一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于土地治理技术领域，公开了一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置，地埂修建在坡地上，地埂上端开设有苗木种植区，苗木种植区栽植有乔木、灌木或草本植物组成的植物篱；地埂为土埂或石埂，土埂上部为土质地埂，下部为土质田坎，石埂上部为土质地埂，下部为干砌石质田坎。本实用新型专利技术提出的基于地埂和植物篱的优化构建模式可提高土地生产力50％以上，减少坡耕地土壤流失量50％以上，提高坡耕地降水利用率20％以上，减少面源污染量约30％，有效地改善了农业生态环境，而且还可带来改良土壤和固土保肥的生态功能。

A non point source pollution prevention and control device based on ridge and hedgerow

【技术实现步骤摘要】
一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置
本技术属于土地治理
，尤其涉及一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置。
技术介绍
目前，业内最接近的现有技术：集约化农业是引起水污染的主要原因之一，大量研究表明集约化耕作会导致土壤退化和水体富营养化，引发严重的农业面源污染。表现为土壤肥力质量下降，水体总悬浮物增加、营养物质和粪大肠杆菌等超标。种植植物篱是目前改善这一现状的主要措施。植物篱可以过滤径流，促进悬浮颗粒的沉降，捕获径流中输送的沉积物、养分和其余污染物，是一种简单、便宜和高效的面源污染防治措施。植物篱是指种植在等高线的斜坡上，由乔木、灌木和草本单独或者组合而成的植被带。其中筛选出的乔木主要有桑树、柑橘、花椒、梨树、李、沙梨、黄槐、紫穗槐和臭椿；灌木主要有黄荆、八角枫、新银合欢和黑荆；草本主要有紫背天葵、旱菜、空心莲子草、香根草、蓑草、皇竹草、紫花苜蓿和黄花菜。乔木和灌木植物篱主要通过植苗造林方式栽植，而草本植物篱采用条播和点播栽植。植物篱种类繁多，对面源污染的防控效果各异，而不同植物篱在不同坡度的防控效果也不相同。因本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置，其特征在于，所述基于地埂和植物篱的面源污染防控装置设置有：/n地埂；/n所述地埂修建在坡地上，地埂上端开设有苗木种植区，苗木种植区栽植有乔木、灌木或草本植物组成的植物篱；/n所述地埂为土埂或石埂，土埂上部为土质地埂，下部为土质田坎，石埂上部为土质地埂，下部为干砌石质田坎；/n乔木高度不低于150cm，灌木的高度不低于30cm，草本高度不低于20cm；/n所述植物篱上下两侧的坡地上各开设有一条边沟和背沟；/n所述植物篱最小带间距大于植物篱的植物根系水平胁迫宽度。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置，其特征在于，所述基于地埂和植物篱的面源污染防控装置设置有：
地埂；
所述地埂修建在坡地上，地埂上端开设有苗木种植区，苗木种植区栽植有乔木、灌木或草本植物组成的植物篱；
所述地埂为土埂或石埂，土埂上部为土质地埂，下部为土质田坎，石埂上部为土质地埂，下部为干砌石质田坎；
乔木高度不低于150cm，灌木的高度不低于30cm，草本高度不低于20cm；
所述植物篱上下两侧的坡地上各开设有一条边沟和背沟；
所述植物篱最小带间距大于植物篱的植物根系水平胁迫宽度。


2.如权利要求1所述的基于地埂和植物篱的面源污染防控装置，其特征在于，所述植物篱为单种乔木植物篱，植物选择柑橘、沙梨、桑树、花椒或李中的一种。


3.如权利要求1所述的基于地埂和植物篱的面源污染防控装置，其特征在于，所述植物篱为单种灌木植物篱，植物选择黄...

【专利技术属性】
技术研发人员：程金花，郑永林，张洪江，王海燕，王一格，
申请(专利权)人：北京林业大学，
类型：新型
国别省市：北京;11