11,所述镀膜夹具2放置于所述旋转空腔11中,所述镀膜夹具2与所述工件盘1转动连接;所述光学元件3放置于所述镀膜夹具2中,并通过滑动卡扣机构4固定安装;所述镀膜夹具2两侧分别通过转轴5转动连接;所述转轴5外部连接有电机,电机转动,带动所述转轴5以及所述镀膜夹具2转动;所述镀膜夹具2上开有若干个滑槽21,所述滑槽21中均滑动连接有滑动挡块41;所述滑动卡扣机构4共设有八组,四组位于所述镀膜夹具2正面四边;另外四组位于所述镀膜夹具2背面四边;所述滑动挡块41上开有定位孔42,所述定位孔42中穿过有螺栓,通过螺栓能够将所述光学元件3固定连接于所述镀膜夹具2上。该可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置既能够保证所述光学元件3的双面受热均匀还能保证两面光学薄膜的镀膜环境相同;镀膜环境在此主要特指所述光学元件3与光学薄膜的应力累积环境;相同的应力累积环境可使得同一光学元件的正反两面应力区域平衡以及在薄膜沉积过程中所累积的应力基本相同。在完成双面镀膜之后,两面光学薄膜同时应力释放,并且保持几乎完全等同的应力释放速率。该镀膜装置不仅可实现超高面形偏差精度,还能减少镀膜返工次数和开炉次数,降低了时间和资金成本。上述描述仅是对本专利技术较佳实施例的描述,并非对本专利技术范围的任何限定,本专利
的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰,均属于权利要求书的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置,其特征在于,包括工件盘(1)、镀膜夹具(2)和光学元件(3);/n所述工件盘(1)开有旋转空腔(11),所述镀膜夹具(2)放置于所述旋转空腔(11)中,所述镀膜夹具(2)与所述工件盘(1)转动连接;/n所述光学元件(3)放置于所述镀膜夹具(2)中,并通过滑动卡扣机构(4)固定安装。/n

【技术特征摘要】
1.一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置,其特征在于,包括工件盘(1)、镀膜夹具(2)和光学元件(3);
所述工件盘(1)开有旋转空腔(11),所述镀膜夹具(2)放置于所述旋转空腔(11)中,所述镀膜夹具(2)与所述工件盘(1)转动连接;
所述光学元件(3)放置于所述镀膜夹具(2)中,并通过滑动卡扣机构(4)固定安装。


2.如权利要求1所述的一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置,其特征在于,所述镀膜夹具(2)两侧分别通过转轴(5)转动连接。


3.如权利要求2所述的一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置,其特征在于,所述转轴(5)外部连接...

【专利技术属性】
技术研发人员:沈清李旭光
申请(专利权)人:无锡奥夫特光学技术有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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