显示基板及其制备方法技术

本申请提供一种显示基板及其制备方法。该显示基板包括依次层叠设置的显示结构层、反射层和光探测层，所述反射层用于将所述显示结构层发出的光线反射至出光方向，所述反射层上间隔设有多个通孔，所述光探测层用于检测所述显示结构层发出的通过所述反射层的通孔的光线的强度；所述显示基板还包括吸光结构，所述吸光结构位于所述反射层远离所述显示结构层的一侧，所述吸光结构用于吸收所述显示结构层发出的被所述光探测层反射的光线。该制备方法用于制备所述显示基板。本申请的显示基板及其制备方法，通过设置所述吸光结构可以有效阻断光探测单元的表面的反射光的传播路径，从而提高了光学检测效率。

Display substrate and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法
本申请涉及显示
，尤其涉及一种显示基板及其制备方法。
技术介绍
目前，OLED显示装置按照光的取出方式可以分为底发射型和顶发射型两大类。顶发射的显示基板具有开口率高、透过率高、效率高等优势，成为业界看好的光取出技术，但是由于高透过率阴极的开发受阻、阴极均一性差、透过率低、大面积蒸镀均一性差等因素，目前顶发射OLED的显示基板主要应用于手机，手表等小尺寸显示装置中，在大尺寸OLED显示装置中应用并未普及。而底发射OLED的显示基板由于工艺成熟，良率高，广泛应用于TV等大尺寸产品中。随着生活水平的提高，人们对显示效果要求也逐步提高，随着TV等大尺寸产品使用寿命的影响，制作工艺的影响，往往存在画面色彩显示和亮度不均现象，所以需要通过补偿手段达到高质量画面显示效果目的。其中，采用光学检测层检测发光实际效果的方法是一种重要的检测方法，其主要原理是通过在一个子像素附近设置一个光探测单元，或者在多个子像素附近设置一个光探测单元，通过光探测单元感应显示结构层的发光强度的变化，通过算法，达到光学补偿效果。底发射OLED的显示基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括依次层叠设置的显示结构层、反射层和光探测层，所述反射层用于将所述显示结构层发出的光线反射至出光方向，所述反射层上间隔设有多个通孔，所述光探测层用于检测所述显示结构层发出的通过所述反射层的通孔的光线的强度；/n所述显示基板还包括吸光结构，所述吸光结构位于所述反射层远离所述显示结构层的一侧，所述吸光结构用于吸收所述显示结构层发出的被所述光探测层反射的光线。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括依次层叠设置的显示结构层、反射层和光探测层，所述反射层用于将所述显示结构层发出的光线反射至出光方向，所述反射层上间隔设有多个通孔，所述光探测层用于检测所述显示结构层发出的通过所述反射层的通孔的光线的强度；
所述显示基板还包括吸光结构，所述吸光结构位于所述反射层远离所述显示结构层的一侧，所述吸光结构用于吸收所述显示结构层发出的被所述光探测层反射的光线。


2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述吸光结构包括上吸光层；
所述上吸光层位于所述反射层与所述光探测层之间，所述上吸光层上设有沿高度方向贯穿所述上吸光层的上凹槽，所述上凹槽与所述反射层的通孔的位置一一对应，且所述上凹槽的截面的尺寸小于或等于所述通孔的截面的尺寸。


3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述上凹槽包括相对设置的两个斜面，所述斜面由靠近所述反射层的一端至远离所述反射层的一端向内倾斜，所述上凹槽中远离所述反射层的一端的截面尺寸小于或等于所述通孔的截面的尺寸。


4.如权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述斜面与所述反射层所在的平面形成一夹角，所述夹角为50度～90度。


5.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述上吸光层的厚度为0.3um～5.5um。


6.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括第一无机封装层、第二无机封装层和粘接层；
所述第一无机封装层位于所述反射层与所述上吸光层之间；
所述第二无机封装层覆设于所述上吸光层的下表面、所述上凹槽的侧面、所述反射层的通孔的内壁、以及露出的所述显示结构层的下表面；
所述粘接层位于所述光探测层与所述第二无机封装层之间，且填充于所述上吸光层的上凹槽以及所述反射层的通孔内。


7.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述吸光结构包括下吸光层；
所述显示结构层的发光层包括多个按阵列排列的显示子像素，所述光探测层包括多个光探测单元，每一所述光探测单元对应于一所述显示子像素设置，所述下吸光层设有沿高度方向贯穿所述下吸光层的下凹槽，所述光探测单元位于所述下凹槽中，且所述下凹槽与所述光探测单元一一对应，所述下吸光层的上表面到所述反射层的距离小于所述光探测单元的上表面到所述反射层的距离。


8.如权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述下吸光层的厚度为2um～20um；和/或，所述下吸光层的上表面到所述反射层的距离小于所述光探测单元的上表面到所述反射层的距离5um～20um。


9.如权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括第一无机封装层、第二无机封装层和粘接层；
所述第一无机封装层覆设于所述反射层的下表面；
所述第二无机封装层覆设于所述第一无机封装层的下表面、所述反射层的通孔的内壁、以及露出的所述显示结构层的下表面；
所述粘接层位于所述下吸光层与所述第二无机封装层之间，且填充于所述下吸光层的下凹槽以及所述反射层的通孔内。


10.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述吸光结构包括上吸光层和下吸光层；
所述上吸光层位于所述反射层与所述光探测层之间，所述上吸光层上设有沿高度方向贯穿所述上吸光层的上凹槽，所述上凹槽与所述反射层的通孔的位置一一对应，且所述上凹槽的截面的尺寸小于或等于所述通孔的截面的尺寸；
所述显示结构层的发光层包括多个按阵列排列的显示子像素，所述光探测层包括多个光探测单元，每一所述光探测单元对应于一所述显示子像素设置，所述下吸光层设有沿高度方向贯穿所述下吸光层的下凹槽，所述光探测单元位于所述下凹槽中，且所述下凹槽与所述光探测单元一一对应，所述下吸光层的上表面到所述反射层的距离小于所述光探测单元的上表面到所述反射层的距离。


11.如权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述上凹槽包括相对设置的两个斜面，所述斜面由靠近所述反射层的一端至远离所述反射层的一端向内倾斜，所述上凹槽中远离所述反射层的一端的截面尺寸小于或等于所述通孔的截面的尺寸；所述斜面与所述反射层所在的平面形成一夹角，所述夹角为50度～90度。
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【专利技术属性】
技术研发人员：隋凯，张小磊，王伟杰，薛金祥，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11