一种刮痕双层反应釉的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种刮痕双层反应釉的制备方法，方法的步骤中含有：S1：坯体洗水，上好内釉，并烘干处理；S2：在经过步骤S1处理后的坯体上上底釉，晾2‑3分钟，然后上面釉；S3：待面釉收水干透，用刻刀在面釉上按照设计刮痕图案，用力均匀地刻出对应刮痕图案的纹路；S4：经过步骤S3处理后的坯体烧成得到成品；其中，面釉和底釉使用的釉浆的波美浓度控制在38～42波美度，比重控制在1.2～1.3，水分控制在58％～62％。本发明专利技术的釉面发色均匀，釉面效果好。

【技术实现步骤摘要】
一种刮痕双层反应釉的制备方法
本专利技术涉及一种刮痕双层反应釉的制备方法。
技术介绍
目前，刮痕双层反应釉作为日用瓷，釉料附着于坯体，既可增加陶瓷强度、美观，又可以给生活中带来健康，但此釉面如果用力不稳不匀，会破坏坯体，易藏细菌，不利于清洗，也会使陶瓷坯体不平整；同时其釉面如果发色不好，会影响釉面美观度。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种刮痕双层反应釉的制备方法，它发色均匀，釉面效果好。本专利技术解决以上技术问题所采用的技术方案是：一种刮痕双层反应釉的制备方法，方法的步骤中含有：S1：坯体洗水，上好内釉，并烘干处理；S2：在经过步骤S1处理后的坯体上上底釉，晾2-3分钟，然后上面釉；S3：待面釉收水干透，用刻刀在面釉上按照设计刮痕图案，用力均匀地刻出对应刮痕图案的纹路；S4：经过步骤S3处理后的坯体烧成得到成品；其中，面釉和底釉使用的釉浆的波美浓度控制在38～42波美度，比重控制在1.2～1.3，水分控制在58％～62％。采用了上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种刮痕双层反应釉的制备方法，其特征在于方法的步骤中含有：/nS1：坯体洗水，上好内釉，并烘干处理；/nS2：在经过步骤S1处理后的坯体上上底釉，晾2-3分钟，然后上面釉；/nS3：待面釉收水干透，用刻刀在面釉上按照设计刮痕图案，用力均匀地刻出对应刮痕图案的纹路；/nS4：经过步骤S3处理后的坯体烧成得到成品；其中，/n面釉和底釉使用的釉浆的波美浓度控制在38～42波美度，比重控制在1.2～1.3，水分控制在58％～62％。/n

【技术特征摘要】
1.一种刮痕双层反应釉的制备方法，其特征在于方法的步骤中含有：
S1：坯体洗水，上好内釉，并烘干处理；
S2：在经过步骤S1处理后的坯体上上底釉，晾2-3分钟，然后上面釉；
S3：待面釉收水干透，用刻刀在面釉...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘俊云，
申请(专利权)人：醴陵市和兴瓷业有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43