【技术实现步骤摘要】
一种缓蚀剂复合阴离子插层水滑石制备方法
：本专利技术属于缓释防腐
，涉及一种在非N2保护氛围下实现缓蚀剂复合阴离子插层水滑石的制备方法。
技术介绍
：水滑石(LDH)是一种带电的混合金属氢氧化物，属于由正电荷堆叠组成的阴离子交换材料，阴离子物种和溶剂分子插层在其中。由于具有低毒性、生物相容性和可控释放活性添加剂的能力，水滑石材料已经被应用于药物载体和金属腐蚀领域；由于独特的层状结构、离子可交换性和吸附性，水滑石材料作为缓蚀剂的存储器，在腐蚀环境下可以与腐蚀性阴离子交换实现缓蚀剂阴离子的释放，起到主动保护金属的基底的作用。目前，多采用离子交换法制备阴离子插层水滑石材料，通常要先合成水滑石前驱体，具体包括：第一步制备CO32-或NO3-型的水滑石，第二步在氮气气氛保护下，采用离子交换法，用插层阴离子取代层间的CO32-或NO3-离子。其制备过程繁琐，需要N2保护氛围下进行，反应条件要求比较苛刻，用于制备一种阴离子插层水滑石材料。例如：中国专利201610782619.1公开的一种席夫碱合钯阴离子插层水滑石，按如下方...
【技术保护点】
1.一种缓蚀剂复合阴离子插层水滑石制备方法，其特征在于具体工艺过程为：/n首先，将M
【技术特征摘要】
1.一种缓蚀剂复合阴离子插层水滑石制备方法，其特征在于具体工艺过程为：
首先，将M2+可溶性盐和M3+可溶性盐按照设定配比溶于脱CO2煮沸的去离子水中，配制成溶液A；将两种阴离子可溶性盐与氢氧化钠按照设定配比溶于脱CO2煮沸的去离子水中，配制成溶液B；
然后，将溶液A和溶液B混合，得到悬浮液，将悬浮液转移到聚四氟乙烯水热反应釜中，加入氢氧化钠溶液将pH值调节为9-10；
最后，将聚四氟乙烯水热反应釜放置于干燥箱中反应24h，得到产物，过滤并用去离子水洗涤产物，干燥，得到缓蚀剂复合阴离子插层水滑石。
2.根据权利要求1所述的缓蚀剂复合阴离子插层水滑石制备方法，其特征在于M2+包括Mg2+、Zn2+、Ni2+和Cu2+。
3.根据权利要求1所述的缓蚀剂复合阴离子插层水滑石制备方法，其特征在于M3+包括Al3+、Fe3+和Cr3+。
4.根据权利要求1所述的缓蚀剂复合阴离子插层水滑石制备方法，其特征在于M2+可溶性盐包括硝酸盐、氯化盐和硫酸盐。
5.根据权利要求1所述的缓蚀剂复合阴...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘雪辉，仝宏韬，李相波，隋永强，孙智勇，
申请(专利权)人：中国船舶重工集团公司第七二五研究所，
类型：发明
国别省市：山东;37
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