液晶面板及其制作方法技术

一种液晶面板及其制作方法。液晶面板包括基板、电极层、绝缘层、第一配向层、第二配向层以及液晶层。电极层位于基板上。绝缘层位于电极层上。绝缘层中具有空腔以及连接空腔的顶部的开口。电极层位于空腔的底下。第一配向层位于空腔中，且位于电极层上。第二配向层位于空腔的顶部。液晶层分别位于空腔中，且位于第一配向层以及第二配向层之间。

Liquid crystal panel and its manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
液晶面板及其制作方法
本专利技术是有关于一种液晶面板，且特别是有关于一种液晶层位于绝缘层的空腔中的液晶面板及其制作方法。
技术介绍
液晶显示面板具有体积小、辐射低等优点，并且已经普遍地被应用在各式各样的电子产品中。目前，液晶显示面板通常包括上基板、下基板以及连接上基板与下基板的框胶，其中液晶位于上基板与下基板之间，且框胶环绕液晶。然而，框胶的设置，使显示面板具有很宽的边框，并限缩了产品的屏占比。随着科技的进步，消费者对显示面板外观的要求越来越高，为了要提高消费者的购买意愿，如何缩小液晶显示面板的边框已经成为目前各家厂商欲解决的问题之一。
技术实现思路
本专利技术提供一种液晶面板，能改善边框过宽的问题。本专利技术提供一种液晶面板的制造方法，能改善边框过宽的问题。本专利技术的至少一实施例提供一种液晶面板。液晶面板包括基板、电极层、绝缘层、第一配向层、第二配向层以及液晶层。电极层位于基板上。绝缘层位于电极层上。绝缘层中具有空腔以及连接空腔的顶部的至少一开口。电极层位于空腔的底下。开口的宽度小于空腔的宽度。第一配向层位于空腔中，且位于电极层上。第二配向层位于空腔的顶部。液晶层位于空腔中，且位于第一配向层以及第二配向层之间。本专利技术的至少一实施例提供一种液晶面板的制造方法，包括形成电极层于基板上；形成牺牲层于电极层上；形成绝缘材料层以包覆牺牲层；图案化绝缘材料层，以形成具有至少一开口的绝缘层，其中开口位于牺牲层上；移除牺牲层，以于绝缘层中形成空腔，空腔位于电极层上，且至少一开口的宽度小于空腔的宽度；填入自发性配向液晶于空腔中；对自发性配向液晶进行配向，以形成位于空腔中的第一配向层、液晶层以及第二配向层，其中第一配向层位于电极层上，第二配向层位于空腔的顶部，且液晶层位于第一配向层以及第二配向层之间。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。附图说明图1A至图1K是依照本专利技术的一实施例的一种液晶面板的制造方法的剖面示意图。图2A是依照本专利技术的一实施例的一种液晶面板的上视示意图。图2B是沿着图2A的剖面示意图。图3是依照本专利技术的一实施例的一种液晶面板的上视示意图。图4是依照本专利技术的一实施例的一种液晶面板的剖面示意图。图5A至图5D是依照本专利技术的一实施例的一种液晶面板的制造方法的剖面示意图。图6是依照本专利技术的一实施例的一种液晶面板的剖面示意图。图7是依照本专利技术的一实施例的一种液晶面板的剖面示意图。其中，附图标记：10、10a、10b、10c、10d、10e、10f：液晶面板100：基板200：电极层300：牺牲材料层300a：牺牲层400：绝缘材料层400a：绝缘层500：滤光材料层500a：彩色滤光图案600：自发性配向液晶610：分子620：液晶分子630：第一配向层640：液晶层650：第二配向层700：覆盖层B：蓝色滤光图案BK：背面C：空腔G：绿色滤光图案H1、H2：高度M1：第一屏蔽M2：第二屏蔽O：开口P：子像素PL、L1、L2、L3：长度PR：光阻PW、W1、W2、W3：宽度R：红色滤光图案T0、T1、T2：厚度具体实施方式图1A至图1K是依照本专利技术的一实施例的一种液晶面板的制造方法的剖面示意图。请先参考图1A，形成电极层200于基板100上。基板100的材质可为玻璃、石英、有机聚合物或是其它可适用的材料。基板100的厚度例如为数百微米至数毫米，举例来说，基板100的厚度为0.5毫米，但本专利技术不以此为限。电极层200为透明导电氧化物，举例来说，电极层200为铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧化物、铟镓锌氧化物或是上述至少二者的堆叠层，但本专利技术不以此为限。在一些实施例中，电极层200与基板100之间还包括其他元件层，因此，可以利用边缘电场切换(FringeFieldSwitching,FFS)技术或横向电场切换(In-planeSwitching,IPS)技术来控制电极层200上的电场。请参考图1B与图1C，形成牺牲层300a于电极层200上。在本实施例中，形成牺牲层300a的方法包括先形成牺牲材料层300于电极层200上，接着以图案化的光阻PR为遮罩蚀刻牺牲材料层300，以形成牺牲层300a。在一些实施例中，牺牲层300a的厚度T0为2微米至3微米，借由调整牺牲层300a的厚度T0以控制后续形成的液晶层的厚度。在一些实施例中，牺牲层300a的材料包括氧化硅或其他类似的材料。在形成牺牲层300a之后，移除光阻PR。牺牲层300a例如为岛状结构。请参考图1D，形成绝缘材料层400以包覆牺牲层300a。在一些实施例中，绝缘材料层400包括光阻或其他有机材料。请参考图1E，以第一屏蔽M1为遮罩，图案化绝缘材料层400，以形成具有至少一开口O的绝缘层400a。开口O位于牺牲层300a上，且开口O暴露牺牲层300的上表面。在本实施例中，绝缘层400a包括固化后的光阻，且绝缘层400a为透明材料，举例来说，绝缘层400a的穿透度为90％～95％，但本专利技术不以此为限。在一些实施例中，加热绝缘层400a以使绝缘层400a更坚固。在一些实施例中，开口O的高度H1为2微米至3微米。请参考图1F与图1G，形成彩色滤光图案500a于绝缘层400a上。在本实施例中，形成滤光材料层500于绝缘层400a上，部分滤光材料层500填入绝缘层400a的开口O，并与牺牲层300a接触。以第二屏蔽M2为遮罩，定义出彩色滤光图案500a。彩色滤光图案500a位于绝缘层400a上，且彩色滤光图案500a未重叠于开口O。换句话说，图案化滤光材料层500以形成暴露出开口O的彩色滤光图案500a。彩色滤光图案500a的厚度T2例如为1微米至1.5微米。在一些实施例中，加热彩色滤光图案500a以使彩色滤光图案500a更坚固。请参考图1H，移除牺牲层300a，以于绝缘层400a中形成空腔C，其中空腔C位于电极层200上。在本实施例中，移除牺牲层300a的方式为等向性蚀刻技术，举例来说，以缓冲氧化物蚀刻(bufferedoxideetch,BOE)液或氢氟酸(HydrogenFluoride,HF)或其他湿式蚀刻移除牺牲层300a。在本实施例中，开口O的宽度W1小于空腔C的宽度W2。在本实施例中，开口O随着靠近基板100而有渐减的宽度，空腔C随着靠近基板100而有渐增的宽度，但本专利技术不以此为限。在一些实施例中，空腔C的高度H2为2微米至3微米。请参考图1I，填入自发性配向液晶600于空腔C中。举例来说，借由液晶注入(liquidcrystalinjection)工艺(例如滴本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液晶面板，其特征在于，包括：/n一基板；/n一电极层，位于该基板上；/n一绝缘层，位于该电极层上，该绝缘层中具有一空腔以及连接该空腔的顶部的至少一开口，其中该电极层位于该空腔的底下，且该至少一开口的宽度小于该空腔的宽度；/n一第一配向层，位于该空腔中，且位于该电极层上；/n一第二配向层，位于该空腔的顶部；以及/n一液晶层，位于该空腔中，且位于该第一配向层以及该第二配向层之间。/n

