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本实用新型涉及一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件制备装置，所述制备装置包括磁控靶、样品架和样品挡板，所述磁控靶倾斜设置，所述样品架设在磁控靶的下方，所述样品架的样品台为板状，且内部设有加热器，样品台上方设置样品罩，所述样品罩具有多个样品通孔。所...
该专利属于纳能镀膜丹阳有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过纳能镀膜丹阳有限公司授权不得商用。

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