阵列基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及显示技术领域，提出一种阵列基板及其制作方法、显示装置，阵列基板包括衬底基板和设置于衬底基板一侧的像素定义层，像素定义层包括多条第一阻挡坝、多条第二阻挡坝、多条第三阻挡坝。第一阻挡坝沿第一方向延伸，且沿第二方向间隔分布；第二阻挡坝沿第二方向延伸，且沿第一方向间隔分布；第三阻挡坝沿第二方向延伸，且沿第一方向间隔分布，每两相邻的第二阻挡坝之间设置多条第三阻挡坝；至少部分位于两相邻第二阻挡坝之间的第三阻挡坝在垂直于衬底基板方向上具有不同的厚度，且该多个不同第三阻挡坝在垂直于衬底基板方向的厚度在第一方向上依次增加。该阵列基板能够解决像素发光单元喷墨打印时，由于衬底基板倾斜造成的膜层厚度不均匀。

Array substrate, fabrication method and display device thereof

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
有机电致发光器件(OLED)相对于LCD具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术。有机电致发光器件通常由喷墨打印技术形成，喷墨打印技术是将用于形成有机电致发光器的溶液喷涂在像素定义层形成的开口内。像素定义层开口内的溶液形成的薄膜存在厚度不均匀的问题。需要说明的是，在上述
技术介绍
部分专利技术的信息仅用于加强对本专利技术的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种阵列基板、显示装置。该阵列基板能够解决相关技术中像素定义层开口内的溶液形成的薄膜存在厚度不均匀的问题。本专利技术的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本专利技术的实践而习得。根据本专利技术的一个方面，提供一种阵列基板，该阵列基板包括：衬底基板、像素定义层。像素定义层设置于所述衬底基板的一侧，所述像素定义本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：/n衬底基板；/n像素定义层，设置于所述衬底基板的一侧，所述像素定义层包括：/n多条第一阻挡坝，沿第一方向延伸，且沿第二方向间隔分布，所述第一方向与所述第二方向相交；/n多条第二阻挡坝，沿所述第二方向延伸，且沿所述第一方向间隔分布；/n多条第三阻挡坝，沿所述第二方向延伸，且沿所述第一方向间隔分布，每两相邻的所述第二阻挡坝之间设置多条所述第三阻挡坝；/n其中，至少部分位于两相邻所述第二阻挡坝之间的所述第三阻挡坝在垂直于所述衬底基板方向上具有不同的厚度，且该多个不同所述第三阻挡坝在垂直于所述衬底基板方向的厚度在所述第一方向上依次增加。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
衬底基板；
像素定义层，设置于所述衬底基板的一侧，所述像素定义层包括：
多条第一阻挡坝，沿第一方向延伸，且沿第二方向间隔分布，所述第一方向与所述第二方向相交；
多条第二阻挡坝，沿所述第二方向延伸，且沿所述第一方向间隔分布；
多条第三阻挡坝，沿所述第二方向延伸，且沿所述第一方向间隔分布，每两相邻的所述第二阻挡坝之间设置多条所述第三阻挡坝；
其中，至少部分位于两相邻所述第二阻挡坝之间的所述第三阻挡坝在垂直于所述衬底基板方向上具有不同的厚度，且该多个不同所述第三阻挡坝在垂直于所述衬底基板方向的厚度在所述第一方向上依次增加。


2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，位于两相邻所述第二阻挡坝之间的所有所述第三阻挡坝在垂直于所述衬底基板方向上具有不同的厚度，且该多个不同所述第三阻挡坝在垂直于所述衬底基板方向的厚度在所述第一方向上依次增加。


3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，每两相邻的所述第二阻挡坝之间设置相同条数的所述第三阻挡坝。


4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，每两相邻的所述第二阻挡坝之间设置2-14条的所述第三阻挡坝。


5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一阻挡坝在垂直于所述衬底基板方向上的厚度等于所述第二阻挡坝在垂直于所述衬底基板方向上的厚度。


6.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡春静，孙力，尤娟娟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11