【技术特征摘要】
20190906 TW 1081322281.一种液晶面板，其特征在于，包括：
一基板；
一电极层，位于该基板上；
一绝缘层，位于该电极层上，该绝缘层中具有一空腔以及连接该空腔的顶部的至少一开口，其中该电极层位于该空腔的底下，且该至少一开口的宽度小于该空腔的宽度；
一第一配向层，位于该空腔中，且位于该电极层上；
一第二配向层，位于该空腔的顶部；以及
一液晶层，位于该空腔中，且位于该第一配向层以及该第二配向层之间。


2.如权利要求1所述的液晶面板，其中该开口随着靠近该基板而有渐减的宽度，且该空腔随着靠近该基板而有渐增的宽度。


3.如权利要求1所述的液晶面板，更包括：
一覆盖层，位于该绝缘层上，且部分该覆盖层填入该开口中。


4.如权利要求3所述的液晶面板，其中该第二配向层接触该绝缘层以及该覆盖层。


5.如权利要求3所述的液晶面板，更包括：
一彩色滤光图案，位于该覆盖层上，且该彩色滤光图案重叠于该至少一开口。


6.如权利要求1所述的液晶面板，其中该空腔连接对应的多个该开口。


7.如权利要求1所述的液晶面板，更包括：
一彩色滤光图案，位于该绝缘层上，且该彩色滤光图案未重叠于该至少一开口。


8.如权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏贤鸿，李锡烈，徐彦皇，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71