一种抛光垫及其制备方法和在大理石抛光中的应用技术

本发明专利技术提供了一种抛光垫及其制备方法和在大理石抛光中的应用，涉及抛光磨具技术领域。本发明专利技术提供的抛光垫包括无纺纤维垫和固结在无纺纤维垫一侧表面的工作层；所述工作层包括以下质量份数的组分：热固性树脂20～60份，固化剂5～50份，金刚石10～40份，辅助磨料5～30份，填料10～40份，偶联剂1～5份；所述热固性树脂包括未改性环氧树脂和/或改性环氧树脂；所述填料包括微米填料和/或纳米填料。采用本发明专利技术提供的抛光垫对大理石抛光，抛光后的大理石表面光泽度和清晰度高，不产生雾化，并且抛光效率高、安全环保。本发明专利技术还提供了所述抛光垫的制备方法，本发明专利技术提供的制备方法过程简单，安全环保，且生产效率高、产品成品率高。

A polishing pad and its preparation method and application in marble polishing

【技术实现步骤摘要】
一种抛光垫及其制备方法和在大理石抛光中的应用
本专利技术涉及抛光磨具
，特别涉及一种抛光垫及其制备方法和在大理石抛光中的应用。
技术介绍
大理石指一切有各种颜色花纹的石灰岩，由于其具有较高的强度、自身的花纹外观和良好的加工性能而广泛用于室内外的装饰和各种工艺品、艺术品。磨削抛光是大理石实际应用中必不可少的加工工艺。目前，大理石的初步研磨和抛光技术相对较为成熟，相对于其他石材，大理石的硬度相对较小，因而，在磨削抛光材料、工艺上与其他石材较为不同。一般来讲，大理石的抛光机理主要以物理方法和化学方法为主。其中，物理方法即高硬度的磨料如实心硬质磨片(通过浇铸形成的硬质块体)，通过机械研磨作用将大理石凸面切削滑擦，从而降低表面粗糙度，达到抛光的目的；化学方法即在磨具中添加相关化学物质如草酸等，通过化学物质与大理石表面的成分发生化学反应，溶解、吸附相关物质达到抛光的目的。化学抛光中加入的化学试剂在长期存放过程中易迁移，不仅降低了抛光效率的稳定性，也会对人体和环境造成一定程度的污染。因此，越来越多的大理石抛光采用物理抛光方法。然而，采用传统的物本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光垫，其特征在于，包括无纺纤维垫和固结在所述无纺纤维垫一侧表面的工作层；所述工作层包括以下质量份数的组分：/n

【技术特征摘要】
1.一种抛光垫，其特征在于，包括无纺纤维垫和固结在所述无纺纤维垫一侧表面的工作层；所述工作层包括以下质量份数的组分：



所述热固性树脂包括未改性环氧树脂和/或改性环氧树脂；所述填料包括微米填料和/或纳米填料。


2.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述无纺纤维垫由锦纶、涤纶、棉、麻和兽毛中的一种或几种纤维制备得到。


3.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述未改性环氧树脂包括双酚A环氧树脂、双酚F环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂、缩水甘油胺型环氧树脂和脂肪族缩水甘油醚环氧树脂中的一种或几种；
所述改性环氧树脂包括改性双酚A环氧树脂、改性双酚F环氧树脂、改性脂肪族缩水甘油醚环氧树脂、改性缩水甘油酯型环氧树脂、改性缩水甘油胺型环氧树脂中的一种或几种；
所述固化剂包括脂肪胺类固化剂、芳香胺类固化剂、酸酐类固化剂、咪唑类固化剂、低分子量聚酰胺固化剂、低分子量聚醚胺固化剂、三氟化硼、三氟化硼络合物和双氰胺固化剂中的一种或几种。


4.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述金刚石包括单晶金刚石、多晶金刚石、微晶金刚石和纳米聚晶金刚石中的一种或几种；所述金刚石的颗粒目数为25～5000目。


5.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述辅助磨料包括碳化硅、刚玉、氧化锆、氮化硼和碳化锆中的一种或几种；所述辅助磨料的颗粒目数为25～3000目。


6.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾云峰，邓国川，
申请(专利权)人：惠安宇信金刚石工具有限公司，厦门宇信金刚石工具有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35