【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻系统带宽控制相关申请的交叉引用本申请要求于2017年11月17日提交的美国申请15/815,935的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
本公开的主题涉及诸如用于集成电路光刻制造工艺的激光生成光源的控制。
技术介绍
用于半导体光刻的激光辐射通常以指定的重复率(例如，在约500Hz至约6kHz的范围内)作为脉冲系列被提供。向用户提供以多个重复率中的任一个来操作激光器的选项是有用的。但是，提供这种灵活性带来了工程上的挑战。一个这样的挑战来自这样一个事实，激光器可能会呈现被称为带宽谐振的现象，带宽谐振是激光器进行操作的重复率(频率)的函数。室内的谐振可能以某些重复率发生，并且导致谐振频率附近的性能指标(例如，带宽、指向性和发散性)急剧增加，其中在与谐振相邻的频率处出现低谷或底。只要所有数据点都保持在规格范围内，谐振本身的存在是可以容忍的，但是在对准期间可能需要附加的时间和精力来将性能指标保持在规格范围内。另外，由谐振引起的性能指标中峰谷差可能会针对扫描仪设计和控制带来技术挑战。用于生成针对半导体光刻(深...
【技术保护点】
1.一种设备，包括：/n激光器，被配置为以多个重复率中的任一个重复率进行操作；/n带宽控制器，被配置为生成控制信号以至少部分地控制所述激光器的带宽；/n相关器，包括电存储的前馈相关性数据，所述前馈相关性数据针对所述多个重复率中的每一个重复率而将所述控制信号的值与重复率相关联；以及/n模块，被配置为确定所述激光器的至少一个操作参数，并且用于将所确定的操作参数作为前馈值提供给所述相关器，/n其中所述相关器被配置为至少部分地基于所述前馈值来生成对所述控制信号的调整。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171117 US 15/815,9351.一种设备，包括：
激光器，被配置为以多个重复率中的任一个重复率进行操作；
带宽控制器，被配置为生成控制信号以至少部分地控制所述激光器的带宽；
相关器，包括电存储的前馈相关性数据，所述前馈相关性数据针对所述多个重复率中的每一个重复率而将所述控制信号的值与重复率相关联；以及
模块，被配置为确定所述激光器的至少一个操作参数，并且用于将所确定的操作参数作为前馈值提供给所述相关器，
其中所述相关器被配置为至少部分地基于所述前馈值来生成对所述控制信号的调整。
2.根据权利要求1所述的设备，其中所述激光器具有第一室和第二室，并且其中所述控制信号是激发定时控制信号DtMOPA，所述激发定时控制信号DtMOPA相对于所述第一室中的激发定时至少部分地控制所述第二室中的激发定时。
3.根据权利要求2所述的设备，其中所述相关器被配置为生成对DtMOPA的调整。
4.根据权利要求3所述的设备，其中所述相关器被配置为根据以下公式来生成对DtMOPA的调整：
DtMOPA+前馈增益*(FF(RRcurrent)–FF(RRprevious))
其中
DtMOPA是所述第一室和所述第二室中实际的相对激发定时，
FF(RRcurrent)是针对当前重复率的DtMOPA的存储值，
FF(RRprevious)是针对先前重复率的DtMOPA的存储值，并且
前馈增益是增益因子。
5.根据权利要求1所述的设备，其中所述相关器是前馈查找表，所述前馈查找表存储针对所述多个重复率中的至少一些重复率而将所述控制信号的值与重复率相关联的相关性数据。
6.根据权利要求2所述的设备，其中所述至少一个操作参数是针对所述当前重复率的DtMOPA的移动平均值。
7.一种方法，包括以下步骤：
确定激光器激发的当前重复率；
确定所述当前重复率是否与紧接的先前重复率实质上相同；以及
如果确定所述当前重复率与紧接的所述先前重复率实质上不相同，则更改所述激光器的控制参数。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述激光器具有第一室和第二室，并且其中所述控制参数是激发定时控制值DtMOPA，所述激发定时控制值DtMOPA相对于所述第一室中的激发定时至少部分地控制所述第二室中的激发定时。
9.根据权利要求7所述的方法，包括：确定在上次使用的重复率与所述当前重复率实质上相同之间的经过的时间量的附加步骤；并且其中更改步骤包括至少部分地基于确定经过的时间量的步骤来更改所述操作参数。
10.根据权利要求9所述的方法，其中至少部分地基于确定经过的时间量来更改所述控制参数的步骤包括更改前馈增益。
11.一种方法，包括以下步骤：
检测能够以多个重复率中的任一个重复率进行操作的激光器的重复率变化；
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