一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件制备装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件制备装置，所述制备装置包括磁控靶、样品架和样品挡板，所述磁控靶倾斜设置，所述样品架设在磁控靶的下方，所述样品架的样品台为板状，且内部设有加热器，样品台上方设置样品罩，所述样品罩具有多个样品通孔。所述样品挡板设在样品台的上方，且水平放置，样品挡板包括气缸、转挡轴、支柱、两个转挡连片和两个挡板，所述气缸的活塞连接并能够带动转挡轴做伸缩运动，所述支柱的底部垂直固定在转挡轴上，支柱的顶端同时连接两个转挡连片的前端，两个转挡连片的后端分别连接两个挡板，所述支柱通过两个转挡连片分别带动两个挡板相互靠近或相互远离。

【技术实现步骤摘要】
一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件制备装置
本技术属于磁控溅射镀膜
，具体涉及一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件制备装置。
技术介绍
磁控溅射属于物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)中的一种，磁控溅射镀膜技术是一种重要的薄膜制备方法，可以在载体上制备金属、半导体、绝缘体等多材料的薄膜，具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强的优点。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。专利CN201110358232.0提供了一种磁控溅射系统，包括磁控室、基片转台、基片转台驱动电机、传动机构、磁控靶、机台架、真空抽气系统及电动提升机构，磁控室安装在机台架上、与位于机台架内的真空抽气系统相连，在磁控室内均布有多个安装在磁控室下法兰上的磁控靶；基片转台转动安装在磁控室上盖上，所载基片位于磁控室内、各磁控靶的上方，磁控室上盖上还安装有基片转台驱动电机，基片转台通过传动机构由驱动电机驱动旋转；机台架内安装有电动提升机构，其输出端由机台架穿出、与磁控室的上盖相连接，带动上盖及本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件制备装置，其特征在于，所述制备装置包括磁控靶、样品架和样品挡板，所述磁控靶倾斜设置，所述样品架设在磁控靶的下方，所述样品架的样品台为板状，且内部设有加热器，样品台上方设置样品罩，所述样品罩具有多个样品通孔，用于高通量制备多组份混合纳米薄膜和纳米多层功能薄膜器件；/n所述样品挡板设在样品台的上方，且水平放置，样品挡板包括气缸、转挡轴、支柱、两个转挡连片和两个挡板，所述气缸的活塞连接并能够带动转挡轴做伸缩运动，所述支柱的底部垂直固定在转挡轴上，支柱的顶端同时连接两个转挡连片的前端，两个转挡连片的后端分别连接两个挡板，所述支柱通过两个转挡连片分别带动两个挡板相互靠近...

【技术特征摘要】
1.一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件制备装置，其特征在于，所述制备装置包括磁控靶、样品架和样品挡板，所述磁控靶倾斜设置，所述样品架设在磁控靶的下方，所述样品架的样品台为板状，且内部设有加热器，样品台上方设置样品罩，所述样品罩具有多个样品通孔，用于高通量制备多组份混合纳米薄膜和纳米多层功能薄膜器件；
所述样品挡板设在样品台的上方，且水平放置，样品挡板包括气缸、转挡轴、支柱、两个转挡连片和两个挡板，所述气缸的活塞连接并能够带动转挡轴做伸缩运动，所述支柱的底部垂直固定在转挡轴上，支柱的顶端同时连接两个转挡连片的前端，两个转挡连片的后端分别连接两个挡板，所述支柱通过两个转挡连片分别带动两个挡板相互靠近或相互远离。


2.根据权利要求1所述的制备装置，其特征在于，所述磁控靶与水平面之间的角度为30-60度。


3.根据权利要求2所述的制备装置，其特征在于，所述磁控靶的数量为2-5个，并均匀环绕分布在工作腔室的顶部。


4.根据权利要求1所述的制备装置，其特征在于，所述样品架包括样品台、支撑连接装置、样品罩和驱动旋转装置，所述支撑连接装置的顶部固定连接样品台，底部连接所述驱动旋转装置的从动齿轮，所述驱动旋转装置设置在工作腔室的外部。


5.根据权利要求4所述的制备装置，其特征在于，所述样品罩具有不少于100个样品通孔；所述样品台的底部设有托板，所述托板与样品台之间填充有绝缘材料，起到隔热和绝缘的双重作用。


6.根据权利要求5所述的制备装置，其特征在于，所述支撑连接装置包括空轴、套轴和绝缘套管，所述空轴的顶端套入绝缘套管，并与绝缘套管固定连接；所述绝缘套管的顶端与所述托板固定连接；所述空轴的底部套入套轴，空轴能够在套轴内伸缩，从而带动样品台做升降运...

【专利技术属性】
技术研发人员：刁训刚，秦建平，刁诗如，
申请(专利权)人：纳能镀膜丹阳有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32