【技术实现步骤摘要】
一种适用于曲面成像的焦平面探测器
本专利属于红外探测器芯片制备相关
,具体是指一种适用于曲面成像的探测器及其制备方法。
技术介绍
红外成像探测是光电系统的核心部分,它可以实现昼夜观测,被动成像,抗阳光干扰、抗大气和战场烟雾等环境散射的能力显著优于可见光系统。大视场高分辨探测是红外成像技术发展的关键性问题。现代大视场、高分辨率红外成像探测需要采用复杂的光学系统用以减小像差,提高光学分辨率,由此带来了高分辨系统体积重量庞大等问题,在星载、弹载及主动攻击武器应用上带来了应用限制。产生此问题的主要原因在于,在光电成像系统中探测器位于光学系统像元近焦面处,由于探测器是平面结构(通常称为焦平面),需要通过复杂的光学系统对焦面进行补偿修正,保证成像的无畸变。对于大视场、高分辨系统,畸变校正的难度和系统复杂度显著增加,多透镜的采用在像差校正的同时也显著增加了光学损失。同时,这种传统解决方式随着探测器越来越追求SWaP3(尺寸、重量、功耗、性能、成本)的情况下而越发显得捉襟见肘。在发展大视场成像技术上,将光学透镜等功能集成在类视 ...
【技术保护点】
1.一种适用于曲面成像的焦平面探测器,包括支撑衬底(1)和赋形焦平面阵列(2),其特征在于:/n所述的支撑衬底(1)的材料是氮化硅,其厚度不超过0.5mm,曲面形状与赋形焦平面保持一致;所述的赋形焦平面阵列(2),采用DW-3低温环氧胶粘接在所述支撑衬底(1)的表面,其厚度不超过0.1mm,曲率半径是20—200mm,F数的范围0.9—5。/n
【技术特征摘要】
1.一种适用于曲面成像的焦平面探测器,包括支撑衬底(1)和赋形焦平面阵列(2),其特征在于:
所述的支撑衬底(1)的材料是氮化硅,其厚度不超过0.5mm,曲面形状与赋...
【专利技术属性】
技术研发人员:叶振华,张伟婷,陈星,刘丰硕,孙常鸿,
申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所,
类型:新型
国别省市:上海;31
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